【課題】溶剤の揮発による画素形状の変形を抑えることができる塗布装置、その塗布装置を用いた塗布方法及びその塗布装置を用いた有機機能性素子の製造方法を提供する。
【解決手段】塗布装置は、透光性基板１８を設置する可動ステージ１９と、透光性基板１８上にインク１１を吐出するノズルヘッド１３と、可動ステージ１９とノズルヘッド１３とを透光性基板１８の面方向に相対的に移動可能とする移動機構とを含み、さらに吐出されたインク１１に含まれる溶剤の蒸気を排気する排気部２３を有し、排気部２３はノズルヘッド１３に隣接配置されていることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】真空下、可撓性支持体にロール方式で多層薄膜形成を行う生産工程において支持体や成膜面にキズの発生しないガイドロール機構を組み込んだ真空成膜装置、及びこれを用い発光寿命の改善された生産性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することにある。
【解決手段】可撓性支持体（ウェブ）を支持し、真空中でウェブの搬送方向を３０度以上、２４０度以下、変更するためのガイドロール機構であって、搬送中、前記可撓性支持体は、ガイドロールの両端部においてのみガイドロールに接触し、かつ、少なくとも接触部分の一部において、可撓性支持体をガイドロール上に押さえる機構を設けたことを特徴とするガイドロール機構。 （もっと読む）

【課題】歩留まりや信頼性の低下を防止すると共に構成部材である有機ＥＬ素子の性能を向上させるための有機ＥＬ装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】下部電極２１と、上部電極と、前記下部電極２１と前記上部電極との間に配置される有機化合物層と、からなる有機ＥＬ素子を有する画素を複数備える有機ＥＬ装置の製造方法において、前記下部電極２１が設けられた基板上に保護層を形成する工程と、少なくとも一部の画素に対応する領域に開口部３１を有するマスク３０を前記保護層に密着させた状態で、前記開口部３１に対応する領域に設けられている保護層を選択的に除去する工程と、前記保護層が除去された領域において、前記下部電極２１上に有機化合物層を形成する工程と、を有することを特徴とする、有機ＥＬ装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】蒸着源アセンブリ、有機層蒸着装置及びそれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】製造が容易で、大型基板量産工程に容易に適用され、製造収率及び蒸着効率の向上した有機層蒸着装置及びそれを利用した有機発光表示装置の製造方法に係り、蒸着物質を放射する第１蒸着源１１０ａ、及び第１蒸着源上にスタックされた形態に配列され、第１蒸着源と異なる蒸着物質を放射する第２蒸着源１１０ｂと、被蒸着体に向かう第２蒸着源の一側に配置され、第２蒸着源から形成された複数個の第２蒸着源ノズル１２１ｂを含む第２蒸着源ノズル部と、第２蒸着源の一側に配置され、第１蒸着源から第２蒸着源を貫通して形成された第１蒸着源ノズルを含む第１蒸着源ノズル部１２１ａと、を含む。 （もっと読む）

【課題】発光装置の作製方法を提供する。
【解決手段】画素を有する発光装置の作製方法であって、画素は第１のバンクと第２のバンクにより区切られ、塗布部が、ノズルとロッドにより構成され、第１のバンクと前記第２のバンクの間に、塗布部によりストライプ状の塗布液が塗布され、塗布液は、ノズルからロッドを伝って画素電極表面に塗布され、ロッドの先端部は球状とされている発光装置の作製方法。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の陽極の仕事関数を効果的に増大できる表面処理方法を提案する。
【解決手段】有機ＥＬ素子の陽極の表面に赤外線を照射し、その後、陽極の表面を酸素プラズマに曝す。陽極の表面には、有機溶剤等の残留炭素成分や大気中の水分等の異物が散在している。赤外線はこのような異物に吸収されやすい一方で、陽極のような金属材質には吸収され難い性質を有しているため、赤外線を利用して異物のみを選択的に加熱し、除去することができる。赤外線照射による加熱作用により、陽極の表面から異物を十分に除去した後に、陽極の表面を酸素プラズマに曝して表面処理を施すと、陽極の仕事関数を増大できる。 （もっと読む）

【課題】構成する有機分子の配向が制御され、キャリア移動度が高いキャリア輸送性有機非晶質薄膜の製造方法の提供。
【解決手段】キャリア輸送性のπ電子共役有機分子を基材上に蒸着させて、キャリア輸送性有機非晶質薄膜を製造する方法であって、前記有機分子のガラス転移点Ｔｇ［Ｋ］、前記薄膜の膜密度から算出される前記有機分子一分子あたりの体積Ｖ_ｍ［Å^３］、及び前記有機分子の蒸着速度Ｒ［Å／ｓｅｃ］を用いて下記式（Ａ）から算出される温度Ｔ_Ａ［℃］以上で、且つ１．１５Ｔｇ［Ｋ］以下である温度に、前記基材の温度を調節しながら、前記有機分子を蒸着させることを特徴とするキャリア輸送性有機非晶質薄膜の製造方法。
Ｔ_Ａ＝０．８５×Ｔｇ／（１＋０．０１８４６×ｌｎ（Ｖ_ｍ／（６００×Ｒ））−２７３ ・・・・（Ａ） （もっと読む）

【課題】所望の領域に封止部を形成することが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】表示領域を囲む封止領域および封止領域を外側から囲む段差部を有する基板と、表示領域に設けられた表示層と、封止領域に設けられた封止部とを備えた表示装置。この表示装置では、基板に段差部が設けられているので、封止部が段差部よりも外側に広がる虞がなく、所望の領域に封止部が設けられる。 （もっと読む）

【課題】クロストーク現象の発生が抑制された発光パネルを提供する。または、クロストーク現象の発生が抑制された発光パネルの作製方法を提供する。
【解決手段】一方の発光素子の第１の電極と、他方の発光素子の第１の電極と、２つの第１の電極を隔てる絶縁性の隔壁を有し、隔壁の側面と重なる部分に発光性の有機化合物を含む層の厚さＡ_０の１／２より薄い厚さＡ_１の部分を含み、第２の電極の隔壁の側面と重なる部分の厚さＢ_１と、第１の電極と重なる部分の第２の電極の厚さＢ_０から求めた比（Ｂ_１／Ｂ_０）が（Ａ_１／Ａ_０）より大きい構成とする。 （もっと読む）

【課題】タクトの悪化及び印刷材料の表面状態の変化を抑えるとともに、被印刷体に塗布された後の印刷材料の膜厚を一定に近づけることのできる技術を提供する。
【解決手段】印刷装置１０は、表面上に隔壁６０の配列が形成された基板Ｗを保持するステージ２２と、所定のパターンが形成された印刷版１７を有し、有機ＥＬ材料のインク７０が塗布された印刷版１７から基板Ｗの隔壁６０間にインク７０のパターンを転写する版胴１４と、印刷版１７にインクを供給するインク供給ローラ１２と、インク供給スリットノズル１１がインク供給ローラ１２上に吐出したインク７０を非接触で加熱する赤外線ヒータ８０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】外部の装置の外部コネクタに嵌合するコネクタ部の設計の自由度を高めることが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】フレキシブル基板と、当該フレキシブル基板に設定される回路配置領域に設けられる内部回路と、外部の装置から前記内部回路に供給される電気信号により駆動される表示体とを備える表示装置であって、前記フレキシブル基板は、回路配置領域から延在するはみ出し領域を有し、前記フレキシブル基板の前記はみ出し領域には、前記内部回路から当該はみ出し領域の端部にまで延在し、外部の装置に接続される接続用配線が形成され、はみ出し領域の端部には、前記外部の装置の２種類以上の外部コネクタに嵌合するコネクタ部がそれぞれ設けられ、前記コネクタ部は、前記外部コネクタとの嵌合に必要な厚みを補う補強板が、前記フレキシブル基板の前記はみ出し領域の端部に貼合されて構成される、表示装置に関する。 （もっと読む）

【課題】メッキ面積の増大を回避しつつ、外部電極周辺でのイオンマイグレーションを生じにくくする。
【解決手段】本願発明の有機ＥＬデバイスは、基材と、前記基材上に形成され透明導電膜からなる下部電極と、前記下部電極に電気的に接続し金属からなる補助電極と、前記下部電極の前記基材側とは反対側に形成された発光層と、前記発光層の前記下部電極側とは反対側に形成された上部電極と、前記発光層を気密に封止する保護部とを備え、前記下部電極と前記上部電極との各々は前記保護部から露出して形成された外部電極に電気的に接続しており、前記下部電極の一部は前記保護部から露出して外部電極を構成しており、前記外部電極上には表面にメッキ部を有する外部電極パッドが設けられたことを特徴とする。
本願発明の有機ＥＬデバイスは、メッキ面積の増大を回避しつつ、外部電極周辺でのイオンマイグレーションを生じにくくすることができる。 （もっと読む）

【課題】外部への光取り出し効率が高く、生産性の高い電子デバイス用基板およびこれを用いた有機ＬＥＤ素子を提供することを目的とする
【解決手段】透光性基板と、前記透光性基板上に少なくとも１つ設けられており、その高さが５μｍ以上１００μｍ未満である凸状構造物と、前記透光性基板、および、前記凸状構造物を覆う被覆層と、前記被覆層上に設けられた透光性電極層とが積層され、前記被覆層の屈折率は、前記透光性基板、および、前記凸状構造物の屈折率よりも高いことを特徴とする電子デバイス用基板、および、これを用いた有機ＬＥＤ素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】２枚の基板を貼り合わせるためのシール剤の塗布パターンを硬化処理するに際して、効率的に硬化処理を行ってシール工程全体の所要時間を短縮させることができる。
【解決手段】シール剤の塗布パターンの一方向に沿った辺上に第１硬化処理ユニット３の処理部３Ａが位置するように、第１硬化処理ユニット３を基板の一端側から他端側に向けて順次相対的に移動させ、第１硬化処理ユニット３が塗布パターンの半分位置まで移動する迄の間、塗布パターンの他方向に沿った辺上に第２硬化処理ユニット４の処理部４Ａが位置するように、第２硬化処理ユニット２を基板の一端側から他端側に向けて順次移動させ、第１硬化処理ユニット３が塗布パターンの半分位置まで移動した後は、塗布パターンの他方向に沿った辺上に第３硬化処理ユニット５の処理部５Ａが位置するように、第３硬化処理ユニット５を基板の一端側から他端側に向けて順次移動させる。 （もっと読む）

【課題】画素間の発光を抑制するとともに、それぞれの画素の劣化を抑制した有機ＥＬ表示パネルを提供する。
【解決手段】
薄膜トランジスタ素子を含む駆動部が複数配置されてなるトランジスタアレイ基板１０１２と、トランジスタアレイ基板上に形成され、複数の駆動部に対応する各領域の一部分にコンタクトホール１０３ａが形成された層間絶縁膜１０３と、層間絶縁膜上に複数の駆動部に対応して配置され、対応するコンタクトホールを介して駆動部と電気的に接続された複数の画素電極１０４と、複数の画素電極が配置された領域および配置されていない領域上の全体に亘って形成された有機ＥＬ層１０５と、有機ＥＬ層上の全体に亘って形成された共通電極１０６とを備え、有機ＥＬ層における、層間絶縁膜のコンタクトホールのそれぞれに対応する領域および隣り合う画素電極の間に対応する領域１０５ａの電気抵抗率が、有機ＥＬ層における他の領域１０５ｂより高い。 （もっと読む）

【課題】 透明ガスバリア層の積層数が少なくてもガスバリア性に優れ、かつ、高い透明性を有し、さらに、透明ガスバリア層の内部応力が非常に低い透明ガスバリアフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂基板１１０上に透明ガスバリア層１２０が形成された透明ガスバリアフィルムであって、透明ガスバリア層１２０が、金属および半金属の少なくとも１種を含み、透明ガスバリア層１２０が、放電処理がされた放電処理層１２０ｂと、放電処理がされていない非放電処理層１２０ａとを含み、非放電処理層１２０ａの密度に対する放電処理層１２０ｂの密度の比が、１．０を超え２．０以下の範囲であり、透明ガスバリア層１２０の厚みに対する放電処理層１２０ｂの厚みの比が、０．０５〜０．３の範囲であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は転写法を利用して有機デバイスを歩留まりよく製造することができる有機デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】本製造方法は、次のステップを含む；前記有機デバイス１の一部を構成する中間部材８を準備するステップ；離型層７を備える転写用部材９を準備するステップ；有機材料と、この有機材料が溶解すると共に前記離型層７に対して親和性を有する溶媒とを含有する塗布液を準備するステップ；及び前記塗布液を前記転写用部材９における前記離型層７上に塗布成膜することで前記離型層７上に有機層４を形成し、続いて前記有機層４を前記離型層７上から前記中間部材８上に転写するステップ。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を用いた表示装置において、リフロー工程によって良好なレンズ形状を有するレンズを形成し、発光光の利用効率を高める。
【解決手段】有機ＥＬ素子上に開口部を有する撥液性部材８を形成し、リソグラフィ技術によって該撥液性部材８の開口部にレンズ材料を付与した後、加熱してリフローによりレンズ９を形成する。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタアレイ基板、有機発光表示装置、及び薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に配置され、活性層２１２、ゲート電極２１４、ソース電極２１８ａ、ドレイン電極２１８ｂ、活性層とゲート電極との間に配置された第１絶縁層１３、及びゲート電極とソース電極及びドレイン電極との間に配置された第２絶縁層１５を含む薄膜トランジスタと、第１絶縁層及び第２絶縁層上に配置され、ソース電極及びドレイン電極のうち一つと連結される画素電極１１７と、ゲート電極と同一層で形成された下部電極３１４及び画素電極と同一材料を含む上部電極３１７を含むキャパシタと、第２絶縁層と画素電極との間及び下部電極と上部電極との間に直接配置された第３絶縁層１１６と、ソース電極、ドレイン電極及び上部電極を覆って画素電極を露出させる第４絶縁層１９と、を含む薄膜トランジスタアレイ基板。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性に優れたフィルム状基板を提供する。
【解決手段】フレキシブルフィルム１１と、フレキシブルフィルム１１の上に形成され、メチル基が少なくとも１つ付加したＳｉ原子１６と、フレキシブルフィルム１１に含まれる原子と共有結合したＯ原子１７とで構成されるシロキシ基１８を含む密着層１２と、密着層１２の上に形成され、Ｓｉ−Ｏ結合およびＳｉ−ＣＨ_３結合の少なくともいずれかを含むガスバリア層１３と、を備える。 （もっと読む）