【課題】本発明は、基板やマスクの撓みを高精度に蒸着できる有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置並びに液晶表示基板製造装置を提供する。
【解決手段】本発明は、前記基板を立てた姿勢に保持する基板保持手段と、前記シャドウマスクを保持するアライメントベースと、前記アライメントベースを垂下した姿勢に保持するアライメントベース垂下手段と、前記アライメントベースの垂下された垂下平面での前記アライメントベース回転の動きに追随する送り手段を有するアライメントベース支持手段と、前記基板とシャドウマスクに設けられたアライメントマークを撮像するアライメント光学手段と、前記垂下姿勢の状態で前記アライメントベースを駆動するアライメント駆動手段と、前記アライメント光学手段の結果に基づいて前記アライメント駆動手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向して配され、第１方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間に第１方向に沿って配されて、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリと、基板と蒸着源との間に配される遮断部材と、を備え、薄膜蒸着装置は、基板と所定程度離隔するように形成され、基板は、薄膜蒸着装置に対して相対的に移動自在に形成され、遮断部材は、基板の少なくとも一部を遮蔽するように基板と共に移動することを特徴とする薄膜蒸着装置。 （もっと読む）

比較的短い遅延時間での堆積を可能にするために、異なる伝導率を有する多数の流路を使用しうる高−スループットＯＶＪＰシステムおよび方法が提供される。高−スループットＯＶＪＰシステムが、堆積の間にソース材料が排出されうる１つまたはそれ以上の開口の直径よりも極めて大きな断面積を有する流管を含みうる。このような構造の使用により、低減された遅延時間での堆積が可能になりうる。
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【課題】簡単な構成で蒸着材料の劣化を防止しつつ長時間の蒸着材料の蒸発、昇華が可能とする。
【解決手段】るつぼＰａ内に、蒸着材料Ｅを収容するとともに誘導加熱可能な導電性材料からなるるつぼホルダＤＫａを設けるとともに、るつぼホルダＤＫａ内の蒸着材料Ｅに複数の加熱域Ｈａ〜Ｈｄを設定し、るつぼＰａの外側に、るつぼホルダＤＫａを誘導加熱して蒸着材料Ｅを蒸発または昇華可能な分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄを設け、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄから発生する磁界を操作して加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫａの加熱部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けた。 （もっと読む）

蒸着源、処理ドラム、駆動ローラー、およびシャドウマスクを備える、連続ロールツーロール蒸気ベース蒸着プロセスにおいてパターン形成コーティングをＯＬＥＤ基材に施すための装置が形成され、シャドウマスクは、基材上へのコーティングの蒸着を選択的に妨げるマスクライン特徴体を備える。コーティングを施すための方法も提示される。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】大型基板の量産工程にさらに適し、高精細のパターニングを可能にするためのものであり、被蒸着用基板を静電チャックに固定させるローディング部；真空に維持されるチャンバと、チャンバの内部に配され、基板と所定程度離隔されて静電チャックに固定された基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリを含む蒸着部；静電チャックから、蒸着が完了した基板を分離させるアンローディング部；基板が固定された静電チャックを、ローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部；アンローディング部から、基板と分離された静電チャックを、ローディング部に送り戻す第２循環部；を含み、第１循環部は、蒸着部を通過するとき、チャンバ内部に貫通するように備わった薄膜蒸着装置、及びこれによって製造された有機発光表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、連続成膜設備において、化学量論的組成勾配を有する形で基板に成膜するための方法及び装置を提供する。
【解決手段】本発明では、それぞれ一つの蒸発器チューブを有する少なくとも二つの蒸発機器が配備され、両方の蒸発器チューブは、互いに独立して傾斜可能な形に構成されており、そうすることによって、両方の蒸気ビームの移行領域を勾配形態の要件に適合させることができる。 更に、基板に対する蒸発器チューブの間隔及び蒸発器チューブの互いの間隔を調整することができる。 （もっと読む）

【課題】被転写基板との位置合わせ精度を高めることが可能なドナー基板の製造方法およびドナー基板、並びに表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】可撓性の薄膜部材４１の表面に、印刷法により転写層４２を形成する。この薄膜部材４１を剛体の支持基板４３に接着層４４で貼り合わせる。支持基板４３の高い寸法安定性により、薄膜部材４１上の転写層４２の位置精度が良好になり、被転写基板との位置合わせ精度が向上する。転写層４２をグラビア印刷法により形成することが好ましい。接着層４４としては、耐熱温度が摂氏２５０度以上の無機材料を用いることが好ましい。薄膜部材４１としては、耐熱温度が摂氏２５０度以上であり線膨張係数が１０ｐｐｍ／℃以下の樹脂膜および金属箔のうち少なくとも一方を用いることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】成膜速度を安定的に制御することができ、均一かつ高品質の膜質を有する薄膜電極を再現性良く形成することができる薄膜電極製造装置及び薄膜電極製造方法を提供する。
【解決手段】電子ビーム真空蒸着装置１００は、真空チャンバー１１０内に、水冷ハース１１１とインサート坩堝１１２Ａと密着治具１１３Ａからなる原材料収容部が設けられている。密着治具１１３Ａは、水冷ハース１１１とインサート坩堝１１２Ａの間に介在し、水冷ハース１１１の凹部１１１ａの内面（側面及び底面）と、インサート坩堝１１２Ａの外周面（側面及び底面）との間に均一に密着する形状を有している。 （もっと読む）

【課題】 帯状可撓性基板を縦姿勢で搬送しつつも可撓性基板の下垂や皺の発生を抑制でき、高品質の製品を製造可能であると共に、可撓性基板の逆方向への搬送を含む成膜プロセスにも対応可能な薄膜積層体製造装置の基板位置制御装置を提供する。
【解決手段】 可撓性基板（１）の上側縁部を挟持する一対の挟持ローラ（１０３）と、前記一対の挟持ローラを回転可能かつ相互に接離可能に支持する支持機構（１０４）と、前記支持機構を介して前記一対の挟持ローラに加圧力を付与する付勢手段（１０５）と、前記加圧力の調整手段（１０６）と、を備えた基板位置制御装置（１００）において、前記一対の挟持ローラは、それぞれが基板幅方向縁端側に位置した大径部（１３１）と、前記大径部に対して基板幅方向中央側に位置した小径部（１３２）を有し、前記大径部および前記小径部のそれぞれの挟持部における回転方向が、前記基板の搬送方向と同方向になるように、前記支持機構によって支持されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、一定の力でマスクと基板の間に力を加えてパターン精度の高い真空成膜を可能にすることを目的としている。
【解決手段】基板１２とマスク１０を重ねて配置する。基板１２を、錘２６の重さによってマスク１０の方向に押圧して撓ませる。基板１２の撓んだ部分によって、マスク１０を押圧して撓ませる。撓んだ基板１２と撓んだマスク１０とを密着させて真空成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、前記真空を破壊し前記のノズル及び周辺のクリーニング頻度を少なくし、稼働率の高いまたは均一な成膜ができる成膜装置及び成膜方法を提供するものである。
【解決手段】本発明は、蒸発源の内部に有する蒸発材料を蒸発(昇華)させ、前記蒸発源の複数のノズルから噴出させて基板に蒸着する前記蒸発源を移動させる蒸発源移動手段を具備する真空蒸着チャンバを有する成膜装置において、前記真空蒸着チャンバは、前記ノズルまたはノズル付近に析出した析出蒸発材料を除去するクリーニング部を具備するノズルクリーニング手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】効率的にEL材料を気化・蒸発することが可能であり、高品質でかつ高レートで供給することが可能な、成膜装置と蒸発源装置、更には、蒸発源容器を提供する。
【解決手段】真空内において被蒸着基板表面に蒸着材料を被覆する成膜装置において使用する蒸発源装置２０は、その外部にヒータを備えると共に、その内部に空間を形成して複数の蒸発源容器２２０を垂直方向に積層して収納するヒータケース２１０を備えており、各蒸発源容器２２０は、断面略「Ｕ」の字状に形成し、略中央部にガス放出用の貫通孔２２２を形成するように取り囲んで形成された高熱伝導材料からなる容器２２１と、容器の上面開口を覆う高熱伝導材料からなる蓋体と、そして、容器内で発生した蒸着材料のガスを隙間からガス放出用の貫通孔に導き、上記ヒータケース２１０の上部に設けた案内部２１２に集め、噴出穴２１３を介して被蒸着基板の表面に供給する。 （もっと読む）

【課題】ライン状の蒸発源を複数用い、複数の蒸発材料を混合して蒸着を行う際、膜厚方向において、蒸発材料の混合比が一定となる均質な薄膜を形成することができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】複数のライン状の蒸着源を備えた真空蒸着装置において、蒸発容器８ａ、８ｂの放出孔１３ａ、１３ｂから放出された蒸発材料の蒸気の単位時間当たりの蒸着量が等しくなる等厚面１９ａ、１９ｂを、蒸発容器８ａ、８ｂ各々について求め、等厚面１９ａ、１９ｂの接する位置が基板４の蒸着面で一致するように、蒸発容器８ａ、８ｂを配置した。 （もっと読む）

【課題】ライン状の蒸発容器において、温度むらや蒸発材料の偏りがあっても、蒸発材料の利用効率を下げることなく、大型基板においても、蒸着による薄膜の膜厚分布の均一性を向上することができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置において、同一径の複数の放出孔１３を線状に配置すると共に、放出孔１３を両端部側で密に配置した蒸発容器８の内部に、蒸発材料７の蒸気が通過する同一径の複数の通過孔１８を有する整流板１４を設け、放出孔１３の配置方向における単位長さあたりのコンダクタンスについて、通過孔１８によるコンダクタンスを、放出孔１３によるコンダクタンスと比例するように、両端部側で密に配置した。 （もっと読む）

【課題】複数の反応チャンバーを備えた蒸着装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】被蒸着体に第１蒸着物質を蒸着するように設定された第１チャンバーと、被蒸着体に第１蒸着物質と異なる第２蒸着物質を蒸着するように設定された第２チャンバーと、被蒸着体に第１蒸着物質を蒸着するように設定された第３チャンバーと、第１チャンバーから第３チャンバーと連結され、被蒸着体を第１チャンバーから第３チャンバーのうち少なくとも一つのチャンバーに供給するように備えられた搬送チャンバーと、被蒸着体を、搬送チャンバーから、第１チャンバーから第３チャンバーのうち一つのチャンバーへ移送させて蒸着させる制御部と、を備える蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】大型基板量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の第１スリットが形成される第１ノズルと、第１ノズルと対向するように配され、第１方向に沿って複数の第２スリットが形成される第２ノズルと、第１ノズルと第２ノズルとの間に第１方向に沿って配されて、第１ノズルと第２ノズルとの間の空間を複数の蒸着空間に区画する複数の遮断壁を備える遮断壁アセンブリーとを備える薄膜蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】大型基板量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置に係り、これを具現するために、基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着源；蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の第１スリットが形成される第１ノズル；蒸着源と対向するように配され、第１方向に沿って複数個の第２スリットが形成される第２ノズル；第１ノズルと第２ノズルとの間の空間を区画するように、第１方向に沿って配された複数個の遮断壁を具備する遮断壁アセンブリ；第２ノズルと基板との間隔を制御する間隔制御部材と、第２ノズルと基板との間のアラインを調節するアライン制御部材とのうち、少なくとも一つ；を含む薄膜蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】相手部材の大きい撓みを吸収可能な弾性変形可能なシール材を有する密封構造を提供する。
【解決手段】被密封用平坦面５に対して、弾発的に接触する弯曲状の延伸リップ１を有し、この延伸リップ１は横断面薄肉Ｃ字型であり、かつ、付け根部に段差部19を有する。 （もっと読む）

【課題】熱の伝達効率が悪いテンションマスクを効率的に冷却し、高精細なパターン形成を可能にする。
【解決手段】マスク箔を用いるテンションマスクであるマスク５を介して基板４に成膜材料を付着させることによりパターン形成を行う蒸着方法において、蒸着後のマスクを冷却することなく再使用可能であるか否かを判定する工程を設ける。再使用可能である限り複数枚の基板に対して同じマスクを繰り返し使用し、再使用不可と判定した場合は、冷却ユニット１４を有するマスクストック室２に搬送し、冷却した後に蒸着室１に戻して再使用する。 （もっと読む）