【課題】印刷法で有機機能層（発光層、インターレイヤー層、電子輸送層等）の皮膜を基板上に形成するたびに必要となる残留溶媒の除去及びベーク処理を皮膜全体で均一に行い同質となるようにして、且つ消費エネルギーをできるだけ低減しつつ、設備の設置面積を抑えて省スペース化を可能にした、基板熱乾燥装置を提供することを課題とする。
【解決手段】少なくとも、赤外線ヒータ炉により基板を所定温度まで加熱するための第一加熱炉と、所定温度まで加熱された基板を熱風循環式多段炉にて高温で維持するための第二加熱炉と、を備えることを特徴とする基板加熱乾燥装置である。該加熱乾燥装置は、前記第二加熱炉から取り出した基板の温度を、少なくとも５０℃以下まで下げるための冷却室、及び第一加熱炉、第二加熱炉又は冷却室の全て若しくはいずれかは、不活性ガス雰囲気を気密に保持できる密閉構造を有することをができる。 （もっと読む）

【課題】転写層の所望の範囲を精度よく転写することが可能なドナー基板およびこれを用いた表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ドナー基板４０は、基体４１上に、光吸収層４２，断熱層４３，凸構造４４および汚染防止層４５を順に有している。汚染防止層４５は、凸構造４４の上面の第１部分４５Ａと、断熱層４３の上面の第２部分４５Ｂとを有しており、第１部分４５Ａと第２部分４５Ｂとが分断されている。汚染防止層４５を介した熱拡散が大幅に低減され、転写層５０の非所望の範囲が転写されてしまうおそれが小さくなり、所望の範囲が精度よく転写される。凸構造４４は逆テーパの断面形状を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置を破壊することなく所望の厚みに形成することができる電気光学装置の製造方法、電気光学装置の製造装置を提供する。
【解決手段】一対の基板を貼り合わせて有機ＥＬパネルを形成する工程（ステップＳ１３）と、有機ＥＬパネルにおけるエッチング処理を施す面の表面積及び有機ＥＬパネルの重量を求める工程（ステップＳ１４）と、一対の基板の少なくとも一方の基板にエッチング処理を施して有機ＥＬパネルの厚みを薄くする工程（ステップＳ１５）と、有機ＥＬパネルを洗浄及び乾燥させる工程（ステップＳ１６）と、エッチング処理後の有機ＥＬパネルの重量を求める工程（ステップＳ１７）と、重量の測定差からエッチング処理後の有機ＥＬパネルの厚みを求める工程（ステップＳ１８）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】表面に残渣を発生させることなく、薄型化された電気光学装置を得る。
【解決手段】基板１１表面をエッチングするエッチング手段４１と、前記表面を水洗する第１の洗浄手段４２と、前記表面を有機溶剤で洗浄する第２の洗浄手段４３と、前記有機溶剤を乾燥除去する乾燥手段４５と、を備え、基板１１のエッチング処理と水洗処理と有機溶剤による洗浄処理と乾燥処理とを連続的に実施可能であることを特徴とする電気光学装置の製造装置。 （もっと読む）

【課題】各ノズルの吐出特性を短時間で電気的に検出してヘッド動作補正を行うことによって、各ノズルの吐出特性ばらつきに起因する不良デバイスの発生を低減する。
【解決手段】デバイスを製造するインクジェット装置は、基板１０２のパターン形成領域１０３に対して、インク滴を吐出するインクジェットヘッド１０１と、パターン形成領域１０３以外の部分にダミー領域１０４を有している。ダミー領域１０４にインクジェットヘッド１０１でインク滴を吐出し、吐出されたインク滴に対し高周波回路特性評価装置１０５により、インク滴の位置および大きさ、形状を検出する。この検出結果に応じてインクジェットヘッド１０１に所定の処理（パージ処理、ワイピング処理やフラッシング処理等）を行った上でパターン形成領域１０３に対するインク滴の吐出動作を行う。 （もっと読む）

【課題】異物に起因するピンホールの発生を抑制し、欠陥のない膜を形成可能な成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】被処理基板Ｘの被処理面Ｘｓに膜材料を成膜する成膜部１０と、成膜部１０に接続され被処理面Ｘｓに付着する異物Ｆを除去する異物除去部２０と、を備え、異物除去部２０は、被処理基板Ｘを収納する処理室２１と、処理室２１内に設けられ、被処理面Ｘｓの異物Ｆを除去する噴出ノズル２２と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】不活性ガス中の低濃度の有機溶媒の濃度を継続的に検出する方法、不活性ガス中の有機溶媒の濃度を低濃度に調整する方法、不活性ガス中の有機溶媒の濃度を継続的に検出する装置、湿式法による有機デバイスの製造方法の提供。
【解決手段】ガス検出装置で不活性ガス中の有機溶媒ガスの濃度を検出する方法であって、
前記ガス検出装置に前記有機溶媒ガスを含んだ前記不活性ガス及び酸素ガス、又は酸化性ガスを供給し、前記有機溶媒ガスの濃度を検出することを特徴とする不活性ガス中の有機溶媒ガス濃度の検出方法。 （もっと読む）

【課題】発光層または電極層を含む転写層を熱的な影響を受けることなく簡単な構成で、かつ高精度にガラス基板上に転写することができる有機ＥＬパネルの製造に用いる転写装置を提供する。
【解決手段】転写装置１００は、有機ＥＬパネルを構成する陰電極層３１と有機ＥＬ層３２とから構成される転写層３０が一時的に形成された担持体２０を保持する担持体保持部１０３と、同担持体２０に対向した状態で有機ＥＬパネルを構成するガラス基板１０を保持する基板保持部１０２と、互いに対向配置された担持体２０およびガラス基板１０に向けてパルスレーザ光を照射するレーザ光源１０４とを備えている。担持体２０における転写層３０が形成される形成面２１には、複数の微細な凹凸形状からなる溝状の周期構造２２が形成されている。この周期構造２２は、担持体２０の形成面２１上にフェムト秒レーザ光を照射することによって形成される。 （もっと読む）

【課題】固体原料を加熱して蒸発させて成膜用の原料ガスを得るにあたって、熱による劣化や変質を抑えながら長時間に亘って安定した量の原料ガスを得ること。
【解決手段】固体原料を貯留する粉体貯留部と、この粉体貯留部から供給される固体原料を溶融させて液体原料を得る粉体受け入れ室と、この粉体受け入れ室から取り出した液体材料を気化させることにより原料ガスを得る気化室と、を設けて、気化室では成膜処理に必要な生成量となるように液体材料に大きな熱量を加えて原料ガスを発生させる一方、粉体受け入れ室では固体原料が溶融できる程度の小さな熱量を加えて熱劣化を抑えながら液体原料を得て、この液体原料を粉体受け入れ室から気化室に向かって通流させる。 （もっと読む）

【課題】基板やマスクの撓みを低減し、高精度に蒸着できる有機ＥＬデバイス製造装置並びに成膜装置並びに液晶表示基板製造装置を提供することである。あるいは、駆動部等を大気側に配置することで真空内の粉塵やガスの発生を低減し生産性の高い、あるいは保守性を高め稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
【解決手段】本発明は、基板を立てた姿勢に保持する基板保持手段と、シャドウマスクを垂下した姿勢に保持するシャドウマスク垂下手段と、前記基板とシャドウマスクに設けられたアライメントマークを撮像するアライメント光学手段と、前記垂下姿勢の状態で前記シャドウマスクを駆動するアライメント駆動手段と、前記アライメント光学手段の結果に基づいて前記アライメント駆動手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】成膜する際に、スプラッシュの原因となる蒸着源にて発生する粒子を速やかに取
り除くことにより、スプラッシュに起因する欠陥等の不具合が生じる虞の無い薄膜を成膜
することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを収納する真空容器２と、真空容器２内の側壁かつ基板Ｗの成膜面の
下方に配設され蒸着材料を収納する有底筒状のハース４と、このハース４に収納された蒸
着材料を加熱するプラズマガン５とを備え、このハース４はプラズマガン５と対向して配
置され、このハース４の軸線Ｌ１は、基板Ｗの成膜面の垂線Ｌ２と略直交している。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の蒸着マスクを低ダメージで効率よく洗浄し、蒸着剤を効率よく回収することで、蒸着マスクの利用回数を上げ、蒸着剤の再利用効率を上げることができる装置を実現する。
【解決手段】蒸着マスク２にパルスレーザ１０を照射して、蒸着剤を蒸着マスク２から分離する。吸引ノズル３から蒸着剤を吸引し、サイクロン６で空気と蒸着剤を分離し、サイクロン６の底部に蒸着剤を堆積させる。その後、バルブ１２を開き、蒸着剤を蒸着剤回収部７に回収する。その後、バルブ１３を開け、蒸着剤精製部８に蒸着剤を移動させて蒸着剤を精製する。バルブ１４を開け、精製された蒸着剤を蒸着剤保管部９に保管する。これにより、蒸着マスク２をダメージなく洗浄出来るとともに、蒸着剤を高い効率で回収することが出来る。 （もっと読む）

【課題】可撓性基材に設けられた有機エレクトロニクス素子をその単位ごとに（素子様に）断裁する際の基材と封止材との間に発生する層間剥離を抑制し、所望の封止性能が得られる有機エレクトロニクス素子の製造方法、製造装置、及び当該製造方法等によって製造した有機エレクトロニクス素子を提供する。
【解決手段】少なくとも可撓性の基材、対向する一対の電極とそれらの間に挟持された有機層（以下「有機機能素子」という。）、及び封止材とで構成される有機エレクトロニクス素子の製造方法であって、前記基材上に有機機能素子を形成する工程の後に、（ｉ）前記有機機能素子を覆うように前記基材上に封止材を熱硬化型接着剤で接着する封止工程と、（ii）前記封止材を接着後、当該熱硬化型接着剤が硬化する前に熱溶融断裁を行う断裁工程とを備えていることを特徴とする有機エレクトロニクス素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】特性を変化させることなく低分子型発光材料を基板上に塗布することができる低分子型発光材料の分散液並びにその製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】液相において溶媒との親和性が高い気相のコート剤を不活性ガスと共に真空雰囲気内に導入する工程と、真空雰囲気内において、低分子型発光材料を加熱し気化させて、コート剤と低分子型発光材料の混合ガスを得る工程と、混合ガスを冷却して低分子型発光材料を含む液相のコート剤を得る工程と、液相のコート剤を回収し、回収された液相のコート剤を溶媒に添加して低分子型発光材料の分散液を得る工程とを有する低分子型発光材料の分散液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 高精度な駆動回路又は薄膜トランジスタを可撓性の基板に形成する表示素子用の製造装置（１００）を提供する。
【解決手段】 表示素子の製造装置は、表示素子（５０）を可撓性の基板（ＦＢ）に形成する。この製造装置は可撓性の基板（ＦＢ）を第１方向に搬送する搬送部（４５、４６）と、第１方向と交差する第２方向に回転して可撓性の基板（ＦＢ）に表示素子（５０）用の隔壁を形成する第１の隔壁形成ローラ部（１０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 粘性の高い吸湿部材であっても薄く、かつ均一的に封止基板に塗布することが可能であり、また、塗布工程における歩留まりを向上させることが可能な吸湿部材の塗布装置及び有機ＥＬパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】 基板６に粘性を有する吸湿部材７を塗布する吸湿部材７の塗布装置１０であって、吸湿部材７を基板６に吐出可能とする吐出口１２ａを有するニードル部１２と、ニードル部１２内に気体を注入する気体注入部１２ｂと、を少なくとも備えてなる。吐出口１２ａより前記気体を吐出する。前記気体は、低露点ガスである。気体注入部１２ｂは、吸湿部材７の逆流を防止する弁部１２ｃを有してなる。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ材料をはじめとした薄膜の特性を劣化させることなく、大型化かつ高精度の微細パターニングを可能とするパターニング方法、および、かかるパターニング方法を使用するデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に光熱変換層が形成され、前記光熱変換層上に区画パターンが形成され、前記区画パターン内に転写材料が存在するドナー基板をデバイス基板と対向配置し、前記転写材料の少なくとも一部と前記区画パターンの少なくとも一部とが同時に加熱されるように光を光熱変換層に照射することで前記転写材料をデバイス基板に転写することを特徴とするドナー基板。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の製造における、プロセス圧力が大気圧から真空に及ぶ製造ラインにおいて、巻き取り回数が少ないロールトゥーロールラインを構成できる有機ＥＬ素子の製造方法を提供することにある。
【解決手段】少なくとも、可撓性フィルム上に、第一電極、一以上の有機機能層、第二電極、を順次形成する工程、および、封止フィルム貼合工程から構成される有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記各工程が、大気圧プロセス工程と、真空プロセス工程からなり、この間にプロセス圧力を大気圧から真空に、また真空から大気圧に置換するプロセス圧力置換工程を有し、該プロセス圧力置換工程が、挟持型ゲートバルブを備えたチャンバーを真空ポンプで排気することで構成される有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】蒸気乾燥法においては、枚様基板上の有機皮膜中の残存溶媒を除去するには、該基板の温度を蒸気より低く設定する必要があるが、蒸気温度を高く維持したまま基板温度との温度差を十分にとることが難しいという問題がある。
【解決手段】装置内において複数の基板を並列に離間して固定し移動させるための基板ホルダーと該基板ホルダーを搬送する手段、超音波発振装置を備え液体の溶媒を保持する洗浄槽、液体の溶媒を保持するリンス槽、前記液体の溶媒の蒸気を生じさせる手段を備えた蒸気槽、を具備する有機機能性素子蒸気乾燥装置であって、前記蒸気槽は、前記液体の溶媒の蒸気温度よりも低温の前記液体の溶媒を基板表面に間欠的に射出する基板冷却装置を備えた有機機能性素子蒸気乾燥装置。 （もっと読む）

【課題】加熱乾燥処理工程以後、低露点雰囲気中に保持することが必要となる被熱処理物の加熱乾燥処理に好適な連続雰囲気炉であって、工程数を増やすことなく乾燥処理後のプラズマ処理も可能とし、さらに、炉内のクリーン度を保つ機能も備えた連続雰囲気炉の提供。
【解決手段】搬送機構９により被熱処理物を搬送しながら加熱乾燥処理を行う連続雰囲気炉１であって、乾燥炉２の前後に前室３及び後室４を設け、後室４には、乾燥炉２での乾燥処理後に後室に搬送された被熱処理物の表面を洗浄するプラズマ洗浄装置６と、乾燥炉２での乾燥処理後に後室に搬送された被熱処理物の吸湿を防止する露点管理手段５とを備え、前室３下部には、前記露点管理手段から供給される低露点の気体を連続雰囲気炉１外に排出する排出口１０を備え、前記露点管理手段５から供給された低露点の気体を、後室４から乾燥炉２を経て前室下部の排出口１０へ導く気体流路を有する。 （もっと読む）