【課題】有機ＥＬ素子の大型蒸着マスクを効率よく洗浄し、蒸着マスクの利用回数を上げることができる装置を実現する。
【解決手段】蒸着マスク２は第１の面と第２の面を有し、前記第１の面には蒸着剤が付着しており、前記蒸着マスクの第１の面の周辺が前記蒸着マスクよりも厚さの大きい枠部３に取り付けられている。レーザ照射手段によって、第１の面にレーザ１０を照射して蒸着剤を蒸着マスクから剥離する。ノズルを有する第１の洗浄手段６によって蒸着マスクの第１の面に洗浄液を照射し、ノズルを有する第２の洗浄手段６によって超音波を印加した洗浄液を蒸着マスクの第２の面に照射する。これによって、蒸着マスク２の近傍において、超音波が印加された洗浄液を照射することが出来る。したがって、蒸着マスクを効率よく洗浄することが出来る。 （もっと読む）

【課題】基板を一方的にマスクに押し付けても基板とマスクを十分に密着させることができない。静電吸着により基板とマスクの双方を引き合わせることで、基板とマスクを十分に密着させて真空成膜（蒸着、スパッタリング等）を行うことにより、パターン精度の高い表示パネルを提供する。
【解決手段】１または複数の表示パネル用回路が形成される基板４２０とマスク５２０とを重ねて配置し、当該基板が前記マスクに静電吸着するように、当該マスクに電圧を印加し、当該基板に当該マスクを介して真空成膜する。 （もっと読む）

【課題】レーザ光を用いたドライ洗浄による洗浄効率を向上させ、洗浄むらの発生を抑制する。
【解決手段】マスク部材１を位置調整手段２１により位置調整可能な昇降部材１１に装着して、マスク板２に対してレーザ光照射手段１５におけるレーザ発振器１３からのレーザ光をスキャニング光学系１５によって、マスク板２の主走査方向に微小移動させながらレーザ光のパルスを照射し、１ライン分の走査が終了すると、副走査方向に１ピッチ分ずらせて走査を継続するようになし、マスク板２の全面にレーザ光のスポットを照射することによりドライ洗浄を行うに当って、ドライ洗浄開始前に撮像手段２０によりマスク部材１のアラインメントマークＭを基準として、レーザ光の微小スポットＳがマスク板２の格子部４ｂに照射されるように位置調整する。 （もっと読む）

【課題】現状サイズのメタルマスクを用い、１１００×１３００ｍｍ以上のメタルマスクとして機能させた大型メタルマスクを提供する。
【解決手段】矩形状で同一サイズの２枚のメタルマスク１０を、固定用マスク２０を介して左右に隣接して繋ぎ合わせ、前記メタルマスクの２倍の面積を有する１枚のメタルマスク３０−２として機能させたこと。固定用マスクの左位置合わせマーク２１Ｌに左メタルマスクの右位置合わせ貫通孔１１Ｒを合わせ、右位置合わせマーク２１Ｒに右メタルマスクの左位置合わせ貫通孔１１Ｌを合わせ、固定用マスクに左メタルマスク及び右メタルマスクが重なる部分をスポット溶接５０で接合させる。 （もっと読む）

【課題】大型基板に対応可能な蒸着マスク、蒸着装置、蒸着方法を提供する。
【解決手段】
蒸着マスク１０上で開口部１１をその中心間距離が基板５０のピクセル５１ａ₁、５１ａ₂の中心間距離の２倍になるように形成する。この蒸着マスク１０を基板５０上に配置し、各ピクセル５１ａ₁、５１ａ₂、５１ａ_xの上方に開口部１１と遮蔽部１９が交互に配置されるように位置合わせした状態で、開口部１１と対面するピクセル５１ａ₁を成膜し、次いで蒸着マスク１０をピクセル５１ａ₁、５１ａ₂の中心間距離だけ移動させ、移動前に遮蔽部１９と対面していた未成膜のピクセル５１ａ₂、５１ａ_xの上方に開口部１１を位置させ、その状態で未成膜のピクセル５１ａ₂、５１ａ_xに薄膜を成膜する。開口部１１の間隔が従来より広いため、開口部１１形成の際に蒸着マスク１０が破損する虞を従来より低減でき、大型の蒸着マスク１０の製作が容易になる。 （もっと読む）

基板を取り扱う特にコーティングする装置において、プロセスチャンバ1と、その中で処理される基板12を格納するべく搭載開口6,7を介してプロセスチャンバ1に接続された、又は、処理プロセスで用いるマスク10,10'、10"、10'"を格納する少なくとも１つの格納チャンバ2,3と、搭載開口6,7を通して基板又はマスクをプロセスチャンバ1に搭載し又は取り出す搬送装置13と、開始物質をキャリアガスとともにプロセスチャンバ1に導入するべく温度制御可能なガス入口要素4と、処理される基板12を受容するべくガス入口要素4に対向して位置するサセプタ5と、遮蔽位置にあるときガス入口要素4とサセプタ5又はマスク10の間に位置して基板12又はマスク10をガス入口要素4からの熱の影響から遮蔽する遮蔽プレート11と、遮蔽プレート11を基板12の処理前にガス入口要素4に相対する遮蔽位置から格納位置へ移動させ基板12の処理後に格納位置から遮蔽位置に戻す遮蔽プレート移動装置15,16と、を有する。格納位置では遮蔽プレート11が格納チャンバの内部にある。
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【課題】ドナー基板への正確なレーザ照射が可能であるだけでなく、マスクによってレーザビームが反射されてレーザ発生器を損傷させることを防止する。
【解決手段】本発明は、透過領域を含む透明基板；前記透過領域を除いた透明基板の後面に位置する反射膜パターン；及び前記透明基板の前面及び後面のうちの少なくともいずれか一つの面に位置する散乱部を含み、前記散乱部は、前記反射膜パターンと対応する位置に形成されるマスク、及びこれを利用した有機電界発光表示装置の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】パターニングの精度を向上させるための真空蒸着用マスク及びこれを備えた真空成膜装置を提供する。
【解決手段】金属フレーム２と、開口パターンが形成され、金属フレーム２に固定される金属箔４と、から構成され、金属フレーム３のうち、金属箔３を介して被成膜基板（基板１）を支持する領域の少なくとも一部に弾性体３が設置されていることを特徴とする、真空成膜用マスク１１及びこのマスク１１を備えた真空成膜装置１０。 （もっと読む）

【課題】微細メタルマスクの交換回数を低減する。
【解決手段】基板１００の上部の赤色、緑色、青色サブピクセルに備えられた第１電極１２０と、第１電極１２０を覆うように基板１００の上部に備えられた正孔注入層１３１と、正孔注入層１３１の上部に備えられた正孔輸送層１３３と、赤色サブピクセルの正孔注入層１３３と正孔輸送層１３５との間に備えられた補助層と、赤色サブピクセル及び緑色サブピクセルの正孔輸送層１３５の上部に順次形成された赤色発光層１３４Ｒと緑色発光層１３４Ｇ、及び青色サブピクセルの正孔輸送層１３５の上部に備えられた青色発光層１３４Ｂと、を備える。 （もっと読む）

【課題】金属薄板に多数のストライプ状の開口部を多段エッチングにて形成する際に、ストライプ状の端部近傍の開口部の幅が広がることなく、良好な寸法精度のエッチング製品を提供する。
【解決手段】金属薄板１の第一面に多数のストライプ状に形成された小孔パターン３ａを有し、前記第一面の他面には、前記第一面の小孔パターンと対向して位置合わせ形成されたストライプ状の第一大孔パターン３ｂを有し、前記ストライプ状の大孔パターン端部の外側には延長して形成された非貫通の大孔パターンを備えており、前記小孔パターンと第一大孔パターンは貫通したストライプ状の開口部Ｋを形成している。 （もっと読む）

【課題】パターンの形成方法及び有機発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のパターンの形成方法は、電流が流れる位置を選択的に制御することによって、電場が発生する位置を選択的に制御できる電磁石基板１０を提供するステップと、パターンが形成されうるパターニング基板２０を提供し、パターニング基板２０の一面に電磁石基板１０を整列させるステップと、電磁石基板１０に選択的に電流を加え、パターニング基板２０の他面に電場に反応するマスキング粉末３０を近接させるステップと、パターニング基板２０の他面にパターンの形成物質４０を供給するステップと、電磁石基板１０に流れる電流を遮断するステップと、を含む。これにより、大型基板に高精度のパターンを具現でき、パターンの形成後にマスキング粉末の除去が容易で基板の汚染を防止できる。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向するように配され、第１方向に対して垂直である第２方向に沿って複数個のパターニング・スリットが形成されるパターニング・スリットシートと、を含み、基板が薄膜蒸着装置に対して、第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、蒸着源、蒸着源ノズル部及びパターニング・スリットシートは、一体に形成されることを特徴とする薄膜蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】高解像度有機薄膜パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】高解像度有機薄膜パターンの形成方法に係り、（ａ）基板上に第１有機層を形成する段階と、（ｂ）第１有機層に選択的に光エネルギーを照射し、第１有機層を選択的に除去し、第１有機層の残っている部分に犠牲層を形成する段階と、（ｃ）基板及び犠牲層上の全面に、第２有機層を形成する段階と、（ｄ）ソルベントを使用し、犠牲層を除去し、犠牲層上に形成された第２有機層をリフトオフすることによって、残っている第２有機層に第２有機層パターンを形成する段階と、を含む有機薄膜パターンの形成方法である。 （もっと読む）

【課題】クティブマトリクス型の発光装置を作製するにあたり、従来に比べ短時間内で製
造でき、且つ、低コストで歩留まりよく製造できる構造及び方法を提供する。
【解決手段】アクティブマトリクス型の発光装置の画素部に配置されるＴＦＴの半導体層
に接して形成される金属電極、或いは電気的に接続される金属電極を積層構造とし、部分
的にエッチング加工する。そして、エッチング加工された金属電極を発光素子の第１の電
極とし、その上にバッファ層と、有機化合物を含む層と、第２の電極とを積層することを
特徴とする。 （もっと読む）

【課題】所定パターンに形成された複数のスリットを含むマスク組立体を用いて蒸発源から放射される蒸発物質を選択的に基板に蒸着する蒸着装置において、上記蒸発源のノズル構造を変更してシャドー効果を最小化する蒸発源及びそれを用いた蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明の蒸発源は、一側が開口され、蒸発物質が保存されるるつぼと、上記るつぼの開口側に位置し、内壁の一部領域が傾斜された１つまたは複数のノズルを含むノズル部と、加熱部と、るつぼ、ノズル部及び加熱部を収納するためのハウジングとを含み、ノズル部の最大放射角は６０゜未満であることを特徴とする。また、本発明の蒸着装置は、工程チャンバと、内壁の一部領域が傾斜された１つまたは複数のノズルを含む蒸発源と、基板ホルダと、側面が表面を基準に第１傾斜角度をなす複数のパターンが形成されたマスクとを含み、蒸発源の最大放射角は上記第１傾斜角度以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、微小な欠陥を検出することができ、または／及び画素修復の成功率が高く、或いは／並びに自動化が容易で生産性の高い有機ＥＬディスプレイパネル修正設備及び修正方法を提供することにある微小な欠陥を検出でき、欠陥修復成功率や設備安定性が高く、パラメータ設定が容易で量産性の高い有機ＥＬディスプレイパネル修正設備を提供する。
【解決手段】本発明は、有機ＥＬ膜による画素が形成されたマザー基板上の前記画素の欠陥をレーザ光を照射して修正する際に、前記欠陥の位置情報と大きさに基づいて前記レーザ光を透過させる光透過パターンを有するホトマスクを介して前記欠陥の位置に照射することを第1の特徴とする。また、非点灯不良画素の画像と正常画素との画像を比較して非点灯不良画素内の前記欠陥の位置と大きさを検出することを第2の特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとの間の静電気を除去できる薄膜蒸着装置及びこれを利用した静電気除去方法を提供する。
【解決手段】基板１１０を支持するホルダー１０２と、基板の一面に対向するように配されるマスク１０３と、基板とマスクとの間に発生した静電気をマスクに電流を流して除去する静電気除去部１２０と、を備える薄膜蒸着装置とする。 （もっと読む）

【課題】有機発光装置における発熱による劣化や発光効率の低下、輝度分布の拡大等の問題を低減する。
【解決手段】（ａ）透光性基板１上に、透光性の第１の導電性電極層２、有機発光層を含む積層体層３、第２の導電性電極層４を順次形成した後、レーザービームを透光性基板側から照射し、積層体層及び第２の導電性電極層の一部を同時に除去して第１の導電性電極層の一部を露出させる第１の開口部５を設ける工程、（ｂ）第２の導電性電極層及び第１の開口部の上に絶縁体層を少なくとも１層含む絶縁体含有層６を形成した後、レーザービームを透光性基板側から照射し、第１の開口部の上にある絶縁体含有層の一部を除去して第１の開口部と内接しない位置に透光性の第１の導電性電極層の一部を露出させる第２の開口部７を設ける工程、（ｃ）絶縁体含有層及び第２の開口部の上に第３の導電性電極層８を形成する工程を含む有機発光装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】複数の隔壁を用いて、るつぼの内部空間を分離する線形蒸発源において、るつぼの分離された空間に残存する蒸発物質量の偏差を最小化し、成膜の不均一が防止できる線形蒸発源及びそれを用いた蒸着装置を提供する。
【解決手段】一側が開口され、蒸発物質を保存するるつぼ３２０と、るつぼの内部空間を分割し、下部に１つまたは複数の貫通ホール３２５ｂが形成される複数の隔壁３２５と、るつぼの開口側に位置し、複数のノズル３３５を含むノズル部と、るつぼを加熱するための加熱手段３４０と、るつぼ、ノズル部、及び加熱手段を収納するためのハウジング３１０とを含む線形蒸発源３００。また、工程チャンバ２００と、該工程チャンバの一側に位置する線形蒸発源３００と、線形蒸発源に対向するように位置する基板ホルダ５００とを含む蒸着装置１００。 （もっと読む）

【課題】マスクを大型化する場合に、補助フレームによるシャドー現象の生じない蒸着用マスク、その製造する方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】第１分割マスク１７０ａ及び第２分割マスク１７０ｂを含む蒸着用マスクにおいて、第１分割マスク１７０ａ及び第２分割マスク１７０ｂは直接溶接され、各分割マスクの相互に対向する側面に溶接面が形成されることを特徴とする。本発明は補助フレームを用いず、分割マスクを直接溶接するため、従来のようなシャドー現象が発生せず、破断強度においても好適な溶接品質を確保することができる蒸着用マスクが提供される。 （もっと読む）