蒸着源、処理ドラム、駆動ローラー、およびシャドウマスクを備える、連続ロールツーロール蒸気ベース蒸着プロセスにおいてパターン形成コーティングをＯＬＥＤ基材に施すための装置が形成され、シャドウマスクは、基材上へのコーティングの蒸着を選択的に妨げるマスクライン特徴体を備える。コーティングを施すための方法も提示される。 （もっと読む）

【課題】高い製造効率で発光特性に優れた発光パネルを量産化することができる発光パネルの製造装置及びその製造方法を提供する。また、素子寿命や発光特性に優れ、発光輝度のばらつきが抑制された発光パネルを備えた電子機器を提供する。
【解決手段】ノズルコート成膜装置１００は、基板１１表面へのインクの塗布工程においては、基板１１表面に塗布用マスク２１を密着させた状態で、ノズルヘッド１１１をＸ方向に走査させて、塗布用マスク２１の各列のスリット２１ａ内にインクを塗布する。次いで、全ての列のスリット２１ａ内に有機溶液１４ｘが塗布、充填された基板１１を、減圧した状態で加熱処理して、均一かつ一括して乾燥させて、各画素ＰＩＸのＥＬ素子形成領域Ｒelに露出する画素電極１２上に有機ＥＬ層１４を成膜する。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法。蒸着源１１０から放出された蒸着物質１１５を、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１５０を通過させて基板４００に所望のパターンで蒸着させる。遮断板アセンブリ１３０とパターニングスリットシート１５０との温度が十分に低ければ、所望しない方向に放射される蒸着物質１１５は、いずれも遮断板アセンブリ１３０面に吸着されて高真空を維持できるため、蒸着物質間の衝突が発生せずに、蒸着物質の直進性を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】良好な表示性能を確保しつつ、より簡便に製造可能な表示装置を提供する。
【解決手段】この表示装置は、基体上に、第１電極層、発光層を含む有機層、および第２電極層が順に積層されてなる有機発光素子１０を含む画素１が、第２電極層と接続された補助配線層１７によって区画された画素領域１７Ｒに形成されたものである。画素１は、隣り合う有機発光素子１０同士の間隔Ｄ１よりも広い間隔Ｄ２を有するようにＸ方向へ複数配列されており、補助配線層１７は、隣り合う画素１同士の間に設けられている。このため、異なる発光色を示す有機発光素子１０同士の距離を近づけつつ、補助配線層１７の幅を太くするのに有利な構造となっている。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬパネル及びその製造方法において、有機ＥＬ素子の構成要素に係る成膜領域の未成膜部分を無くすことで、リークの発生を防ぎ、部分的な輝度変化や色度変化を防ぎ、良好な絶縁性能及び封止性能を確保する。
【解決手段】基板１１上に形成される有機ＥＬ素子１０は、一対の電極１２，１４間に有機発光機能層を含む有機層３０が挟持された層構造を有している。成膜用マスクの一つの開口部に応じて均一成膜材料で形成される発光層３２の成膜領域Ｓが、第１の発光層３２Ａと第２の発光層３２Ｂからなる複数の層によって形成されており、この各層は、成膜用マスクの設定変更毎に成膜されている。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】複数個の蒸着アセンブリ１００、２００、３００を含み、蒸着アセンブリそれぞれは、蒸着物質を放射する蒸着源１１０と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向するように配され、第１方向に沿って複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリット・シート１５１と、蒸着源ノズル部とパターニングスリット・シートとの間に、第１方向に沿って配され、蒸着源ノズル部とパターニングスリット・シートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数枚の遮断板１３１を具備する遮断板アセンブリとを含み、該薄膜蒸着装置は、基板４００と所定距離離隔されるように形成され、薄膜蒸着装置と基板は、いずれか一側が他側に対して、相対的に移動自在に形成される。 （もっと読む）

【課題】高い精度で金属を加工する。
【解決手段】金属板２１０の両面にフォトレジスト液を塗布し、フォトレジスト膜２２０及び２３０を形成し（ステップＳ１０２）、引き続き、フォトレジスト膜２２０及び２３０の露光と現像を行い、孔を開ける部分のフォトレジスト膜２２０及び２３０を残すように、他のフォトレジスト膜２２０及び２３０を除去する（ステップＳ１０３）。次に、フォトレジスト膜２２０及び２３０が形成された金属板２１０の両面に、金属薄膜２４０及び２５０を形成する（ステップＳ１０４）。引き続き、フォトレジスト膜２２０及び２３０を除去すると同時に、フォトレジスト膜２２０及び２３０の上に形成された金属薄膜２４５及び２５５を除去する（ステップＳ１０５）。最後に、この金属板２１０をエッチング液に浸し、エッチングを行い、金属板２１０に高精度の孔を形成する（ステップＳ１０６）。 （もっと読む）

【課題】本発明は、一定の力でマスクと基板の間に力を加えてパターン精度の高い真空成膜を可能にすることを目的としている。
【解決手段】基板１２とマスク１０を重ねて配置する。基板１２を、錘２６の重さによってマスク１０の方向に押圧して撓ませる。基板１２の撓んだ部分によって、マスク１０を押圧して撓ませる。撓んだ基板１２と撓んだマスク１０とを密着させて真空成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】発光パネルを設計変更することなく、キャリア輸送層の成膜不良を低減する。
【解決手段】ＥＬパネル１の基板１０における塗布領域Ｒ１に液状体Ｌを塗布する際に使用するマスク３０の枠部３２は、基板１０の非塗布領域Ｒ２よりも広い範囲を有しており、塗布領域Ｒ１における凹部１３ｂにキャリア輸送層となる液状体Ｌを塗布する前後に、その広い枠部３２にＥＬパネル１の発光に寄与しない液状体Ｌをより多く塗布することで、その液状体Ｌが乾燥する際に蒸発する溶媒の量を増加させて、基板１０の周囲の溶媒分子分圧を高めることができ、塗布領域Ｒ１に塗布した液状体Ｌの乾燥を安定させて、その液状体Ｌの乾燥時間をほぼ一定にすることができるので、液状体Ｌの乾燥ムラを抑えて、キャリア輸送層（正孔注入層８ｂ、発光層８ｃ）の膜厚ムラを低減し、そのキャリア輸送層の成膜不良を低減することを可能にした。 （もっと読む）

【課題】単結晶半導体基板を分割して得られた成膜マスクであって、分割時に生じるバリ等で表面の平滑性が損われない成膜マスク。
【解決手段】支持基板３０と支持基板３０に取り付けられた複数のチップ２０とからなり、被成膜基板４２に対向する第１表面１１と膜材料源に対向する第２表面１２とを有する成膜マスク１０であって、チップ２０は、単結晶半導体基板７に枠状の溝１６を第１表面１１側から形成後、溝１６に外力を加えて破断分割して得られたチップ２０であり、チップ２０の側面部は溝１６の一部である平滑面１９と破断分割時に生じた破断面１８とを有しており、破断面１８は第１表面１１側には形成されていないことを特徴とする成膜マスク。 （もっと読む）

【課題】低硬度の材料層に蒸着マスクを密着させると、硬度差により傷が発生し、完成後の有機ＥＬ装置の表示品質を低下させる。このような既形成層に与える損傷を低減する蒸着マスクを提供する。
【解決手段】被蒸着基板に対向する第１表面と蒸着源に対向する第２表面とを有し、被蒸着基板のパターン形成領域に対応する領域である第１の領域に形成された開口部２２と、開口部２２の周辺領域の第１表面側に形成されたスペーサー３５と、を有する蒸着マスクとする。 （もっと読む）

【課題】マスクの開口幅を確保しつつマスクの寿命を長くさせると共に作業効率を良好にする有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１０と、二種類以上の副画素（１１ｇ、１１ｒ、１１ｂ）からなる複数の画素１１と、から構成され、画素１１が、基板１０の表示領域上に並置して設けられ、該副画素のうち一種類の副画素が、所定の間隔を持って設けられる特定副画素である有機ＥＬ表示装置１の製造方法において、該特定副画素を、以下の工程（ｉ）〜（ｉｉ）により形成することを特徴とする、有機ＥＬ表示装置１の製造方法。
（ｉ）表示領域の側端から数えて２ｎ−１（ｎは、１以上の整数を表す。）番目の特定副画素に対応する位置に開口を有するマスクを使用し、該側端から数えて２ｎ−１番目の特定副画素を選択的に形成する工程
（ｉｉ）該側端から数えて２ｎ（ｎは、１以上の整数を表す。）番目の特定副画素に対応する位置に開口を有するマスクを使用し、該側端から数えて２ｎ番目の特定副画素を選択的に形成する工程 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】大型基板量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置に係り、これを具現するために、基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着源；蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の第１スリットが形成される第１ノズル；蒸着源と対向するように配され、第１方向に沿って複数個の第２スリットが形成される第２ノズル；第１ノズルと第２ノズルとの間の空間を区画するように、第１方向に沿って配された複数個の遮断壁を具備する遮断壁アセンブリ；第２ノズルと基板との間隔を制御する間隔制御部材と、第２ノズルと基板との間のアラインを調節するアライン制御部材とのうち、少なくとも一つ；を含む薄膜蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】品質（電気光学特性）を向上させることができる電気光学装置、電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】被成膜基板１１ａと、被成膜基板１１ａの表面（素子形成側）に設けられた発光素子２７の領域と、被成膜基板１１ａの表面と対向する裏面に設けられた磁性体膜４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】大型基板量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の第１スリットが形成される第１ノズルと、第１ノズルと対向するように配され、第１方向に沿って複数の第２スリットが形成される第２ノズルと、第１ノズルと第２ノズルとの間に第１方向に沿って配されて、第１ノズルと第２ノズルとの間の空間を複数の蒸着空間に区画する複数の遮断壁を備える遮断壁アセンブリーとを備える薄膜蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】熱の伝達効率が悪いテンションマスクを効率的に冷却し、高精細なパターン形成を可能にする。
【解決手段】マスク箔を用いるテンションマスクであるマスク５を介して基板４に成膜材料を付着させることによりパターン形成を行う蒸着方法において、蒸着後のマスクを冷却することなく再使用可能であるか否かを判定する工程を設ける。再使用可能である限り複数枚の基板に対して同じマスクを繰り返し使用し、再使用不可と判定した場合は、冷却ユニット１４を有するマスクストック室２に搬送し、冷却した後に蒸着室１に戻して再使用する。 （もっと読む）

【課題】レーザ照射時に発生する応力を防止して切断面の割れ不良を減少させることのできるレーザ照射装置を提供する。
【解決手段】本発明のレーザ照射装置は、第１基板１０１を載置するステージ１１０と、第１基板１０１と第２基板１０２との間に配置される接合部材１０３にレーザを照射するレーザ発振部材１２０と、第１基板１０１の温度を所定の温度に維持する温度維持部材１５０と、接合部材１０３に対応する部分にパターンが形成されたマスク１４０とを備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板を搬送しながら行う蒸着において、蒸着位置精度を向上して緻密なパターンの形成を可能にする。
【解決手段】蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂによる蒸着位置の基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられた撮像手段４により、蒸着マスク１６Ｂに形成されたアライメントマークと有機ＥＬ表示用基板９表面に予め形成されたピクセルとを撮像し、該撮像画像に基づいてアライメントマークの基準位置とピクセルの基準位置との間の位置ずれ量を検出し、該位置ずれ量が所定値となるようにアライメント手段５により蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを上記基板面に平行な面内にて搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせしながら、搬送中の有機ＥＬ表示用基板９のピクセル上に所定のパターンを蒸着して形成するものである。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着用マスクフレーム組立体、その製造方法及び有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】開口部及び支持部を備えるフレームと、開口部に対応して位置する蒸着領域を備えるマスクと、を備え、マスクは、蒸着領域が備えられ、蒸着領域の外郭に配置された縁部を備える第１層と、互いに対向した第１面及び第２面を有し、第１面は、第１層に対向して少なくとも第１面の一部が縁部に接するように備えられ、第２面は、支持部に溶接された第２層と、を備える薄膜蒸着用マスクフレーム組立体、その製造方法及び有機発光表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高精細パターンを形成したテンションマスクを均一に冷却する。
【解決手段】冷却体４をテンションマスク１のマスク箔３に接触させ、冷却体４をマスク箔上で走査させることにより、マスク箔３の全面を冷却する。冷却体４によってマスク箔３を冷却した後、基板７をマスク箔３に接触させ、シャッター８を開いて、蒸着源６から発生する蒸気を基板７に付着させる。マスク箔３の全面に冷却体４を直接接触させて冷却するため、短時間で均一にテンションマスクの温度調整を行うことが可能である。 （もっと読む）