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Fターム[3K107GG12]の内容

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【課題】 フォトリソグラフィを用いて有機化合物層をパターニングする有機EL装置の製造方法において、パターニングに用いる剥離層の残渣が有機化合物層の表面に残り、安定した特性の有機EL装置を得ることができない。
【解決手段】 第1有機化合物層の上にマスク層および剥離層を所定のパターンに形成し、マスク層および剥離層を用いて第1有機化合物層をパターニングした後に第2有機化合物層を形成し、剥離層を溶解させる剥離液に接触させて剥離層の上に形成された第2有機化合物層を剥離層と共に除去する工程を有する有機EL装置の製造方法において、各有機化合物層のパターニングが完了するまで、第1有機化合物層および第2有機化合物層を犠牲層で覆って保護する。 (もっと読む)


【課題】蒸着法にて有機EL層を形成する際に点灯不良を回避することができる有機EL表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板1と、基板1上に配置された第一電極2と、第一電極2上に形成される有機EL層5と、有機EL層5上に形成される第二電極6と、からなる有機EL素子を複数有し、有機EL層5を構成する層のうち少なくとも第一層が蒸着法によって形成される有機EL表示装置の製造方法において、有機EL層5の形成工程に先立って下記(1)及び(2)の工程を行うことを特徴とする、有機EL表示装置の製造方法。
(1)導体でない間隙充填材料からなる層4を第一電極2上に成膜する工程
(2)間隙充填材料からなる層4をエッチングして第一電極2を露出させる工程 (もっと読む)


【課題】電極間におけるリーク・ショートの発生を防ぎつつ構成材料として使用可能な材料の範囲が広範である有機EL表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成されている第一画素電極及び第二画素電極上に、電荷注入輸送性材料からなる電荷注入輸送層を付き周りの良い形成方法を用いて形成する工程と、電荷注入輸送層上に第一有機EL層を形成する工程と、第一有機EL層を加工して、少なくとも第二画素電極上に設けられている第一有機EL層を除去する工程と、第二画素電極上に設けられている電荷注入輸送層の少なくとも一部を除去する工程と、第二画素電極上に、第二有機EL層25を形成する工程と、第一画素2aと第二画素2bとに共通する対向電極26を形成する工程と、を少なくとも含むことを特徴とする、有機EL表示装置1の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ラインバンク方式のような画素規定層を設けることなく、有機発光層の膜厚を均一化することができる表示パネルの製造方法等を提供する。
【解決手段】平坦化膜103上に2次元配置された複数の画素領域に、有機発光材料を含むインクを滴下して有機層を形成してなる表示パネルの製造方法は、平坦化膜103の上方に、画素領域と画素領域との間を第1の方向に延伸する第1隔壁111と、画素領域と画素領域との間を第1の方向と交差する第2の方向に延伸し且つ第1隔壁111の上端部よりも低い位置で第1の方向へのインクの流動を許容する流路を構成する第2隔壁121とを形成する隔壁形成工程と、滴下されたインクの上面が流路よりも高くなるように、第2の方向に隣り合う一組の第1隔壁111の間にインクを第1の方向に沿って間欠的に滴下する滴下工程とを具備する。 (もっと読む)


【課題】高効率、長寿命かつ高精細の有機EL表示装置を低コストで製造できる有機EL表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも低分子有機EL材料を含む有機化合物層12、13a、19、14を形成する工程と、有機化合物層の上に中間層21、22を形成する工程と、中間層上にレジスト層23を形成する工程と、レジスト層23にパターン状の遮光部を有するフォトマスクを介して紫外光を照射し、紫外光が照射された領域のレジスト層を部分的に除去する工程と、レジスト層が除去された領域の有機化合物層を除去する工程と、を有しており、レジスト層23はポジ型レジストで構成される層であり、中間層は、有機化合物層を溶解しない溶媒に対して選択的に溶解可能な、鎖状構造を有する高分子有機材料からなる層21を含む。 (もっと読む)


【課題】表示不良が抑制され、かつ高精細の有機EL装置の作製を可能にするための有機EL装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上に有機物化合物層を形成する工程と、前記有機化合物層の上に中間層とレジスト層とを順次形成する工程と、フォトリソグラフィ法を用いて前記レジスト層の一部を除去する工程と、前記レジスト層が除去された領域の前記中間層及び前記有機化合物層をドライエッチングにて選択的に除去する工程と、を有しており、前記中間層が、少なくとも遮光層を含み、前記遮光層が、波長190nm以上360nm以下の光を遮光することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 有機EL層をフォトリソグラフィにより一色ずつパターニングして配列する方法では、三色目の有機EL層の下部電極表面は、先に形成される二色の有機EL層を除去するエッチング工程で、二度、エッチングガスに曝露され、電極表面の清浄度及び平滑度が低下し発光効率が低下する。
【解決手段】 基板に、複数の下部電極と、それぞれが異なる下部電極の上にあり異なる色で発光する第一、第二および第三有機層と、第一、第二または第三有機層を挟んで下部電極に対向する上部電極と、が設けられた発光装置の製造方法において、
はじめに複数の下部電極上に第一有機層を形成し、一部の下部電極上の第一有機層をエッチングにより除去して下部電極を露出させた後、露出させた下部電極上に新たな有機層を形成する工程を第二、第三有機層について繰り返す。 (もっと読む)


【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】平板に薄膜パターンよりも形状寸法の大きい開口部を形成した保持部材を基板上に予め定められた薄膜パターン形成領域が開口部内に位置するように位置合わせした状態で、該保持部材と基板との間に可視光を透過する樹脂製のフィルムを挟持し、基板上の薄膜パターン形成領域に対応したフィルム部分にレーザ光を照射し、当該部分のフィルムに薄膜パターンと形状寸法の同じ開口パターンを設けてマスクを形成し、基板上の薄膜パターン形成領域にマスクの開口パターンを介して成膜した後、マスクを剥離して基板上に一定形状の薄膜パターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】分割露光を行う場合に、隔壁における露光マスクの繋ぎ合わせ部分のズレを目立たなくする表示パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】基板320上に隔壁層311を形成する第1工程と、青色用開口部310Rに対応するマスクパターンを有する第1露光マスク10を用いて隔壁層311を露光する第2工程と、赤色用開口部310G及び緑色用開口部310Gに対応するマスクパターンを有する第2露光マスク20を用いて隔壁層311を露光する第3工程と、隔壁層311を除去することにより、隔壁層311に、赤色用開口部310R、緑色用開口部310G及び青色用開口部310Bを形成して、隔壁310を形成する第4工程と、各開口部に発光層341を形成する第5工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】より色収差が少なく、光出力の向上が可能な発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】陽極層1と陰極層2との間に少なくとも有機発光層3が設けられた有機EL素子10と、有機EL素子10の光出射面側に設けられた透光性である支持体とを備え、支持体は、第一の基板と、第一の基板の光出射面側に形成され第一の基板とは別の材料よりなる第二の基板とを備えた発光素子20の製造方法であって、支持体に転写層を形成する転写層形成工程と、転写層形成工程後、転写層に凹凸パターンを形成したモールドを押圧保持した後、分離することにより、モールドの凹凸パターンを転写層に転写する転写工程とを有する凹凸のパターン加工を予め支持体の両面に行い、両面に予め凹凸を形成した支持体を用いて、有機EL素子10を形成する。 (もっと読む)


【課題】本明細書では、水分による性能低下の抑制された発光装置を提供する。
【解決手段】各々の発光素子の周囲を多孔質構造の隔壁で囲む構造とした。多孔質構造の隔壁は水分を物理吸着するため、発光装置は、発光素子に極めて近い箇所に吸湿膜として機能する隔壁が存在し、当該吸湿膜により発光装置内部に残留した水分や水蒸気、また、発光装置外部から侵入する水分や水蒸気を効率良く吸着することができるため、水分や水蒸気に起因した発光装置の性能低下を効果的に抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】薄膜トランジスタアレイ基板、有機発光表示装置、及び薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】基板10上に配置され、活性層212、ゲート電極214、ソース電極218a、ドレイン電極218b、活性層とゲート電極との間に配置された第1絶縁層13、及びゲート電極とソース電極及びドレイン電極との間に配置された第2絶縁層15を含む薄膜トランジスタと、第1絶縁層及び第2絶縁層上に配置され、ソース電極及びドレイン電極のうち一つと連結される画素電極117と、ゲート電極と同一層で形成された下部電極314及び画素電極と同一材料を含む上部電極317を含むキャパシタと、第2絶縁層と画素電極との間及び下部電極と上部電極との間に直接配置された第3絶縁層116と、ソース電極、ドレイン電極及び上部電極を覆って画素電極を露出させる第4絶縁層19と、を含む薄膜トランジスタアレイ基板。 (もっと読む)


【課題】高い色再現性を実現することが可能な有機EL装置を提供する。
【解決手段】基板11と、基板11上に形成されたカラーフィルター層20と、基板11とカラーフィルター層20の間に形成された第1電極13と、第1電極13と対向して形成された第2電極14と、第1電極13と第2電極14の間に形成された有機発光層15と、を有し、カラーフィルター層20は、基板11に垂直な方向から見たときに第1電極13と重なる領域に形成された、第1の色を透過する第1のサブフィルター層21と第2のサブフィルター層22とを有し、第1のサブフィルター層21と第2のサブフィルター層22とは同じ材料からなり、第1のサブフィルター層21と第2のサブフィルター層22とは積層されている。 (もっと読む)


【課題】薄膜トランジスタ、これを備えた表示装置、およびその製造方法に関する。
【解決手段】本発明に係る薄膜トランジスタは、基板上に形成され、金属触媒の作用による結晶の成長によって結晶化したアクティブ層と、アクティブ層の一部領域上に形成されたゲート絶縁膜パターンと、ゲート絶縁膜パターンの一部領域上に形成されたゲート電極と、ゲート絶縁膜パターン上にゲート絶縁膜パターンと同じパターンで形成され、ゲート電極を覆うエッチング防止膜パターンと、アクティブ層およびエッチング防止膜パターン上に形成されたソース電極およびドレイン電極と、アクティブ層およびエッチング防止膜パターンとソース電極およびドレイン電極の間にソース電極およびドレイン電極と同じパターンで形成され、アクティブ層の結晶化に用いられた金属触媒を除去するゲッタリング層パターンとを含む。 (もっと読む)


【課題】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる金属膜の上に、インジウムを含む金属酸化物からなる透明導電膜が積層された構造の導電膜パターンを良好に形成する方法を提供する。
【解決手段】
平坦化膜2の上に、金属材料(AlまたはAl合金)を薄膜成形し、その表面上にIZOからなる透明導電膜を製膜する。金属膜30,透明導電膜40の積層体を200℃〜230℃で焼成する。この焼成工程で、金属膜30を構成する金属材料の結晶が締まり、膜密度が向上するので膜の耐久性も向上する。透明導電膜40の上にタングステンを反応性スパッタ法で成膜することによって、酸化タングステン膜を形成する。製膜した金属膜30と透明導電膜40と酸化タングステン膜50の積層体を、3層一括してウェットエッチングすることによって、マトリクス状にパターニングする。パターニング後に、200℃〜230℃で15分以上焼成する。 (もっと読む)


【課題】電極の構成およびその製造方法が従来よりも、低コストで導電性能が低下せず、多数の製造工程を必要としない電極形成基板およびその製造方法および同電極形成基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板2と、ガラス基板2上全体に成膜されたITO3膜と、電極形状に形成された金属めっき膜5と、を有する電極形成基板1であって、ITO膜3上には、パターニングされたストライクめっき膜4を備え、ストライクめっき膜4を介して、ITO膜3と金属めっき膜5とは、密着し、ストライクめっき膜4上にのみ金属めっき膜5を形成し、金属めっき膜5は、電解めっきを用いて形成されている。 (もっと読む)


【課題】フォトリソグラフィーによるパターニング手法を利用しつつ、メタルマスク等を用いて真空一貫で形成した有機EL素子と同等の素子特性を有する有機EL素子を備える有機EL表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】第一電極上に前記有機化合物層を形成する有機化合物層の形成工程と、有機化合物層上に剥離層を形成する剥離層の形成工程と、剥離層と有機化合物層とを、それぞれ所定のパターン形状に加工する加工工程と、剥離層を極性溶媒にて除去する剥離層の除去工程と、を有し、有機化合物層の形成工程が、有機化合物層の最上層として縮合多環炭化水素化合物(m−ターフェニル基を有する化合物を除く。)を含む層を形成する工程であり、剥離層の形成工程が、極性溶媒に可溶な化合物からなる層を、蒸着法により、前記剥離層の少なくとも最下層に形成する工程であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】補助配線の構成によらず、低消費電力を確保すると共に表示品質を向上させることが可能な発光表示装置を提供する。
【解決手段】第2電極20と補助配線18Bとの間を、導電性のコンタクト部15Bを介して電気的に接続させる。また、補助配線18Bの一部のみを、コンタクト部15Bと接続するようにする。補助配線18Bの表面が酸化しても、接続抵抗の増大が回避される。また、コンタクト部15Bを形成する際に、レイアウト上の制限を受けることもない。 (もっと読む)


【課題】画素塗り分け用マスクを用いずに補助配線層と第2電極との良好な電気的接続を確保することが可能な有機発光素子およびその製造方法ならびに表示装置を提供する。
【解決手段】有機発光素子は、例えば、基板上に、補助配線層、陽極としての第1電極、画素間絶縁膜15、発光層を含む有機層16、および陰極としての第2電極20をこの順に形成してなる。有機層16の補助配線層11bに対応する領域には、開口部16aが設けられると共に、補助配線層11b上には、複数の凸部14aを有する接続部14が形成されている。有機層16の開口部16aにおいて、接続部14により補助配線層11bと第2電極20とが電気的に接続される。 (もっと読む)


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