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Fターム[3K107GG33]の内容

Fターム[3K107GG33]に分類される特許

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【課題】本発明は、スリットの大きさが微細に制御された蒸着用マスクおよび蒸着用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による蒸着用マスクは、貫設された複数のスリットが形成されたマスク本体、および原子層蒸着法(atomic layer deposition、ALD)により前記マスク本体の表面全体にコーティングされた蒸着層を含む。 (もっと読む)


【課題】本発明は、蒸着品質を高めることができるマスク組立体およびそれを用いて製造された有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】本発明によるマスク組立体は、開口部を形成するフレームと、複数の蒸着用開口部を形成し、長さ方向に沿って引張力が加わった状態で両側端部がフレームに固定される複数の単位マスクとを含む。複数の単位マスクのうちの隣接した少なくとも二つの単位マスクは、互いに向き合う両側面に蒸着用凹部を形成する。単位マスクの幅方向に沿った蒸着用凹部の幅は、単位マスクの幅方向に沿った蒸着用開口部の幅と同一であるか、またはそれよりも大きい。 (もっと読む)


【課題】高い解像度を有し、かつ生産性が高い有機EL発光装置等の装置を製造するための成膜装置を提供する。
【解決手段】マスク部材11と、マスク部材11を固定するフレーム12と、からなるマスクユニット10と、マスクユニット(10)1基に対して1組設けられるアライメント機構と、を備え、マスク部材11が、複数組の開孔パターン13aが並列して設けられてなる開孔部13を有し、前記アライメント機構により、複数の成膜領域がマトリクス状に設けられている一枚の基板1に対して複数のマスクユニットが互いに干渉されることなく配置され、成膜時においてマスクユニット10を交換し又は移動することなく、一括して薄膜を成膜することを特徴とする、成膜装置。 (もっと読む)


【課題】高い解像度を有する有機EL発光装置が得られ、かつ生産性が高い有機EL発光装置の製造装置を提供する。
【解決手段】複数のマスク部材10と、複数のマスク部材10を固定するフレーム20と、からなるマスクユニット2と、マスク部材10と基板40との相対位置を決めるアライメント機構と、蒸着源30と、を備え、マスク部材10が、複数組の開孔パターン12が並列して設けられてなる開孔部11と、マスク部材10上であってマスク部材10とフレーム20とが接合している領域に設けられるアライメントマーク14,15と、を有し、マスク部材10と、マスク部材10と同一の形状の基板40と、が、前記アライメント機構を用いて、マスク部材10に設けられるアライメントマーク14、15と基板40に設けられるアライメントマーク42、43とを合わせることによってアライメントが行われる。 (もっと読む)


【課題】 有機化合物層の上にマスク層を形成し、マスク層に被覆されていない領域をドライエッチングにてパターニングする有機EL装置の製造方法において、電荷注入層が有機化合物からなる場合、エッチングガスに曝されて電荷注入層の表面が分解され、電荷注入性が低下する恐れがある。
【解決手段】 有機化合物層のパターニングに用いるエッチングガスに対するエッチングレートも小さく、エッチングガスに曝されても分解されない無機化合物で電荷注入層を形成することにより、電荷注入性を低下させずに有機化合物層のパターニングを可能とする。 (もっと読む)


【課題】高精細な複数種の薄膜パターンの形成を効率よく行い得るようにする。
【解決手段】フィルム2に有機EL層17R,17G,17Bと同形状の開口パターン4を設けたマスク1をフィルム2がTFT基板19側となるようにして該TFT基板19上に位置決めし載置し、TFT基板19のR対応アノード電極21R上にマスク1の開口パターン4を介して成膜し、R有機EL層17Rを形成した後、マスク1を複数種の有機EL層17R〜17Bの配列ピッチと同寸法だけアノード電極21R,21G,21Bの並び方向に移動し、TFT基板19のG対応アノード電極21G上にマスク1の開口パターン4を介して成膜し、G有機EL層17Gを形成する。 (もっと読む)


【課題】高精細な複数の開口パターンの形成を容易にすると共に、ハンドリング中も開口パターンの形状及び位置が維持できるようにする。
【解決手段】平板状の磁性金属材料に薄膜パターンよりも形状が大きい貫通する複数の開口部6を設けて保持部材1を形成し、保持部材1の一面に可視光を透過する樹脂製フィルム2を密着して保持し、第1の磁気チャック17上に載置された基板3に対して保持部材1を位置合わせした後、磁力により保持部材1を吸着してフィルム2を基板3面に密着させ、保持部材1の開口部6内のフィルム2の部分にレーザ光を照射して、薄膜パターンと同形状の貫通する開口パターン4を形成し、第2の磁気チャック18の磁力により保持部材1を吸着して該保持部材1及びフィルム2を一体的に基板3上から剥離する。 (もっと読む)


【課題】メタルマスクを直接冷却することが可能なメタルマスク冷却機構と、そして、当該機構を備えた有機EL成膜装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着チャンバ中で、基板とメタルマスク83とのアライメントを行って蒸着材料を当該基板に蒸着する有機EL成膜装置におけるメタルマスクの冷却機構は、メタルマスクを間に挟み込んで、外形「ロ」の字状に形成され、一方の表面上に前記マスクを取り付ける固定フレーム82の外枠に沿って設けられる、複数の固定板84を備えており、固定板は、各々、熱伝導性に優れた部材により細長い板状に形成されると共に、その内部には冷媒を流すための流体流路を形成すると共に、更に、固定板の各々には、前記固定板の流路に冷媒を供給するための配管と排出するための配管とを設けた。 (もっと読む)


【課題】成膜エリアに封止膜が的確に形成され、かつ、非成膜エリアには封止膜が形成されることを抑制する。
【解決手段】成膜エリアR1と非成膜エリアR2とをそれぞれ別々に隔離壁2によって囲み、これらの間に成膜可エリアR3を配置した構造とし、マスクを隔離壁2の上面に接触させて成膜エリアR1以外の領域を覆った状態でガスを用いた手法によって封止膜3を形成する。これにより、成膜エリアR1のみに良好に封止膜3を形成しつつ、成膜エリアR1以外の領域には封止膜3が形成されないようにできることから、成膜エリアR1に封止膜3が的確に形成され、かつ、非成膜エリアR2には封止膜3が形成されることを抑制できる。 (もっと読む)


【課題】基板とマスクとの隙間を高精度に制御することのできる有機ELデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】真空処理室内に設けられたシャドウマスクと、基板を載置する基板ホルダーと、基板とシャドウマスクとの間を、接近させ又は離間させる基板密着手段と、基板ホルダーの四隅に設けられた距離計測機構とを備え、距離計測機構は、基板ホルダーを貫通するように設けられた距離計測用空間と、基板ホルダーの表面上に設けられた透明ガラス板と、距離計測用空間に配置された距離計測部とを備え、距離計測部は、光を発射し反射光を受光して距離を計測する距離計と、距離計を真空処理室内の雰囲気から隔離する距離計筐体と、距離計筐体の一部に設けられた透明ガラス窓とを備え、距離計が、透明ガラス窓を介して透明ガラス板とシャドウマスクとの間の距離を計測するよう、有機ELデバイス製造装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板2上に一定形状の薄膜パターン4を成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、箔状の磁性部材5に薄膜パターン形成領域9に対応して該薄膜パターン4と同形状の貫通する開口パターン6を形成し、磁性部材5が磁力により第1の磁気チャック3の平坦な吸着面3aに吸着されて保持されたマスク1の開口パターン6を、第2の磁気チャック8上に載置された基板2の薄膜パターン形成領域9に位置合わせするステップと、第2の磁気チャック8の磁力により磁性部材5を吸着してマスク1を第1の磁気チャック3から基板2上に移すステップと、マスク1の開口パターン6を介して基板2上の薄膜パターン形成領域9に成膜し、薄膜パターン4を形成するステップと、を行うものである。 (もっと読む)


【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板9上に一定形状の薄膜パターンを成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、可視光を透過し一面に磁性体膜1を被着したフィルム2に薄膜パターン形成領域11に対応して薄膜パターン12と同形状の貫通する開口パターン3を形成し、磁性体膜1側を第1の磁気チャック6の平坦面に吸着して保持されたマスク4の開口パターン3を、第2の磁気チャック10上に載置された基板9の薄膜パターン形成領域11に位置合わせするステップと、第2の磁気チャックにより磁性体膜1を吸着してマスク4を第1の磁気チャック6から基板9上に移すステップと、マスク4の開口パターン3を介して基板9上の薄膜パターン形成領域11に成膜し、薄膜パターン12を形成するステップと、を行うものである。 (もっと読む)


【課題】ラインバンク方式のような画素規定層を設けることなく、有機発光層の膜厚を均一化することができる表示パネルの製造方法等を提供する。
【解決手段】平坦化膜103上に2次元配置された複数の画素領域に、有機発光材料を含むインクを滴下して有機層を形成してなる表示パネルの製造方法は、平坦化膜103の上方に、画素領域と画素領域との間を第1の方向に延伸する第1隔壁111と、画素領域と画素領域との間を第1の方向と交差する第2の方向に延伸し且つ第1隔壁111の上端部よりも低い位置で第1の方向へのインクの流動を許容する流路を構成する第2隔壁121とを形成する隔壁形成工程と、滴下されたインクの上面が流路よりも高くなるように、第2の方向に隣り合う一組の第1隔壁111の間にインクを第1の方向に沿って間欠的に滴下する滴下工程とを具備する。 (もっと読む)


【課題】高精細な薄膜パターンの形成及び不純物により薄膜パターンがダメージを受けるのを抑制可能にする。
【解決手段】基板面に接触して設置され、該基板上に一定形状の複数種の薄膜パターンを形成するためのマスク1であって、可視光を透過する樹脂製のフィルム2と、前記基板上に予め定められた前記複数種の薄膜パターンの形成領域のうち、一の薄膜パターンの形成領域に対応して該一の薄膜パターンよりも形状の大きい貫通する開口部5を形成した板体で構成され、前記フィルム2を保持する保持部材3と、備え、前記フィルム2は、前記基板上の前記一の薄膜パターンの形成領域に対応して前記保持部材3の前記開口部5内に前記一の薄膜パターンと同形状の開口パターン4を備え、他の薄膜パターンの形成領域に対応して前記基板との接触面側に前記他の薄膜パターンと同形状の凹部6を備えている。 (もっと読む)


【課題】抵抗層の表面の汚染を防止し、かつ、簡便な方法により第2電極を形成可能な表示装置およびその製造方法並びに電子機器を提供する
【解決手段】基板上に、第1電極、発光層を含む有機層、抵抗層および第2電極をこの順に有する有機電界発光素子および外部接続層を備え、前記第2電極は、前記抵抗層に接する保護電極層と、前記保護電極層の上層に設けられると共に前記外部接続層に電気的に接続された接続電極層とを有する表示装置。 (もっと読む)


【課題】電極をパターニングすることなく、精度よく発光パターンをパターニング可能な有機EL素子の製造方法を提供する。
【解決手段】
基板2に第1電極3を積層する第1電極積層工程S11と、第1電極3に対して基板2と反対側に、紫外光UVの照射により不溶化する絶縁層113を積層する絶縁層積層工程S13と、紫外光UVを遮光する遮光膜132により、一部の絶縁層115をマスキングした後に、遮光膜132越しに、絶縁層113に向けて紫外光UVを照射する露光工程S14と、一部の絶縁層115に向けて、紫外光UVが照射されていない絶縁層115を溶解する溶媒142及び有機EL材料141を供給するEL材料供給工程S15と、有機EL材料141を覆うように、第2電極4を積層する第2電極積層工程S16と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】平板に薄膜パターンよりも形状寸法の大きい開口部を形成した保持部材を基板上に予め定められた薄膜パターン形成領域が開口部内に位置するように位置合わせした状態で、該保持部材と基板との間に可視光を透過する樹脂製のフィルムを挟持し、基板上の薄膜パターン形成領域に対応したフィルム部分にレーザ光を照射し、当該部分のフィルムに薄膜パターンと形状寸法の同じ開口パターンを設けてマスクを形成し、基板上の薄膜パターン形成領域にマスクの開口パターンを介して成膜した後、マスクを剥離して基板上に一定形状の薄膜パターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】蒸着マスクに強固に付着した付着物を、蒸着マスクにダメージを与えるおそれを低減しつつ、効率よく除去する蒸着マスク洗浄装置、蒸着マスク洗浄システムおよび蒸着マスク洗浄方法を提供する。
【解決手段】有機ELデバイスの製造工程に用いられる蒸着マスク16を洗浄するための蒸着マスク洗浄装置としての電解洗浄装置13は、蒸着マスク16を収容する洗浄槽としての電解槽20と、電解槽20にアルカリ性の電解液を供給するポンプ21および貯留槽22からなる電解液供給部と、洗浄槽内に設けられている陽極電極23および陰極電極24の電極と、陽極電極23および陰極電極24の電極間に通電する通電部26と、を備える。 (もっと読む)


【課題】発光層への水分等の侵入を抑制できる発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】発光領域20と、発光領域20とX軸方向に隣接する配線領域30とをそれぞれ含む複数の素子領域10が、X軸方向とY軸方向とにそれぞれ配列された基板Wに作製される。Y軸方向に延在しX軸方向に配列された複数のバー42と、複数のバー42間に形成された複数の開口部43とを有するマスク40が、バー42が配線領域30を被覆し、開口部43から発光領域20が露出するように、基板W上に配置される。マスク40を介して、基板W上に無機膜8と有機膜9とが交互に成膜される。基板Wが、素子領域10毎に分離される。このように製造された発光素子1は、無機膜8と有機膜9からなる保護膜Pを有し、保護膜Pによって発光層5への水分等の侵入が抑制される。 (もっと読む)


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