【課題】
本発明は、より均一な成膜を実現できる、或いは高精彩なデバイスを製造できる有機ＥＬデバイス製造装置及び製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、複数の受けピンを介して基板を水平状態の蒸着ステージで受渡し、前記蒸着ステージを回転させて略直立姿勢または直立姿勢にし、真空チャンバ内で前記基板に蒸着材料を蒸着する有機ＥＬデバイス製造装置または製造方法において、前記複数の受けピンの先端より上方に前記蒸着ステージを移動し、前記基板を前記複数の受けピンから前記蒸着ステージに移載し、その状態で前記回転を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を作製する際、大型の成膜対象物の表面に分布が均一な有機層の成膜を行うことができる技術を提供する。
【解決手段】面蒸気放出器１０に、蒸発材料であるホスト材料及びドーパント材料の蒸気が順次拡散される水平方向拡散部１０Ｈ及び鉛直方向拡散部１０Ｖを有する。水平方向拡散部１０Ｈは、蒸発材料の蒸気の導入側から放出側に向って段階的に区分けされ第１〜第４連通口１２〜４２を介して接続された第１〜第４の拡散室１１〜４１を有する。鉛直方向拡散部１０Ｖは、有機材料の蒸気の導入側から放出側に向って段階的に区分けされ第２及び第３連通口１２２、１３２を介して接続された第１〜第３の拡散室１１１〜１３１を有する。最終段の第３の拡散室１３１は、複数の第４連通口１４２を介してそれぞれ蒸気混合室１４１に接続されている。 （もっと読む）

【課題】被処理体に蒸着する成膜材料の蒸気を均熱化することができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】減圧された処理室３０内において、被処理体に成膜材料を蒸着して成膜処理する蒸着装置であって、成膜材料の蒸気を噴出させる蒸気噴出口８０が処理室３０に配置された蒸着ヘッド６５を備える。蒸着ヘッド６５には、処理室３０内に対して封止されたヒータ収納部１０２が形成され、ヒータ収納部１０２には、アルゴンガス、窒素ガスの少なくともいずれかが存在する。 （もっと読む）

【課題】基板に薄膜を成膜させるのと同時に、膜厚の制御を行うことが可能な蒸着処理装置を提供する。
【解決手段】蒸着によって基板に薄膜を成膜させる蒸着処理装置であって、材料ガスを供給する減圧自在な材料供給部と、前記基板に薄膜を成膜する成膜部を備え、前記成膜部は前記基板に噴射される材料ガスの蒸気濃度を測定する検知手段を有し、前記検知手段における測定結果に基づいて成膜条件を制御する制御部を設けた、蒸着処理装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】薄膜材料を連続的に供給でき、長時間連続成膜が行える蒸着装置を提供する。
【解決手段】
ガラス基板８を設置可能な真空室２と、薄膜材料１９を蒸発させる発熱部２０を備えた蒸発装置３とを有し、真空室２内にガラス基板８を設置し、蒸発装置３によって蒸発された薄膜材料１９を蒸散させて前記ガラス基板８に所定成分の膜を蒸着する真空蒸着装置１において、
前記発熱部２０は真空室２内又は真空室２と連通する位置にあって薄膜を蒸着する際には真空雰囲気下に配されるものであり、真空室２の外部から前記発熱部２０に薄膜材料１９を送る薄膜材料送り装置１４を有する構成となっている。 （もっと読む）

【課題】有機フィルムの作成方法を提供する。
【解決手段】有機蒸気を運ぶために非反応性同伴ガスを使用する。該有機蒸気をノズルブロック９３０を通して冷却された基体９５０上に噴出してパターン化有機フィルム９６０を形成する。該方法を遂行するための装置も提供されている。該装置は、有機蒸気源、同伴ガス源、及び真空室を含む。該有機蒸気源と該同伴ガス源に取り付けられた加熱ノズルブロック９３０は、該真空室内に配置された冷却基体９５０上に同伴ガスと有機蒸気を噴出するように適応させた少なくとも１個のノズルを有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ＥＬ材料の利用効率を高め、且つ、ＥＬ層成膜の均一性やスループ
ットの優れた成膜装置の一つである蒸着装置及び蒸着方法を提供するものである。
【解決手段】
本発明は、蒸着室内において、蒸着材料が封入された容器を複数個設置した細長い矩形形
状の蒸着源ホルダ１７に設け、基板１３に対してあるピッチで移動しながら蒸着を行うこ
とを特徴とする。また、基板の一辺に対して矩形形状の蒸着ホルダの長手方向を斜めにし
たまま移動させてもよい。また、ＴＦＴ作製時におけるレーザー光の走査方向に対して、
蒸着時における蒸着ホルダの移動方向を異ならせることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬデバイスを作製する際、大型の成膜対象物の表面に分布が均一な成膜を行うことができる技術を提供する。
【解決手段】真空槽２内に設けられたプラズマＣＶＤ装置３と蒸着重合装置４とを備える。プラズマＣＶＤ装置３のプラズマ放出器１０は、原料ガス供給源３Ｂから原料ガスがそれぞれ供給され互いの雰囲気が隔離されたガス分岐ユニット６１〜６４と、ガス分岐ユニット６１〜６４において拡散された原料ガスのプラズマを形成するプラズマ形成室５１とを有する。蒸着重合装置４の蒸気放出器１１０は、原料モノマー供給源４Ｂから原料モノマーの蒸気がそれぞれ供給され互いの雰囲気が隔離された複数の蒸気分岐ユニット１０１Ａ、１０１Ｂと、蒸気分岐ユニット１０１Ａ、１０１Ｂにおいて拡散された複数の原料モノマーの蒸気を混合する蒸気混合室１５１とを有する。 （もっと読む）

【課題】成膜装置に設けられ基板と成膜用マスクとの位置合わせをするアライメント機構に伝達する可能性がある振動及び変形を低減し、位置ずれを抑制することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板支持体と、マスク支持体と、を室内に備える成膜室と、前記成膜室の室外に設けられている支持体と、前記支持体上に設けられ、前記基板支持体の位置調整手段及び前記マスク支持体の位置調整手段の少なくとも一方と、アライメント用のカメラと、を備えるアライメント機構と、から構成され、前記支持体が、前記アライメント機構を載置する支持板と、脚部と、を有し、前記支持板が、前記脚部により前記成膜室の天板と離間して設けられており、前記支持板の少なくとも一部が、前記支持板に伝わる振動を熱エネルギーに変換して該振動を抑制可能にする制振材料で構成されていることを特徴とする、成膜装置。 （もっと読む）

【課題】薄膜材料の使用効率が高く、大型基板に所望形状の薄膜を形成できる技術を提供する。
【解決手段】
真空槽１１内の処理台１２の載置面１３と対面する位置に放出装置本体３１₁〜３１₃を配置し、放出装置本体３１₁〜３１₃と載置面１３との間に防熱板４２₁〜４２₃を配置し、防熱板４２₁〜４２₃に形成した孔４３₁〜４３₃内に放出装置本体３１₁〜３１₃に接続された細管３３₁〜３３₃を挿入させ、細管３３₁〜３３₃の先端を防熱板４２₁〜４２₃よりも載置面１３に近い位置まで伸ばしておく。真空槽１１内を真空排気し、細管３３₁〜３３₃から材料ガスを放出して載置面１３上の成膜対象物表面に薄膜を形成するときに、細管３３₁〜３３₃先端は蒸発温度以上に加熱しておくことができ、材料ガスが凝縮して細管３３₁〜３３₃先端が閉塞することはなく、成膜対象物表面に、線状の薄膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】搬送方向の切替えに付随した挟圧力や搬送高さの偏差を低減し、品質向上と製造コスト低減を両立する薄膜積層体製造装置を提供する。
【解決手段】搬送経路の端部で可撓性基板１をロールから巻出し／ロールに巻取るための正逆双方向に駆動可能なロールコア駆動装置と、基板の縁部を挟持しかつその挟圧力に応じた展張力を縁部に付与する回転可能なグリップローラ６１〜６９と、成膜部３０における基板の搬送高さを検知する検知手段Ｓ１〜Ｓ９と、検知手段の検出値に基づいてグリップローラの挟圧力を制御する搬送高さ制御装置７３と、を備え、搬送高さ制御装置は、グリップローラの挟圧力の初期値を保持する保持手段を有し、基板の搬送方向の切替え時に、初期値に基づいてグリップローラ６１〜６９の挟圧力を再設定可能とする。 （もっと読む）

【課題】蒸気発生部で発生させた成膜材料の蒸気を温度低下させること無く蒸着ヘッドに送ることができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着により被処理体Ｇを成膜処理する蒸着装置１３であって、被処理体Ｇを成膜処理する処理室３０と、成膜材料を蒸発させる蒸気発生室３１とを隣接させて配置し、処理室３０の内部と蒸気発生室３１の内部を減圧させる排気機構３６，４１と、処理室３０の内部に成膜材料の蒸気を供給する蒸着ユニット５５〜６０とを設け、蒸着ユニット５５〜６０は、処理室３０の内部に向けて成膜材料の蒸気を噴出させる蒸気噴出口８０と、蒸気発生室３１に、成膜材料を蒸発させる蒸気発生部７０〜７２と、成膜材料の蒸気の供給を制御する制御弁７５〜７７と、蒸気発生部７０〜７２で発生させた成膜材料の蒸気を、処理室３０と蒸気発生室３１の外部に出さずに、蒸気噴出口８０に供給させる流路８１〜８３、８５とを備える。 （もっと読む）

【課題】高輝度かつ長寿命の有機エレクトロルミネッセント素子を提供すること。
【解決手段】陽極電極上に、少なくとも１つの発光層を有する有機ＥＬ層、陰極電極がこの順に形成された有機エレクトロルミネッセント素子において、
上記有機ＥＬ層は、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極電極がこの順に形成されたものであり、
かつ上記ホール注入層、ホール輸送層、発光層のうち、少なくとも連続する２層を形成する主たる材料が同一である有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法であって、
上記連続する２層が、上記主たる材料を連続して供給し、かつ添加材料の供給量を制御して製造される。 （もっと読む）

【課題】大面積の成膜対象物に対して膜厚及び膜質が均一の膜を形成することができる蒸着技術を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着装置３０は、ホスト材料用蒸発源８ｈ及びドーパント材料用蒸発源８ｄにそれぞれ接続されたリニア蒸気放出器１０を備える。リニア蒸気放出器１０は、蒸発材料の蒸気の導入側から放出側に向って段階的に区分けされた第１〜第３の拡散室１１〜３１をそれぞれ有するとともに、第１〜第３の拡散室１１〜３１は、互いに隣接する拡散室が蒸発材料の蒸気が通過可能な第１〜第３連通口１２〜３２を介して接続されている。第３の拡散室３１は、第４連通口４２を介してそれぞれ蒸気混合室４１に接続されている。 （もっと読む）

【課題】蒸着工程中に基板と薄膜蒸着装置との精密なアラインが可能である薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着源１１０の一側に配され、第１方向Ｙに沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成された蒸着源ノズル部１２０と、蒸着源ノズル部１２０と対向し第２方向Ｘに沿って複数個のパターニング・スリット１５１が形成されるパターニング・スリットシート１５０と、を具備し、該基板が、第１方向Ｙに沿って移動しつつ蒸着が行われ、該パターニング・スリットシート１５０は、第１アラインマーク１５２及び第２アラインマーク１５３を含み、該基板は、第１アラインパターン５０２及び第２アラインパターン５０３を含み、これらを撮影する第１カメラアセンブリ１６１及び第２カメラアセンブリ１６２と、をさらに具備する薄膜蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】端部からの水分等の浸入を効果的に抑制し、かつより簡素な方法で形成可能な封止構造を提供する。
【解決手段】基板上に配置された電子デバイスを覆う封止構造１は、無機物を主成分とするバッファ層２と；無機物を主成分とし、バッファ層２の密度よりも高い密度を有すると共に、バッファ層２に重ねられたバリア層３と；を含む。封止構造１は、外縁１１を含む傾斜部分１２を備え、傾斜部分１２の厚みは、外縁１１に近づくほど小さくなる。封止構造１の最外面は、バリア層３で覆われている。 （もっと読む）

【課題】連続運転しても、蒸着材料の劣化を防止することで、蒸着膜の品質低下を防止できる蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸発容器１１内に充填された蒸着材料Ｌを蒸発させて蒸着容器内に保持された基板に蒸着させる蒸着装置であって、蒸発容器１１を保持して冷却する容器保持具１２と、蒸着材料Ｌの表面部分を加熱用ランプ１６及び反射板１７で加熱する加熱装置１５と、蒸着材料Ｌの表面位置を検出し得るレーザセンサ１９とを具備し、容器保持具１２を、蒸発容器１１の底部を支持する載置部２１と、蒸発容器１１の側部を覆うと共に加熱用ランプ１６及び反射板１７が取り付けられた外周部２３とから構成し、載置部２１を昇降させる昇降装置１４を設け、且つレーザセンサ１９で検出された蒸着材料Ｌの表面位置に基づき昇降装置１４を制御して加熱用ランプ１６及び反射板１７と上記表面位置とを所定距離に維持する制御装置９を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】膜厚モニターの示す蒸着材料の蒸着レート指示値から算出される蒸着膜厚と、基板上への蒸着膜厚との差異を小さくする真空蒸着方法を提供する。
【解決手段】蒸着材料２１の蒸気を発生させる蒸着源２０と、蒸着材料２１の蒸着レートをモニターして蒸着源２０の制御を行う膜厚センサーと、を有し、前記膜厚センサーが、少なくとも第１の膜厚センサー３１と、第２の膜厚センサー３２と、からなる真空蒸着装置１を用いて、被蒸着部材（基板５０）に蒸着材料２１の蒸着膜を形成する真空蒸着方法であって、第１の膜厚センサー３１による蒸着源２０の制御中において第２の膜厚センサー３２に蒸着膜を付着させた後に、第１の膜厚センサー３１から第２の膜厚センサー３２に切り替えて蒸着源２０の制御を行うことを特徴とする、真空蒸着方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、真空中において特に２次元的に重量物を搬送させるのに適した重量物搬送アシスト機構及び重量物搬送アシスト方法を提供し、また、それらを適用した成膜装置または成膜方法を提供することである。
【解決手段】重量物を一次元的又は２次元的に搬送させるメイン軸を有し、前記メイン軸の負荷を低減する重量物搬送アシストする際に、前記搬送は一端を前記真空チャンバの壁に回転可能に固定され、他端に回転可能に設けられた前記重量物を有するリンクを有するリンク部を介して行われ、前記重量物を駆動するメイン軸の負荷を低減するようにアシスト軸によって前記一端にトルクを付与することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】生産性を落とすことなくガラス基板を効果的に冷却することで蒸着処理時の有機層の変質・劣化を防止し、これにより高品質の有機層を形成する。
【解決手段】ガラス基板７の一方の面７ａの側に一又は複数の層を形成するに際し、層は有機層４を有すると共に、層における少なくとも一種の層が蒸着処理により形成され、蒸着処理時、ガラス基板７の他方の面７ｂにガラス基板７を冷却するための冷却板１５の一方の面１５ａを直に面接触させることとし、かつ、この面接触により、各々の合わせ面７ｂ，１５ａが剥離可能な程度に密着した状態となるようにした。 （もっと読む）