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Fターム[3K107GG32]の内容

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【課題】品質の低下が抑制された有機ELデバイスを製造し得る有機ELデバイスの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】帯状の基材を長手方向に移動させつつ蒸着により該基材に有機EL素子の構成層を形成する有機ELデバイスの製造方法であって、前記基材を長手方向に移動させつつ、該基材の移動方向に沿って設けられた上向き蒸着部及び横向き蒸着部にて、前記基材の一面に蒸着源から気化材料を吐出して順次蒸着を行う構成層形成工程を備え、該構成層形成工程は、上向き蒸着工程と、横向き蒸着工程と、方向変換工程と、を備えている有機ELデバイスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】複数の蒸着材料を被蒸着体に共蒸着するインライン型蒸着装置において、膜厚の蒸着膜を均一に製膜し、信頼性の高い被蒸着体を生産する。
【解決手段】蒸着装置1は、蒸着材料20,30を夫々蒸発させる蒸発源2,3と、蒸発源2,3から被蒸着体4へ向かう蒸着材料20,30の流路を囲うように配置されるホットウォール5と、を備える。蒸発源2,3は、蒸着材料20,30を被蒸着体4側へ放出する放出口22,31を有し、蒸発温度が高い蒸着材料30を蒸発させる蒸発源3の放出口32がホットウォール5の上端縁よりも上方に設けられている。この構成によれば、蒸発した蒸着材料30がホットウォール5に付着することなく被蒸着体4に蒸着される。従って、蒸着材料30がホットウォール5によって再蒸発しながら被蒸着体4に付着することがなく、膜厚の蒸着膜を均一に製膜でき、信頼性の高い被蒸着体4を生産することができる。 (もっと読む)


【課題】
本発明の課題は、坩堝の冷却時において、リフレクターなどの追加部材なしに、坩堝の蒸着出口部や坩堝内壁に材料が付着することを防止できる、或いは、坩堝の冷却時において、坩堝の蒸着出口部や坩堝内壁に材料が付着する事を防ぎ、冷却時間を短縮できる蒸着装置又は蒸着装置の運転方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、蒸着源内の坩堝に存在する蒸着材料を加熱して蒸発し基板に蒸着し、真空蒸着チャンバ内を開く際には前記坩堝冷却する蒸着装置又は蒸着装置の運転方法において、前記冷却は、単位時間当たりに、前記蒸着物出口から出る前記蒸着材料の量が予め定めた量になるように蒸発レート制御する。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、クラスタ構造を有し、ライン長を短くできる、あるいは、スペース効率のよい有機ELデバイス製造装置または基板の姿勢を補正する角度補正機構を提供することである。
【解決手段】
本発明は、第1の櫛歯状ハンドによって基板を搬入する搬入口と、第2の櫛歯状ハンドによって前記基板を搬出する搬出口と、前記基板を支持する複数の支持ピンと、複数の前記支持ピンを固定し、前記基板を支持し回転させる支持ピン回転台と、前記支持ピン回転台を前記基板と平行な平面内で回転させる回転駆動手段と、複数の前記支持ピンと、前記第1の櫛歯状ハンドと前記第2の櫛歯状ハンドの少なくとも一方との干渉を回避する回避手段と、有する。 (もっと読む)


【課題】電子注入効率が高く低電圧駆動が可能な有機発光素子を製造する方法を利用する際に使用される蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着材料25を収容する収容容器23と、収容容器23内に収容される蒸着材料5をガス状態にする加熱手段(熱源22)と、を有する蒸着装置において、収容容器23と被蒸着基材との間であって、ガス状態の蒸着材料が通過する位置に媒体21を有し、媒体21と前記被蒸着基材との間に媒体21が発する熱を遮蔽する遮蔽部材が配置されていることを特徴とする蒸着装置。 (もっと読む)


【課題】アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含む材料の薄膜を成膜する際において、生産性を低下させず且つ安全にメンテナンスを行うことができる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】処理室と、処理室内を真空にする真空排気手段と、処理室内に設けられ、成膜材料を放出するための手段と、成膜材料を放出するための手段に対向して設けられた基板支持手段と、一方の面が処理室の内壁と対向し、且つ熱伝導性を有する領域であり、他方の面が熱伝導性を有する領域に接して設けられた酸化物を含む領域である、防着板と、を備えている成膜装置である。そして、当該成膜装置を用いた成膜方法である。 (もっと読む)


【課題】基板に有機物薄膜を蒸着する全体の工程時間を最小化できる平板パネル製造装置を提供する。
【解決手段】少なくとも二つの基板10が処理される複数の工程チャンバー110;第1の方向L1に沿って複数の工程チャンバーの間に配置され、第1の方向に直交する第2の方向L2に沿って直線状に往復移動しながら未処理の基板を工程チャンバーに供給したり、処理が完了した基板を工程チャンバーから排出する移送ロボット123を備える移送チャンバー120;移送チャンバーの一側に結合され、供給される基板を収容するローディングチャンバー130;及び移送チャンバーの他側に結合され、排出された基板を収容するアンローディングチャンバー140;を含み、工程チャンバーの内部では、第2の方向に沿っていずれか一つの基板に工程ガスが蒸着されると同時に、残りの基板に対する移送及び位置整列が行われることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】品質の低下が抑制された有機ELデバイスを製造し得る有機ELデバイスの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】帯状の基材を長手方向に移動させつつ蒸着により該基材に有機EL素子の構成層を形成する有機ELデバイスの製造方法であって、前記基材を長手方向に移動させつつ、該基材の移動方向に沿って設けられた第1及び第2蒸着部にて、前記基材の一面に蒸着源から気化材料を吐出して順次蒸着を行う構成層形成工程を備え、該構成層形成工程は、複数の上向き蒸着工程と、方向変換工程とを備えている有機ELデバイスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】成膜対象となる基板の劣化を防止ないしは抑制する。
【解決手段】原料ガスに光を照射することで種を生成し、種を基板2に堆積させることにより膜を成長させる光CVD装置(成膜装置)1であって、光源13と基板2を保持する試料台(基板保持部)14の間に遮光板(遮光部材)20を配置する。遮光板20は、基板2の成膜面2aと対向する裏面20a、裏面20aの反対側に位置する表面20b、裏面20aおよび表面20bのうちの一方から他方までを貫通する複数の貫通孔21を有している。また、遮光板20の裏面20aと基板2の成膜面2aの距離C1は、原料ガスの気体分子の平均自由行程以下である。 (もっと読む)


【課題】成膜エリアに封止膜が的確に形成され、かつ、非成膜エリアには封止膜が形成されることを抑制する。
【解決手段】成膜エリアR1と非成膜エリアR2とをそれぞれ別々に隔離壁2によって囲み、これらの間に成膜可エリアR3を配置した構造とし、マスクを隔離壁2の上面に接触させて成膜エリアR1以外の領域を覆った状態でガスを用いた手法によって封止膜3を形成する。これにより、成膜エリアR1のみに良好に封止膜3を形成しつつ、成膜エリアR1以外の領域には封止膜3が形成されないようにできることから、成膜エリアR1に封止膜3が的確に形成され、かつ、非成膜エリアR2には封止膜3が形成されることを抑制できる。 (もっと読む)


【課題】メタルマスクを直接冷却することが可能なメタルマスク冷却機構と、そして、当該機構を備えた有機EL成膜装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着チャンバ中で、基板とメタルマスク83とのアライメントを行って蒸着材料を当該基板に蒸着する有機EL成膜装置におけるメタルマスクの冷却機構は、メタルマスクを間に挟み込んで、外形「ロ」の字状に形成され、一方の表面上に前記マスクを取り付ける固定フレーム82の外枠に沿って設けられる、複数の固定板84を備えており、固定板は、各々、熱伝導性に優れた部材により細長い板状に形成されると共に、その内部には冷媒を流すための流体流路を形成すると共に、更に、固定板の各々には、前記固定板の流路に冷媒を供給するための配管と排出するための配管とを設けた。 (もっと読む)


【課題】アクチュエータを設けることなく、基板を確実に保持できる有機ELデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】基板ホルダー91と、基板搬送機から基板6を受取るための基板受けピン66と、基板ホルダー昇降機構68と、基板ホルダー91の端部に設けられ、基板クランプ61とクランプ支持金具62とクランプ付勢バネからなる基板保持機構と、基板6を基板クランプ61から解放するためのクランプ開閉ピン67とを備え、クランプ支持金具62は縦方向に回転し第1の腕62a
と第2の腕62cを有し、第1の腕62aの端には基板クランプ61の一端が固定され、第2の腕62cの端には縦方向に回転する回転部が設けられ、基板クランプ61が基板6を基板ホルダー91に押圧するよう、有機ELデバイス製造装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】厚さが均一なコーティングを得る方法を提供すること。
【解決手段】材料を気化させて基板の表面に膜を形成する方法は、所定量の材料を気化装置の中に供給し、その気化装置の中にあるその材料を第1の温度状態に加熱し、その材料の一部に作用する熱パルスを印加してその材料のその部分を気化させることにより基板の表面に付着させる操作を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】基板とマスクとの隙間を高精度に制御することのできる有機ELデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】真空処理室内に設けられたシャドウマスクと、基板を載置する基板ホルダーと、基板とシャドウマスクとの間を、接近させ又は離間させる基板密着手段と、基板ホルダーの四隅に設けられた距離計測機構とを備え、距離計測機構は、基板ホルダーを貫通するように設けられた距離計測用空間と、基板ホルダーの表面上に設けられた透明ガラス板と、距離計測用空間に配置された距離計測部とを備え、距離計測部は、光を発射し反射光を受光して距離を計測する距離計と、距離計を真空処理室内の雰囲気から隔離する距離計筐体と、距離計筐体の一部に設けられた透明ガラス窓とを備え、距離計が、透明ガラス窓を介して透明ガラス板とシャドウマスクとの間の距離を計測するよう、有機ELデバイス製造装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板2上に一定形状の薄膜パターン4を成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、箔状の磁性部材5に薄膜パターン形成領域9に対応して該薄膜パターン4と同形状の貫通する開口パターン6を形成し、磁性部材5が磁力により第1の磁気チャック3の平坦な吸着面3aに吸着されて保持されたマスク1の開口パターン6を、第2の磁気チャック8上に載置された基板2の薄膜パターン形成領域9に位置合わせするステップと、第2の磁気チャック8の磁力により磁性部材5を吸着してマスク1を第1の磁気チャック3から基板2上に移すステップと、マスク1の開口パターン6を介して基板2上の薄膜パターン形成領域9に成膜し、薄膜パターン4を形成するステップと、を行うものである。 (もっと読む)


【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板9上に一定形状の薄膜パターンを成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、可視光を透過し一面に磁性体膜1を被着したフィルム2に薄膜パターン形成領域11に対応して薄膜パターン12と同形状の貫通する開口パターン3を形成し、磁性体膜1側を第1の磁気チャック6の平坦面に吸着して保持されたマスク4の開口パターン3を、第2の磁気チャック10上に載置された基板9の薄膜パターン形成領域11に位置合わせするステップと、第2の磁気チャックにより磁性体膜1を吸着してマスク4を第1の磁気チャック6から基板9上に移すステップと、マスク4の開口パターン3を介して基板9上の薄膜パターン形成領域11に成膜し、薄膜パターン12を形成するステップと、を行うものである。 (もっと読む)


【課題】大型の基板に蒸着を行うための防着板の取付け/取外しが容易で、メンテナンス作業の向上が可能となる真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバと、真空チャンバ内に設けられて蒸着材料を蒸発して供給する蒸着源と、真空チャンバ内に導入された基板を直立した状態でマスクの所定の位置に位置合わせするための機構と、位置合わせ機構により、直立した状態で前記マスクに対して位置合わせされた基板の蒸着表面に沿って、蒸着源を移動させる手段と、マスクと前記蒸着源との間に配置されたベースプレートとを備えた真空成膜装置において、真空チャンバ内において、蒸着源から供給されてマスクを介して前記基板の蒸着表面に蒸着されると共にその周囲にも飛散する蒸発した蒸着材料が付着する壁面に、薄膜状の防着膜100を着脱可能に取り付けるための手段を備える。 (もっと読む)


【課題】 電気的特性に優れた有機EL素子を比較的安価に製造できる方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、第1有機層及び第2有機層の少なくとも2つの有機層と、前記第1有機層と第2有機層の間に両層の形成材料が混在した混合層と、を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する方法において、前記第1有機層の形成材料を含む第1蒸着源721と、前記第2有機層の形成材料を含む第2蒸着源722と、を備える蒸着装置7を用い、前記第1蒸着源721から気化された第1有機層の形成材料を基板73の被処理面に衝突させて基板73の被処理面に第1有機層を形成した後、前記第1有機層の形成材料がマイグレーション状態中に、前記第2蒸着源722から気化された第2有機層の形成材料を前記第1有機層へと衝突させて蒸着する。 (もっと読む)


【課題】アルミの這い上がりを防止して破損が起こりにくい安定な蒸発源を有する成膜装置を提供することである。さらには、基板を垂直にして横方向から蒸着する縦型蒸着に適した成膜装置を提供することである。
【解決手段】少なくとも、坩堝と、加熱部からなり、坩堝は蒸着材料に対する濡れ性の異なる材質からなる2種類の構造からなる坩堝であって、少なくとも開口部は濡れ性の小さい材料からなり、蒸着材料が供給される部分は濡れ性の大きい材料からなる蒸発源を有することを特徴とする成膜装置。 (もっと読む)


【課題】材料容器の中心付近に対して周縁付近を高く加熱することができ、しかも、材料容器に収納した蒸着材料の中心付近と周縁付近との温度差を容易に制御し得て、蒸着材料の気化量変化の応答性を高くすることができる蒸着材料加熱装置とすることができ、よって、基板に付着する被膜の膜厚の均一化に貢献することができる蒸着装置及び蒸着方法とし得て、均一な膜厚の被膜を有する基板を提供する。
【解決手段】本発明は、蒸着材料13を収納した材料容器14と、材料容器14の底面側に配置されて蒸着材料13を加熱する加熱部15と、加熱部15による蒸着材料13の加熱温度を材料容器14の中心から外周に向かう加熱領域に応じて制御する温度制御部と、を備えている。 (もっと読む)


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