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Fターム[3K107GG32]の内容

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【課題】有機材料の利用効率の向上と装置設置面積の削減とを両立させて、有機ELデバイスの製造コストを低減できる薄膜形成装置及びインライン型の有機ELデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】基板16の搬入位置20に配置され、基板16と蒸着マスク17とを相対的に移動させて位置合わせする位置合せ機構15と、基板16が組み込まれた蒸着マスク17を搬送する搬送機構14と、基板16と蒸着マスク17が移動しながら、蒸着マスク17の開口部を通して基板16上に有機材料を積層する成膜機構13と、を備え、少なくとも成膜機構13の前段もしくは後段のいずれか一方において、基板16の搬入位置20もしくは搬出位置21の搬送機構14a、14cと成膜区間の搬送機構14bとが並列配置されている。 (もっと読む)


【課題】発光層などの薄膜素子に損傷を与えることなく、成膜可能な蒸着装置を開発する。
【解決手段】
真空雰囲気に維持可能であってガラス基板8を設置可能な蒸着室2と、電子ビームを照射して薄膜材料15を蒸発させる蒸発装置3とを有し、蒸着室2にガラス基板8を設置し、蒸発装置3によって蒸発された薄膜材料15を蒸散させて前記ガラス基板8に所定成分の薄膜を蒸着する真空蒸着装置1において、蒸発装置3と蒸着室2との間に管路6があり、蒸発装置3で蒸発した薄膜材料15の気体が管路6を経て蒸着室2に導入される構成とする。 (もっと読む)


【課題】蒸着ステージを移動しながら、多層膜の蒸着を行う場合に、蒸着マスクと基板の熱膨張の差によって、蒸着マスクと基板が位置ずれを起こすことを防止する。
【解決手段】
蒸着ステージにおいて蒸着マスクを介して基板に所定の蒸着を行い、その後蒸着マスク、基板および押さえ板30の組を移動させ、他の蒸着ステージにおいて、蒸着マスクを介して基板に他の蒸着を行う。蒸着マスク、基板、押さえ板30の組が移動している間、冷却ローラ60を押さえ板30に接触させ、蒸着マスクを介して基板に他の蒸着を行っている間は、冷却ローラ60は押さえ板30からは離しておく。冷却ローラ60は金属で形成され、表面に高分子材料がコーティングされており、内部を冷却媒体が流れることが出来る。基板および蒸着マスクの温度が上がって熱膨張することを回避することが出来るので、有機EL表示装置の製作裕度を向上させることが出来る。 (もっと読む)


【課題】真空装置内におけるマスク組み立て体と素子基板の対を移動するときに、搬送装置においてガイドローラ等とマスクフレームとが接触した時の衝撃によって蒸着マスクと素子基板との相対位置がずれることを防止する。
【解決手段】蒸着マスクを配置し、素子基板が載置されたマスクフレーム21の両端部が搬送用ベルト200によって支えられ、回転ローラ100が回転することによって搬送用ベルト200が移動するとともにマスクフレーム21が移動する。搬送用ベルト200が接触する回転ローラ100には曲率が形成されており、この曲率に沿って搬送用ベルト200も同様の曲率を有する。この構成においては、クラウン効果によって搬送用ベルト200の蛇行が抑制されるので、搬送用ベルト200に載置されたマスクフレーム21、蒸着マスク、素子基板等は、横ずれを生ずることなく搬送することが出来る。したがって、蒸着マスクと素子基板との相対的な位置ずれを生ずることは無い。 (もっと読む)


【課題】ゲッター作用を有する蒸着材料中の不純物の基板及び堆積膜中への付着を防止すると共に、成膜チャンバー内を短時間で高真空に到達させ、真空排気後短時間で蒸着の成膜速度安定性を実現した蒸着方法、及び蒸着装置を提供する。
【解決手段】少なくとも蒸着源4a、4bに対向する面を備えたダミー部材7を、成膜チャンバー1の真空排気の過程で該成膜チャンバー1内に搬入し、該ダミー部材7に所定の厚さの蒸着膜を形成した後、実基板2への蒸着を行うことにより、ダミー部材7に堆積する蒸着膜に、蒸着源4a、4bから放出される不純物や成膜チャンバー1内に残留する水分が取り込まれ、実基板2に堆積する膜に混入する不純物が低減され、実基板2へ蒸着を行う際の圧力に達するまでの時間が短縮される。 (もっと読む)


【課題】蒸発源から蒸発材料が無くなった場合も、真空を破らずに蒸発源の交換を可能にすることが出来る真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】複数の蒸発源と蒸気放出部を配管とバルブで接続し、バルブは蒸発源側配管側に形成された中空コーン部に超弾性β系チタン合金による弾性シール100を配置した構成をシール部とし、弁体にはステンレスによるコーン状弁体120を用いる。超弾性β系チタン合金による弾性シールは、弾性係数が非常に小さく、コーン状弁体の形状に対してフレキシブルに変形することが出来、変形後も元の形に復帰するという性質を有するので、シールの信頼性を上げることが出来る。また、繰り返し変形を受けても硬化あるいは、塑性変形をしないという性質があるので、シール部として繰り返し使用することが出来る。したがって、バルブの信頼性の向上と蒸着工程のタクトタイムを向上することが出来る。 (もっと読む)


【課題】真空装置内に蒸発材料が堆積する量を抑制し、かつ、真空装置内のクリーン化のための時間を短縮する。
【解決手段】蒸着マスクの上に素子基板が配置され、蒸着マスクの下方に蒸発源41、42が配置された真空蒸着装置において、蒸発源41、42を覆って、シートシャッター60を配置し、シートシャッター60の開口部61を通して素子基板に真空蒸着する。シートシャッター60は素子基板に蒸着しないときは、蒸発源41、42の開口部を覆っている。したがって、蒸発源41、42からの蒸発物質は主にシートシャッター60に堆積する。シートシャッター60は、巻き取り機構62に巻き取ることが出来、シートシャッター60に蒸発材料が所定の量以上堆積したときに、シートシャッター60を交換する。これによって、短時間でシートシャッター60の交換が出来、かつ、真空装置内に蒸発材料が堆積する量を抑制できる。 (もっと読む)


【課題】大型基板の量産工程にさらに適しており、高精細のパターニングを可能にする有機層蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に有機層を形成するための有機層蒸着装置において、基板と結合して基板を固定させ、基板の載置面が所定の曲率を持つように形成される静電チャック;基板側に蒸着物質を放射する蒸着源;蒸着源の一側に配置され、第1方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部;蒸着源ノズル部と対向して配置され、第1方向に対して垂直の第2方向に沿って複数のパターニングスリットが形成され、第2方向と、第1方向及び第2方向に対して垂直の第3方向とが形成する平面上での断面が一定に曲げられるように形成されるパターニングスリットシート;を備える有機層蒸着装置。 (もっと読む)


【課題】マスクと基板との隙間を介して侵入する蒸着物質によって生じる輪郭ボケや回り込み等のない、高品位な薄膜パターンを得ることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板20の裏面の、マスクフレームの内側であって、マスクの開口領域10の外側の領域を、基板の対向する2辺に沿った線状に、押圧体30によって押圧することにより、マスク開口部の変形を招くことなく、基板とマスクとを略水平状態にして密着させることができる。 (もっと読む)


【課題】薄膜材料の使用効率が高く、大型基板に所定の形状の薄膜を形成できる技術を提供する。
【解決手段】
材料ガス放出装置30は、内部に材料ガスが配置される中空の蒸気タンク32h、32dと、載置面13と対面する位置に配置され、蒸気タンク32h、32dにそれぞれ接続された複数の放出装置本体311、312、313と、各放出装置本体311、312、313を、載置面13に平行で薄膜形成方向5と直角な成分を有する方向にそれぞれ個別に移動する位置調整装置とを有している。材料ガス放出装置30と処理台12を一の薄膜形成方向5に沿って相対移動させながら、各放出装置本体311、312、313から材料ガスを真空槽11内に放出させて載置面13上の成膜対象物20に到達させ、直線状の薄膜を複数本同時に形成する。 (もっと読む)


【課題】蒸着材料の回収手段を備えた蒸着装置において、蒸着材料の回収効率を向上し、生産性の改善を図る。
【解決手段】材料容器9から噴出部5までの第1流路11と、材料容器9から材料回収容器10までの第2流路12に、検出口6,7を設け、該検出口6,7から噴出する蒸着材料の噴出状態を検知する検出器3,4を配置し、材料容器9から検出口6までのコンダクタンスと、材料容器9から検出口7までのコンダクタンスを等しく構成する。 (もっと読む)


【課題】連続蒸着が可能な薄膜蒸着装置、並びにその薄膜蒸着装置に使われるマスク・ユニット及びクルーシブル・ユニットを提供する。
【解決手段】蒸着対象体である基板10を移送するように備わった基板移送ユニットと、基板に向けて蒸着源の蒸気を選択的に通過させるように備わったマスク・ユニット200と、蒸着源を収容し、マスク・ユニットを貫通する循環経路に沿って進む複数のクルーシブル110を含むクルーシブル・ユニット100と、を具備する薄膜蒸着装置である。これにより、蒸着源の供給及び消尽、基板とマスクとのアレンジなどがいずれも連続して進められるために、作業速度が相当に速くなる。 (もっと読む)


【課題】所定量の成膜材料を供給しながら蒸発できる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】
真空槽11内を真空排気し、放出容器16に接続された気化容器21を成膜材料の蒸発温度以上で、かつ成膜材料を含有する液体材料の溶媒の蒸発温度以上に加熱し、気化容器21内に液体材料を所定量噴出させ、成膜材料を気化容器21内に配置された気化部材22に付着させ、次いで気化容器21内から溶媒の蒸気を排出した後、気化部材22を成膜材料の蒸発温度以上に加熱して、気化部材22に付着した成膜材料を蒸発させ、成膜材料の蒸気を放出容器16に流入させ、放出容器16の孔17から成膜材料の蒸気を放出させ、真空槽11内に配置された基板15に到達させる。 (もっと読む)


【課題】長時間に亘る蒸着でもコンタミネーションの発生を抑制可能な蒸発装置及び該蒸発装置を有した蒸着装置を提供することである。
【解決手段】薄膜材料40を保持する材料保持部21を複数有し、さらに1又は2以上の材料保持部21内の薄膜材料40を加熱する加熱手段22と、材料保持部21に薄膜材料40を供給する材料供給手段24と、材料保持部21を移動させる保持部移動手段23を有し、1又は2以上の材料保持部21を使用し、材料保持部21に対して材料供給手段24によって連続的に又は間欠的に薄膜材料40を供給すると共に、材料保持部21に供給された薄膜材料40を加熱手段22によって加熱して蒸発させ、一定要件を満足することを条件の一つとして保持部移動手段23によって材料保持部21aを移動し、新たな材料保持部21bに交換する。 (もっと読む)


【課題】大型の処理対象物の表面に対して分布が均一な処理を安価に行うことができる技術を提供する。
【解決手段】真空槽12の外部に設けられた処理ガス供給源8と、処理ガス供給源8から供給された処理ガスを放電させるラジカル放出器10とを備える。ラジカル放出器10の処理ガス導入室14の基板側に、導電体からなる面状のシャワープレート15と、シャワープレート15に対応する大きさ及び形状の導電体からなる面状のメッシュ状部材16が設けられる。シャワープレート15とメッシュ状部材16とは電気的に絶縁されている。メッシュ状部材16に高周波電力を印加し、シャワープレート15とメッシュ状部材16の間のプラズマ形成室18において処理ガスのプラズマを形成して、メッシュ状部材16から基板5に向って処理ガスのラジカルを放出する。 (もっと読む)


【課題】真空内を機構が簡単で基板の蒸着面を上面にして搬送ができ、前記上面搬送においても高精彩に蒸着可能な有機ELデバイス製造装または同製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。
【解決手段】
真空内を基板の蒸着面を上面にして搬送し、少なくとも前記基板が移動する場合には前記基板の搬送面が摺動しないように保持し、前記真空チャンバ内で前記基板を受渡し、その後前記基板を垂直または略垂直にたてて蒸着する。
また、上面搬送されてきた複数の基板を一つの真空蒸着チャンバ内で同一の蒸着源で交互に蒸着する。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、基板等の破損を低減し、稼働率の高い有機ELデバイス製造装置及び製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、基板を載置する蒸着ステージとマスクを相対的に移動させ、前記基板と前記マスクを密着させ、真空中雰囲気において前記基板に蒸着材料を蒸着する有機ELデバイス製造装置または製造方法において、前記密着は、前記駆動源の負荷を状態量として監視し、前記状態量の変化に基づいて前記移動を制御することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】位置合わせ精度を確保しつつ省スペースを実現し、第4世代以上の大型基板にも対応可能な極めて実用性に秀れた成膜装置の提供。
【解決手段】真空槽1内で直立状態に保持された基板2にマスク3を介して成膜材料を付着せしめて成膜を行う成膜装置であって、マスク3を直立状態に取り付けたアライメント枠4を基板2に対して調整移動して、マスク3が基板2に対して適正位置となるようにマスク3と前記基板2との位置合わせを行うアライメント駆動機構を備え、このアライメント駆動機構は、真空槽1の外部にしてその上部側に設けられる上部側駆動機構か若しくは真空槽1の外部にしてその下部側に設けられる下部側駆動機構で構成する。 (もっと読む)


【課題】蒸発材料の指向性を弱めるとともに、絞り板の絞り口が塞がれることなく、安定して均一な膜厚の蒸着膜を生成し得る真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着材料を加熱して蒸発材料を得るための蒸発容器と、この蒸発容器で得られた蒸発材料を拡散し得る拡散容器と、この拡散容器に設けられて放出口33から蒸発材料を基板に向かって放出する放出用ノズル32と、この基板が内部に配置されて所定の真空度下で蒸着を行う蒸着用容器とを具備する真空蒸着装置であって、放出用ノズル32の内径を拡大することで形成されるとともに放出口33に対向する内壁段差34を有し、この内壁段差34に配置されて放出用ノズル32の内径よりも小径のオリフィス37が形成されたオリフィス板36と、このオリフィス板36を上記内壁段差34とで挟むように配置されたC形止め輪38とを具備したものである。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、より均一な成膜を実現できる、或いは高精彩なデバイスを製造できる有機ELデバイス製造装置及び製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、複数の受けピンを介して基板を水平状態の蒸着ステージで受渡し、前記蒸着ステージを回転させて略直立姿勢または直立姿勢にし、真空チャンバ内で前記基板に蒸着材料を蒸着する有機ELデバイス製造装置または製造方法において、前記複数の受けピンの先端より上方に前記蒸着ステージを移動し、前記基板を前記複数の受けピンから前記蒸着ステージに移載し、その状態で前記回転を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


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