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Fターム[3K107GG32]の内容

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【課題】薄膜材料の利用効率が高く、かつ大面積の基板に均一な厚みの薄膜を成膜できる真空蒸着装置及び薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
薄膜材料の蒸気を生成する蒸発源31〜36と、成膜対象物51が配置される真空槽11と、真空槽11内を真空排気する真空排気装置12と、蒸発源31〜36から蒸気が供給され、真空槽11内に蒸気を放出させる放出装置21とを有し、放出装置21を移動させながら成膜対象物51に蒸気を到達させ、成膜対象物51の表面に薄膜を形成する真空蒸着装置10aであって、蒸発源31〜36を放出装置21と一緒に移動させる移動装置15を有する真空蒸着装置10aである。 (もっと読む)


【課題】基板の温度が100℃以下の低温環境下において、基板上にシリコン窒化膜を適切に成膜し、当該シリコン窒化膜の膜特性を向上させる。
【解決手段】ガラス基板G上にアノード層20、発光層21、カソード層22、シリコン窒化膜23を順次成膜して、有機ELデバイスAを製造する。シリコン窒化膜23は、プラズマ成膜装置の処理容器内にシランガス、窒素ガス及び水素ガスを含む処理ガスを供給し、処理容器内の基板の温度を100℃以下に維持し、且つ処理容器内の圧力を20Pa〜60Paに維持した状態で、処理ガスを励起させてプラズマを生成し、当該プラズマによるプラズマ処理を行って成膜される。 (もっと読む)


【課題】フルカラー表示を行う発光装置と、照明装置では、用いる蒸着マスクの開口サイズが異なる。従って別々の蒸着マスクが必要であり、一度に大量の基板を処理する場合には、処理基板枚数に合わせて蒸着マスクを多数用意するため、装置全体のフットプリントが増大することを解決することを課題の一つとする。
【解決手段】カラーフィルタと白色発光素子とを組み合わせることでフルカラーの表示装置を作製する。こうすることで、発光装置の製造ラインと、照明装置の製造ラインと、を一部共通させ、製造装置全体のフットプリントを削減する。 (もっと読む)


【課題】下地膜を酸素や水分と反応させずに、下地膜の表面に光が透過できる金属酸化物膜を形成する光透過性金属酸化物膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
気体分子を前記気体分子の凝縮温度以下の凝縮面に凝縮させて捕捉する第一の真空ポンプ121を用いて第一の真空雰囲気を形成し、第一の真空雰囲気中に配置された成膜対象物30の下地膜の表面に金属酸化物の粒子を付着させて第一の金属酸化物膜を形成し、気体分子を大気中に移動させる第二の真空ポンプ122を用いて第二の真空雰囲気を形成し、化学構造中に酸素を有する反応性ガスの第二の真空雰囲気中の分圧を第一の真空雰囲気中の分圧より大きくし、第二の真空雰囲気中に配置された成膜対象物の第一の金属酸化物膜の表面に金属又は金属酸化物の粒子を付着させて第二の金属酸化物膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】大型の成膜対象物の表面に分布が均一な成膜を簡素な構成の装置で行うことができる技術を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着装置100は、真空槽100aと、真空槽100aの外部に設けられたホスト材料蒸発源70h、第1及び第2のドーパント材料蒸発源80d、90dと、ホスト材料蒸発源70h、第1及び第2のドーパント材料蒸発源80d、90dから供給された蒸発材料の蒸気を基板5に向って放出する蒸気放出器8とを備える。蒸気放出器8は、同心状に配置された径の異なる第1〜第5の筒状の蒸気拡散部11〜15を有するとともに、隣接する蒸気拡散部が、蒸発材料の蒸気が通過可能な第1〜第4の連通口21〜24を介して互いに接続されている。蒸気放出器8は、基板5に対し、蒸気放出器8の延びる方向と直交する方向に移動するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】小形の蒸着マスク2でも大型の基板4を離間状態で相対移動させることで広範囲に蒸着マスクによる成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、蒸着マスクの温度上昇を十分に抑えて蒸着マスク2を一定の温度に保持ができるため、蒸着マスクの熱による歪みを防止でき、高精度の蒸着が行える画期的な蒸着装置を提供すること。
【解決手段】基板4と蒸着マスク2とを離間状態に配設し、この基板4と蒸発源1との間に、制限用開口部5を設けた飛散制限部を構成するマスクホルダー6を配設し、このマスクホルダー6に前記蒸着マスク2を接合させて付設し、このマスクホルダー6に蒸着マスク2の温度を保持する温度制御機構9を設け、基板4をこの蒸着マスク2に対して相対移動することにより蒸着マスク2より広い範囲に、精度の高い成膜パターンの蒸着膜を形成できる蒸着装置。 (もっと読む)


【課題】蒸着ヘッドから噴射された成膜材料が被処理基板と、処理室又は他の蒸着ヘッドとの間で反跳し、蒸着されるべき箇所とは異なる部位に成膜材料が付着したり、各成膜材料噴出部からの蒸気が混じりあい隣接する膜中に不純物として混入する。
【解決手段】被処理基板Gを収容する処理室11と、成膜材料の蒸気を該被処理基板へ向けて噴出する成膜材料噴出部13とを備える成膜装置1に、成膜材料噴出部13から噴出され、被処理基板Gで反跳した成膜材料を捕捉する捕捉部16,16…を処理室11の内部に備える。 (もっと読む)


【課題】 放出装置によってマスク板が加熱されない有機薄膜製造装置を提供する。
【解決手段】蒸気を放出しながら移動する放出装置31〜36を、マスク板14と対面する位置を通過させ、マスク板14の貫通孔底面に露出する部分の基板13の成膜面に有機薄膜を形成する有機薄膜製造装置10に於いて、高温に昇温される放出装置31〜35又は36は、マスク板14に近い位置を通過させないようにする。高温の放出装置31〜35又は36が放射する熱によるマスク板14の加熱が緩和され、マスク板14が変形しないようになる。 (もっと読む)


【課題】処理ガスを大量に活性化させ、かつ失活させずに供給することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Wを支持する基板支持体3と、触媒板5と、触媒板5に接触させて活性化させる第1処理ガスを供給する第1処理ガス供給部70aと、触媒板5を誘導加熱する誘導加熱コイル6とを備え、基板支持体3は、触媒板5の一面側に配され、誘導加熱コイル6は、触媒板5の他面側に配され、触媒板5は、処理室1を、誘導加熱コイル6側の第1空間及び基板支持体3側の第2空間に隔てる。 (もっと読む)


【課題】 リニアソースに好適な水晶発振式膜厚モニタ装置と共に、膜厚モニタを用いたEL材料の蒸発源装置や薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 外周端に沿って複数の水晶振動子50を保持する円盤状の水晶振動子ホルダ10と、その表面を覆い、かつ、その一個に対応した位置にだけ開口部21を設けたカバー20を備えたヘッダと、ヘッダの裏面に設けられた回転機構と、ホルダの回転に伴って開口部から表面を外部に露出する一の水晶振動子の共振周波数を検出する共振周波数検出手段を備えた水晶発振式膜厚モニタ装置では、ヘッダを構成する円盤状のホルダの外周部を円錐状に、内側に角度θだけ窪ませて水晶振動子表面から延長した垂線を円盤状のホルダの回転軸に対して角θだけ傾斜させ、ホルダを回転する駆動部550を含む回転機構を、水晶振動子ホルダの回転軸に対して垂直に伸びた方向に設ける。 (もっと読む)


【課題】成膜材料を微量に蒸発させることで成膜材料の利用効率を高めることができる蒸発装置を提供する。
【解決手段】基板K上に薄膜を蒸着形成する蒸着装置10において、有機材料からなる成膜材料Pを収容する容器3と、容器3に収容された成膜材料Pに混入される導電性の粒状混合物4と、容器3内の粒状混合物4を誘導加熱する加熱部5と、を備え、粒状混合物4の成膜材料Pに対する体積比は、1/10000以上で1/100未満の範囲内の値である。 (もっと読む)


【課題】種々の多数の基板に対して真空蒸着法による成膜を効率良く行う技術を提供する。
【解決手段】本発明は、真空槽2内において、第1及び第2のマスク31、32を介して第1及び第2の基板51、52上に蒸着を行う真空蒸着装置である。本発明は、第1及び第2の基板51、52を保持する保持手段80と、第1及び第2のマスク31、32をそれぞれ支持するマスク支持部17、18と、マスク支持部17、18を非接触の状態でそれぞれ位置合わせを行う第1及び第2のXYθステージ15、16とを有する。第1及び第2のXYθステージ15、16は、コ字形状に形成され、第1及び第2のXYθステージ15、16の端部がそれぞれ対向するように配置されている。 (もっと読む)


【課題】搬送される基板に対して、ホスト材料とゲスト材料とを同時蒸着させる蒸着装置において、微量のゲスト材料を蒸着させる場合であっても精度良く成膜を行う。
【解決手段】搬送される基板100に対して薄膜を形成する真空蒸着装置200であって、基板100に対向して搬送方向Aに直交する幅方向に延在し、第1蒸着材料を放出する第1蒸着源203と、基板100に対向して搬送方向Aに直交する幅方向に延在し、第1蒸着源203に対して搬送方向Aにずれて配置され、第1蒸着材料に重なり合うように第2蒸着材料を放出する第2蒸着源204と、搬送方向Aに沿って配列された複数の羽板部材207aと、を備え、複数の羽板部材207aは、放出された第2蒸着材料の進行方向に対して傾斜し、且つ、放出された第1蒸着材料の進行方向に対して平行となるように設けられている。 (もっと読む)


【課題】簡易な方法で均一な膜厚および膜質の蒸着膜を成膜可能な蒸発源およびこれを備えた蒸着装置ならびに蒸着方法を提供する。
【解決手段】有機EL表示装置1の有機層16を真空蒸着法によって形成する。底部が平坦な加熱用容器21に、溶媒に溶解または均一に分散させた有機材料を流し込む。加熱用容器21を加熱することにより溶媒を除去し、加熱用容器21の底部に均質に分散した有機膜22を形成する。この有機膜22を蒸発源2とすることより、基板11の大きさにかかわらず、均一な膜厚および膜質の有機層16を容易に形成することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】ホスト材料とゲスト材料とを同時蒸着させる蒸着装置において、微量のゲスト材料を精度良く蒸着させるとともに、蒸着材料のロスを抑制する。
【解決手段】真空処理室201内において、基板100に対して蒸着材料を蒸着させて薄膜を形成する真空蒸着装置200であって、内部に収容された蒸着材料を加熱し、発生した蒸着材料の蒸気を放出口204aから基板100へ向けて放出する第2蒸着源204と、第2蒸着源204に連結され、第2蒸着源204の内部で発生した蒸着材料の蒸気を導く導管220と、導管220を流れる蒸着材料の蒸気の流量を制御する流量制御バルブ221と、導管220を介して第2蒸着源204に連結されて、第2蒸着源204の内部で発生した蒸着材料の蒸気を回収する回収容器230と、を備える。 (もっと読む)


【課題】搬送される基板に対して、均一に共蒸着することのできる蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空容器1内で基板K上に薄膜を蒸着形成する蒸着装置10において、真空容器1内に、基板Kを搬送する搬送手段2と、基板Kの搬送方向と直交する直交方向に延在するよう搬送方向に沿って並んで配され、基板Kに対して成膜材料を蒸気として噴出する線状蒸着源3A,3Bと、搬送方向に沿って並んで配され、基板Kに対して線状蒸着源3A,3Bから噴出される成膜材料より低濃度な成膜材料を蒸気として噴出する複数の点状蒸着源部4A,4Bと、を備え、線状蒸着源3A,3Bと、複数の点状蒸着源部4A,4Bと、から噴出された蒸気により共蒸着が行われることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】成膜時の熱による変形を抑制できる成膜マスク及び成膜装置並びに薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
複数の開口23が形成され、成膜物質が開口23を通過する通過部21と、成膜物質を遮蔽する遮蔽部22とを有している。通過部21と遮蔽部22とは長手方向を有し、遮蔽部22の長手方向の長さは、通過部21の長手方向の長さ以上にされ、遮蔽部22の幅の長さは、通過部21の幅の長さと同じに形成されている。通過部21と遮蔽部22とは、成膜マスク20a表面と平行な一の移動方向5に沿って長手方向を密着して並んで配置され、成膜マスク20aが一の移動方向5の通過部21側に通過部21の幅の距離移動すると、開口23が位置していた場所が、遮蔽部22によって塞がれるように構成されている。遮蔽部22には内部に伝熱媒体が流れる流路部材が密着して設けられている。 (もっと読む)


【課題】蒸着源及び有機膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】大型基板の量産工程に容易に適用でき、蒸着工程中にノズルの閉塞現象を防止して、歩留まり及び蒸着効率を高める蒸着源及びこれを利用した有機膜蒸着装置。 (もっと読む)


【課題】有機ELディスプレイの生産性を高めるため、高い成膜速度で長時間安定に成膜作業を実施し、かつ均一な膜厚分布を達成する。
【解決手段】成膜室内で、昇華又は蒸発した成膜材料を基板Wに成膜する成膜装置において、加熱機構11を備えた複数の材料収容部10と、成膜材料を基板Wに向けて放出させる放出口13との間に、連結空間14を配置する。複数の材料収容部10を用いることで高い成膜速度を得るとともに、各材料収容部10から昇華又は蒸発した成膜材料を連結空間14において混合し、均一な膜厚分布を実現する蒸気として複数の放出口13から基板Wに向かって放出する。 (もっと読む)


【課題】発光色の変動が抑制され、高品質な有機EL素子の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】電極層の形成された帯状の基材を供給し、該基材の非電極層側を回転駆動するキャンロール表面に当接させて該基材を移動させつつ、前記キャンロールと対向するように配された蒸着源のノズルから気化された有機層形成材料を吐出させて、前記基材の電極層側に有機層を形成する蒸着工程を含む有機EL素子の製造方法であって、前記基材の移動方向に対し前記ノズルよりも上流側において前記キャンロールに支持された前記基材までの第1の距離を測定可能な距離測定手段と、前記蒸着源のノズルと前記基材の表面との間の第2の距離を調整可能な位置調整手段と、を用い、前記距離測定手段による前記第1の距離の測定結果に基づいて、前記位置調整手段により前記第2の距離が一定となるように制御しつつ前記蒸着工程を行なうことを特徴とする有機EL素子の製造方法。 (もっと読む)


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