【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】平板に薄膜パターンよりも形状寸法の大きい開口部を形成した保持部材を基板上に予め定められた薄膜パターン形成領域が開口部内に位置するように位置合わせした状態で、該保持部材と基板との間に可視光を透過する樹脂製のフィルムを挟持し、基板上の薄膜パターン形成領域に対応したフィルム部分にレーザ光を照射し、当該部分のフィルムに薄膜パターンと形状寸法の同じ開口パターンを設けてマスクを形成し、基板上の薄膜パターン形成領域にマスクの開口パターンを介して成膜した後、マスクを剥離して基板上に一定形状の薄膜パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】接着層により発光領域を封止する構成であっても、電極が歪みにくい発光素子を提供すること。
【解決手段】
基板２に、第１電極３、発光層１１１、及び第２電極４が順に積層されることにより形成される発光可能な発光領域ＥＬＦを備える発光素子１であって、発光領域ＥＬＦに対して基板２と反対側に配置され、発光領域ＥＬＦを封止するための封止体１２４と、発光領域ＥＬＦと封止体１２４との間に積層される粘性層１２２と、光硬化性又は熱硬化性の接着剤からなり、発光領域ＥＬＦの積層方向に沿って延びる発光領域ＥＬＦの側面を覆い、発光領域ＥＬＦと封止体１２４とを接着する接着層１２３と、を備え、粘性層１２２は、接着層１２３の硬化後の粘性よりも大きな粘性を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】接続抵抗を低減することの可能な回路基板およびその製造方法、ならびに、上記の回路基板を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】回路基板は、素子と、接続端子と、これらを電気的に接続するコンタクト構造とを備えている。ここで、コンタクト構造は、接続端子側に設けられたＡｌ系金属層と、Ａｌ系金属層上に設けられた有機導電層と、有機導電層上に設けられるとともに素子と接する導電層とを有している。 （もっと読む）

【課題】 対象物に光を照射して応答を検出する際の検出感度の向上及びノイズの低減をはかる。
【解決手段】 不透明な配線層１０７，１０８を有する基板１００上に、複数の発光素子２００と複数の受光素子３００を基板面内方向に離間して形成した光電変換装置であって、発光素子２００及び受光素子３００は基板１００上に形成したバンク２０２，３０２の開口部にそれぞれ形成されている。発光層の半導体材料２０３〜２０５と受光層の半導体材料３０３，３０５とは異なり、発光素子２００及び受光素子３００の上部電極層２０７，３０７とは共通である。さらに、配線層１０７，１０８は、バンク２０２，３０２の開口部で規定される各領域の外側の領域に形成されている。 （もっと読む）

【課題】膜厚均一性の高い高分子有機ＥＬパネルを安価に生産できる印刷装置を提供する。
【解決手段】支持基台上に、凸版と、凸版を設置する回転式の版シリンダと、凸版にインキを供給するインキ供給部と、被印刷基板を載置して前記凸版上のインキを被印刷基板に転写する凸版印刷部とを具備する凸版印刷装置であって、
予備転写の際に前記印刷基板に代えて凸版上のインキを転写する予備転写部を備えており、かつ、この予備転写部の被転写表面の材質が前記披印刷基板表面と同一の材質であることを特徴とする凸版印刷装置。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で画素内の平坦性を向上させ、局所的な材料への負荷を減らすことで、高輝度化、低電圧化、長寿命化を図ることができる有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板上に、第一電極と、前記第一電極を区画する隔壁と、前記第一電極上に形成される少なくとも発光層を含む発光媒体層と、前記発光媒体層上の第二電極と、からなる有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記発光媒体層を形成する工程は、ウェットコーティング法により塗膜を形成する工程と、前記塗膜に透光性基板上の第一電極を有する面と逆の面側から光エネルギーを印加して塗膜の一部を選択的に硬化する工程と、前記塗膜の未硬化部分を除去する工程と、を含むこと。 （もっと読む）

【課題】従来の描画装置では、コストを軽減することが困難である。
【解決手段】ワークに向けて液状体を吐出する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドに対する前記ワークの相対位置を変位させる変位装置と、前記相対位置の変位方向に沿って並ぶ複数の目盛り７５が設けられたリニアスケール７１と、前記相対位置の変位にともなって目盛り７５を検出し、目盛り７５を検出するごとに検出信号を出力するエンコーダー７３と、リニアスケール７１の一端７８ａ側を支持するビス８２と、リニアスケール７１の他端７８ｂ側からリニアスケール７１に張力を付与する引張りばね８３と、リニアスケール７１から独立した状態で、ビス８２から距離Ｄを隔てた位置に設けられ、他端７８ｂ側において、複数の目盛り７５のうちの一部の目盛り７５をエンコーダー７３から隠す隠し部材９１と、を有する、ことを特徴とする描画装置。 （もっと読む）

【課題】金属細線および透明基板上での塗布液のはじきを抑制する。
【解決手段】透明電極の製造方法は、透明基板１００上に金属細線１０４を形成する工程と、透明基板１００および金属細線１０４上に透明導電層１０５を形成する工程と、を備える。透明導電層１０５を形成する工程では、所定の塗布液を、インクジェット印刷により透明基板１００および金属細線１０４上に塗布し、前記塗布液として、少なくとも導電性ポリマーと、水溶性バインダーと、炭素数が３〜６であるジオールと、プロピレングリコールエーテルとが含有された混合液を使用する。 （もっと読む）

【課題】発光不良や発光ムラのない有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、当該基板上に形成された対向する一対の電極と、該電極間に設けられ少なくとも有機発光層を含む発光媒体層と、を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、発光媒体層の１層以上が印刷法を用いて形成されており、前記印刷法が、被印刷基板を搬送する移動定盤が印刷版の面方向に進行し、印刷版と被印刷基板との接触面でインキを転移することで印刷を行う印刷方式であり、前記接触面よりも移動定盤の進行方向側に位置し、基板上の印刷された領域が搬送される空間である印刷後基板空間と、前記接触面より移動定盤の進行方向逆側に位置し、基板上の印刷前の領域が搬送される空間である印刷前基板空間の少なくともどちらか一方の雰囲気を、印刷機設置空間とは独立に雰囲気制御して、印刷を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フレキシブルディスプレイの製造方法において、流品中は膜剥がれを防ぎ、最終的には支持基板とポリイミドフィルムを表示領域の素子変動を抑制可能な剥離による表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
表示装置の製造方法は、支持基板の上にフィルム材料層を形成する工程と、前記フィルム材料層を加熱してフィルム層を形成する第1の加熱工程と、前記フィルム層の中央部に設けられた第1領域を囲む第2領域を、前記第1の加熱工程より高い温度で加熱する第2の加熱工程と、前記第1領域の一部に表示層を形成し前記第２領域の少なくとも一部に周辺回路部を形成する工程と、前記フィルム層のうち表示層が形成された範囲以外の少なくとも一部を前記第２の加熱工程より高い温度で加熱する第３の加熱工程と、前記支持基板と前記フィルム層とを剥離する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】発光層への水分等の侵入を抑制できる発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】発光領域２０と、発光領域２０とＸ軸方向に隣接する配線領域３０とをそれぞれ含む複数の素子領域１０が、Ｘ軸方向とＹ軸方向とにそれぞれ配列された基板Ｗに作製される。Ｙ軸方向に延在しＸ軸方向に配列された複数のバー４２と、複数のバー４２間に形成された複数の開口部４３とを有するマスク４０が、バー４２が配線領域３０を被覆し、開口部４３から発光領域２０が露出するように、基板Ｗ上に配置される。マスク４０を介して、基板Ｗ上に無機膜８と有機膜９とが交互に成膜される。基板Ｗが、素子領域１０毎に分離される。このように製造された発光素子１は、無機膜８と有機膜９からなる保護膜Ｐを有し、保護膜Ｐによって発光層５への水分等の侵入が抑制される。 （もっと読む）

【課題】有機機能層を印刷する際に、画素の輝度ムラや、ショート、非点灯の原因となる異物を除去する手段を備えた印刷装置及びその印刷装置を使用して有機機能素子を製造する方法を提供する。
【解決手段】被印刷基板に微細パターンを印刷する印刷装置であって、印刷用凸版を備えた第一の回転式版胴２０１と、第一の回転式版胴２０１上に設けられ、被印刷基板表面２０７の異物を除去するための第一の異物除去版３０２と、印刷用凸版２０２を備えた第一の回転式版胴２０１と対向して設けられ、印刷用凸版２０２表面の異物を除去するための第二の異物除去版４０２を備えた第二の回転式版胴４０１と、印刷用凸版２０２と第一の異物除去版３０２を洗浄するための第一の洗浄チャンバー３０３と、第二の異物除去版４０２を洗浄する第二の洗浄チャンバー３０４と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】簡便な有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を提供することである。
【解決手段】基板２００上に形成された第一電極２０１と、少なくとも有機発光層を含む発光媒体層と、前記発光媒体層を挟むように前記第一電極２０１と対向して形成された第二電極２０４と取り出し端子２０２を少なくとも備える有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、前記第一電極２０１を形成した後、前記発光媒体層のうちの少なくとも１層の有機層２０３を塗布法により形成し、その後、前記取り出し端子２０２部分を開口させたマスクを前記基板２００上に被せてＵＶオゾン処理をすることによって、前記取り出し端子２０２部分の上に形成された有機層２０３を除去する。 （もっと読む）

【課題】速い塗布速度で膜の形成を行うことのできる成膜方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】本実施形態の成膜方法は、基板をステージに載置する工程と、前記ステージに対して一定の間隙を維持して配置され前記ステージに対して相対的に水平に移動可能でかつ表面に膜形成材料を含むインクが供給されるアプリケータと、前記基板との間に前記インクによるメニスカスを形成する工程と、前記メニスカスを形成した状態で前記基板と前記アプリケータとの間に電圧を印加する工程と、前記メニスカスが形成されかつ前記電圧が印加された状態で前記アプリケータを前記ステージに対して相対的に移動させて前記基板上に前記インクの膜を形成する工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】塗布液中の溶質の凝集や結晶化の発生を抑制し、有機ＥＬ素子の発光寿命を向上させる。
【解決手段】基板１上に一定の塗布液を塗布して乾燥させ有機発光層３を形成する有機ＥＬ素子ＥＬの製造方法が開示されている。当該製造方法は、有機発光層３を構成する溶質を溶媒に溶解させ、動的光散乱法による溶質の粒度分布ピークが３ｎｍ以下である塗布液を調製する工程と、基板１の温度および前記塗布液の温度を３０℃以上〜８０℃以下に保持しながら、前記塗布液を基板１上に塗布する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ノズルの移動方向の違いで塗布高さに生じる違いを吸収してガラスペーストの塗布高さの精度を確保できるペースト塗布方法およびペースト塗布装置を提供することを課題とする。
【解決手段】有機ＥＬ素子が蒸着された基板８の蒸着部Ａ１の周囲に沿ってノズル５５ａを移動させてガラスペーストを基板８の蒸着部Ａ１の周囲に塗布するペースト塗布方法であって、ノズル５５ａが移動するときのノズル高さを補正するノズル補正量を、蒸着部Ａ１の周囲に沿ってノズル５５ａが移動するときの移動方向ごとに設定する準備工程と、ノズル高さを移動方向ごとにノズル補正量で補正し、ノズル５５ａを蒸着部Ａ１の周囲に沿って移動させてガラスペーストを塗布する塗布工程と、を有することを特徴とするペースト塗布方法とする。また、当該ペースト塗布方法によってガラスペーストを基板８に塗布するペースト塗布装置１００とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスペーストの塗布高さを所定の誤差範囲に好適に維持できるペースト塗布装置およびペースト塗布方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ノズル５５ａの始点Ｐｓから始端部１０１Ｓを形成する部分ではノズル高さＮｈを基準塗布高さＳｔｄＨより低くしてノズル５５ａが移動し、ノズル５５ａの終点Ｐｅまでの終端部１０１Ｅを形成する部分では、ノズル高さＮｈを基準塗布高さＳｔｄＨより高くしてノズル５５ａが移動し、始端部１０１Ｓが形成される部分および終端部１０１Ｅが形成される部分以外の部分ではノズル高さＮｈを基準塗布高さＳｔｄＨとしてノズル５５ａが移動し、さらに、始端部１０１Ｓと終端部１０１Ｅの少なくとも一部でガラスペーストＧｐが重なって塗布されるようにノズル５５ａが移動することを特徴とするペースト塗布装置およびペースト塗布方法とする。 （もっと読む）

【課題】良好な発光特性を示す有機発光材料、それらを用いた発光デバイスの提供。
【解決手段】下式ＩまたはIIで表されるジチエノベンゾジチオフェン誘導体発光材料。


〔Ｘ及びＹは、Ｘ−Ｙとして式Ｉの化合物から脱離する基を表し、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、Ｒ^３〜Ｒ^１０はそれぞれ独立に、水素、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアルキルチオ基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。〕
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【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置において、電気特性の安定した半導体装置を提供する。とくに、酸化物半導体を用いた半導体装置において、より優れたゲート絶縁膜を有する半導体装置を提供する。また、当該半導体装置の作製方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極上に形成されたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に形成された酸化物半導体膜と、酸化物半導体膜と接して形成されたソース電極、及びドレイン電極と、を有し、ゲート絶縁膜は、少なくとも酸化窒化シリコン膜と、酸化窒化シリコン膜上に形成された酸素放出型の酸化膜と、により構成され、酸素放出型の酸化膜上に酸化物半導体膜が接して形成される。 （もっと読む）

【課題】複数層のポリマー光学装置の形式のために不溶化有機材料層の製造方法を提供する。
【解決手段】第１のタイプの電荷輸送体を注入又は取得することができる第１電極２を含む基板１を提供し、第１電極の上に、架橋性ビニル又はエチニル基のない積層時に溶媒に溶解する第１の半導体材料を積層することによって、溶媒に少なくとも部分的に不溶な第１層４を形成し、溶媒中の溶液から第２半導体材料を積層して、第１層に接触し第２の半導体材料を含む第２層５を形成し、第２層上に、第２のタイプの電荷輸送体を注入又は取得することができる第２電極６を形成し、ここで、第１の半導体材料の積層に続いて、第１層が加熱乾燥処理、真空乾燥処理及び外気乾燥処理の１又は２以上によって、少なくとも部分的に不溶性に変えられる光学装置の形成方法。 （もっと読む）