【課題】成膜工程における製造歩留まりの向上が可能で、かつ封止工程において基板間の間隔を一定に保つことが可能な有機エレクトロルミネッセンス照明装置の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板１の表面に陽極膜２を成膜する第１の成膜工程と、陽極膜２の表面の全部または一部を連続してまたは断続的に囲むように枠状に配置され、陽極膜２よりも高く互いに同一の高さの複数のスペーサ３を形成するスペーサ形成工程と、複数のスペーサ３の内側で陽極膜２の表面を覆い複数のスペーサ３よりも低い有機発光膜４を成膜する第２の成膜工程と、有機発光膜４の表面を覆い複数のスペーサ３よりも低い陰極膜５を成膜する第３の成膜工程と、複数のスペーサ３を被覆し陰極膜５を介して有機発光膜４の外周を連続して囲むシール部６を形成するシール部形成工程と、封止基板７をシール部６で複数のスペーサ３に取り付けて内部空間８を覆う封止工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】成膜室の真空槽内で従来より効率的に成膜マスクから付着物を除去できる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】
真空槽１１内に配置され、薄膜材料４５の蒸気を放出する放出容器３１に、ガス供給装置５０から反応ガスを導入する。放出容器３１の放出孔３４から放出される反応ガスは成膜マスク２１の付着物と反応して反応生成物ガスを形成し、反応生成物ガスは真空排気される。放出容器３１と成膜マスク２１との間に電圧を印加して反応ガスをプラズマ化することもできる。成膜マスク２１に周期的に負電位を印加すると、プラズマ中のイオンが成膜マスク２１に引き寄せられて衝突するのでより効率的に付着物を除去できる。成膜マスク２１に負電位を印加する間に放出容器３１に負電位を印加すると、放出容器３１からも付着物を効率的に除去できる。 （もっと読む）

【課題】高精度の成膜パターン形成を実現させるためのメタルマスクを提供する。
【解決手段】金属フレーム１０に、所定の開孔パターン（開孔部１２）が形成された金属箔１１が接合されているメタルマスク１であって、金属フレーム１０の内縁１０ａよりも内側に基板２０を配置し、基板２０を金属箔１１のみで支持し、金属箔１１の基板２０の縁部と対向する部分において、金属箔１１の厚さ方向に段差を設けて基板２０の縁部と金属箔（１１ｂ）とが接触しない構造としたこと特徴とする、メタルマスク１。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ドライ洗浄方法において、スループット向上し処理枚数を増やすことができるマスクドライ洗浄装置または洗浄方法を提供すること、あるいは上記マスクドライ洗浄装置を蒸着装置に隣接して設けることで短時間に洗浄できる稼働率の高い製造装置を提供することである。
【解決手段】本発明はレーザ光源から出射されるレーザ光をマスクに付着した付着蒸着材料に照射し該マスクを洗浄する際に、前記レーザ光を円形状から楕円形状に変更し、該楕円形状のレーザ光を前記マスクの前記付着蒸着材料に照射し洗浄することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】テーパ形状の開口部が多数形成された有機ＥＬ用マスクに付着した有機材料を高い洗浄度でレーザクリーニングを行うことを目的とする。
【解決手段】テーパ部１２Ｔを有する開口部１２を形成した有機ＥＬ用マスク１の表面に付着した有機材料を剥離するために有機ＥＬ用マスクの表面１を走査するレーザ光Ｌを発振するレーザ光源３１と、有機ＥＬ用マスク１の表面よりもレーザ光Ｌの入射側で焦点を結ぶように有機ＥＬ用マスク１の表面とレーザ光Ｌの焦点位置との相対位置関係を調整する焦点位置調整手段とを備えている。これにより、レーザ光Ｌは有機ＥＬ用マスク１の表面よりもレーザ光Ｌの入射側に離間した位置で焦点を結ぶため、有機ＥＬ用マスク１に拡散光を照射することができ、テーパ部１２Ｔに大きな角度でレーザ光Ｌを照射できるようになる。 （もっと読む）

【課題】表示領域外における画素分離層と蒸着マスクとの接触回数を減少させ、表示領域外の画素分離層上に転写する異物を低減して、保護層端部の水分遮断性能を向上する。
【解決手段】少なくとも、下部電極２、画素を分離する画素分離層４、発光層６を含む有機化合物層、及び保護層を備える有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、発光層６の形成領域内に存する画素分離層４Ａのみに蒸着マスク２２を接触させた状態で、発光層６を形成する工程と、発光層６の形成領域外、かつ上部電極８の形成領域内に存する画素分離層４Ｂのみに蒸着マスク２１を接触させた状態で、発光層６を除く有機化合物層５，７を形成する工程と、上部電極８の形成領域よりも面方向外方に存する画素分離層４Ｃのみに蒸着マスク２３を接触させた状態で、上部電極８を形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】支持体へのダメージの少ない、高精細なパターン電極の製造方法及びそのパターン電極を用いた有機電子デバイスを提供すること。
【解決手段】支持体１１上に形成された導電性ポリマーを含有する導電層を含むパターン電極１３Ｂの製造方法において、該パターン電極が、支持体上に導電性ポリマー液を塗布して導電層１３を形成し、該導電層の上に紫外線非透過性のマスク１４を載置し、次いで該マスクの上方からエキシマ光照射をすることでパターンを形成することを特徴とするパターン電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用マスクに対して復元不能なダメージを与えることなく、且つクリーニング速度の高速化を図ることを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ用マスク１の表面に付着した有機材料５０を剥離するためのレーザ光Ｌを発振するレーザ光源３１と、レーザ光Ｌの強度分布をガウス形状から平均的な分布（トップハット形状）に変換するビーム整形光学系３３と、強度分布が変換されたレーザ光Ｌを有機ＥＬ用マスク１の表面に走査させるＸガルバノミラー３５およびＹガルバノミラー３６を有する走査光学系と、を備えている。この構成により、レーザ光Ｌの強度分布が平均的になり、有機ＥＬ用マスク１に復元不能なダメージを与えなくなり、且つクリーニング速度が高速化する。 （もっと読む）

【課題】安価かつ簡易な方法で洗浄することができ、付着していた蒸着物の回収を容易に行うことができるメタルマスクを提供する。また、該メタルマスクの洗浄方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一方の表面に親水性コーティングが施されたメタルマスクであって、前記親水性コーティングは、ケイ酸ナトリウムを５〜４０重量％、四ホウ酸ナトリウム十水和物を０．０１〜１．５重量％含有する水溶液Ａ、又は、ケイ酸ナトリウムを５〜４０重量％、リン酸ナトリウムを０．０１〜１．６重量％含有する水溶液Ｂをメタルマスクの少なくとも一方の表面に塗布した後、乾燥させるものであるメタルマスク。 （もっと読む）

【課題】基板の角部においてもマスクと基板の密着性を確保することができる真空成膜用マスクを提供する。
【解決手段】開口が設けられている金属箔１０と、金属箔１０を固定する金属フレーム１１と、金属フレーム１１の内縁の辺部に設けられ、金属箔１０を介して基板２０を支持する基板受け部１２と、から構成され、基板２０を金属箔１０上に載置したときに、基板２０の辺部が基板受け部１２にて支持されており、基板２０の角部が基板受け部１２にて支持されていないことを特徴とする、真空成膜用マスク１。 （もっと読む）

【課題】低コストで高精度に製造できる有機ＥＬ表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】正孔輸送層、発光層および電子輸送層のうち少なくとも１つの層を形成する工程は、層の膜材料層を形成する工程と、膜材料層と間隔を隔てて所定のパターンが形成されたマスクを配置して、マスクと膜材料層との間に活性ガスを導入しながら、マスクを介して膜材料層に活性化エネルギーを付与する工程と、を有する。光エッチング法によりパターニングを行って有機ＥＬ素子を形成するため、蒸着マスクを用いて塗り分けを行う場合に比べ、低コストかつ高精度に有機ＥＬ表示装置を製造できる。 （もっと読む）

【課題】基板の自重たわみを安定させると共にこのたわみを利用して基板との密着を容易にする蒸着用メタルマスクを提供する。
【解決手段】金属フレーム１０と、金属フレーム１０に固定され、複数の開口１１を有する金属箔１２と、から構成され、金属フレーム１０の内縁の角部に基板受け部１３が設けられ、基板受け部１３のみによって基板２０が支持されることを特徴とする、蒸着用メタルマスク１。 （もっと読む）

【課題】大型マスクが洗浄可能で、マスクへの物理的・熱的な要因の印加や環境への負荷増大のない、有機ＥＬ用マスククリーナ装置と方法を提供する。
【解決手段】蒸着工程において表面に付着した有機物を含むマスクから、当該表面に付着した有機物を除去するためのドライ完結型有機ＥＬ用マスククリーナ装置は、レーザ洗浄を行うレーザ洗浄装置（１０）と、酸素プラズマによるアッシングを行う酸素アッシング装置（２０）と、ＥＵＶをマスクの表面に照射するＥＵＶ装置（３０）と、大気圧プラズマ処理を行う大気圧プラズマ処理装置（４０）とを備え、互いに隣接して配置すると共に、マスクを搬送するための搬送手段（５０）が設けられている。 （もっと読む）

【課題】単位マスクに加えられる引張力によって単位マスクに形成されたパターン開口部の形状が変形することを抑制したマスク、及びこれを含むマスク組立体を提供する。
【解決手段】マスク組立体は、開口部を含むフレーム及び開口部上に位置し、一方向に引張力が加えられた状態で両端部がフレームによって支持される１つ以上の単位マスクを含み、単位マスクは一方向に配置された複数のパターン開口部及びパターン開口部と隣接してパターン開口部と単位マスクの枠の間に位置し、単位マスクの表面に陥没形成された第１グルーブを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ドライ洗浄方式において、表面を洗浄(剥離)しながら裏面も洗浄(剥離)できるマスク洗浄装置または洗浄方法を提供すること、あるいは上記マスク洗浄装置を蒸着装置に隣接して設けることで短時間に洗浄できる稼働率の高い有機ＥＬ製造装置を提供することである。
【解決手段】マスクに付着した蒸着材料にレーザ光を照射しマスクを洗浄する際に、マスクの蒸着面である表面に該レーザ光を照射し該表面を洗浄し、前記レーザ光を前記マスクの裏面へ照射し該裏面も洗浄することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着用マスク・アセンブリ、及びこれを利用した有機発光装置、並びにこの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に互いに対向するようにパターン化された第１電極並びに第２電極と、第１電極並びに第２電極間に形成された複数の有機膜とを含むが、該有機膜は、少なくとも複数個のストライプ型の有機膜と、１つの不連続的なドット型の有機膜を含む、有機発光装置、並びにこの製造方法であり、赤色、緑色及び青色の有機膜をコンパクトに配列できるので、高解像度の小型製品の製作が可能である。 （もっと読む）

【課題】マスクフレームを備えない単体のマスクを基板上に搬送し、又は基板に対するマスクの位置調整を行うべく、マスクを皺無く保持することができるマスク保持装置を提供する。
【解決手段】磁性材料を含み、基板上に薄膜をパターン形成するための開口が形成されたシート状のマスクを保持するマスク保持・位置あわせ装置５に、一面側に配された複数の永久磁石によって、他面側にマスクが磁着されるマスク磁着板５４を備え、前記複数の永久磁石は、マスク磁着板５４の他面側における第１領域の磁場の分布と、該他面側における第２領域の磁場の分布とが異なるように構成する。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まりが向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着物質１１５を放射する蒸着源１１０と、蒸着源１１０の一側に配され、複数の蒸着源ノズル１２１が形成された蒸着源ノズル部１２０と、蒸着源ノズル部１２０と対向して配され、複数のパターニングスリット１５１が配されるパターニングスリットシート１５０と、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間に配されて、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板１３１を備える遮断板アセンブリー１３０と、パターニングスリットシート１５０に対する基板５００の相対的な位置を検出する位置検出部材と、基板５００に対するパターニングスリットシート１５０の相対的な位置を変化させるアライン制御部材と、を備える薄膜蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】真空内を機構が簡単で基板の蒸着面を上面にして搬送ができ、前記上面搬送においても高精彩に蒸着可能な有機ＥＬデバイス製造装または同製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。
【解決手段】
真空内を基板の蒸着面を上面にして搬送し、少なくとも前記基板が移動する場合には前記基板の搬送面が摺動しないように保持し、前記真空チャンバ内で前記基板を受渡し、その後前記基板を垂直または略垂直にたてて蒸着する。
また、上面搬送されてきた複数の基板を一つの真空蒸着チャンバ内で同一の蒸着源で交互に蒸着する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の大型蒸着マスクを効率よく洗浄し、蒸着マスクの利用回数を上げることができる装置を実現する。
【解決手段】蒸着マスク２は第１の面と第２の面を有し、前記第１の面には蒸着剤が付着しており、前記蒸着マスクの第１の面の周辺が前記蒸着マスクよりも厚さの大きい枠部３に取り付けられている。レーザ照射手段によって、第１の面にレーザ１０を照射して蒸着剤を蒸着マスクから剥離する。ノズルを有する第１の洗浄手段６によって蒸着マスクの第１の面に洗浄液を照射し、ノズルを有する第２の洗浄手段６によって超音波を印加した洗浄液を蒸着マスクの第２の面に照射する。これによって、蒸着マスク２の近傍において、超音波が印加された洗浄液を照射することが出来る。したがって、蒸着マスクを効率よく洗浄することが出来る。 （もっと読む）