【課題】有機材料からなる有機層に対してレーザーダメージを与えないで電極間短絡部分を解消する有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス素子１の製造方法は、陽極１１、発光層１３を含む有機層３０、透明材料からなる陰極１６の順に積層され、短絡欠陥部を有する有機ＥＬ素子１Ａを準備する準備ステップと、強度分布を有するレーザー光のうち、陰極１６を透過して有機層３０を変性させ、かつ陰極１６を変性させない強度成分を特定する特定ステップと、特定された当該強度成分が除去されたレーザー光を、短絡欠陥部の陰極１６の領域及び当該領域の周囲のうち少なくとも一方に照射して、短絡欠陥部に起因する不良を解消する照射ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】有機材料からなる有機層及び加工対象の電極層に対してレーザーダメージを与えないで電極間短絡部分を解消する有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス素子１の製造方法は、陽極１１、発光層１３を含む有機層３０、透明材料からなる陰極１６の順に積層され、短絡欠陥部を有する有機ＥＬ素子１Ａを準備する準備ステップと、強度分布がトップフラット分布であるレーザー光のみを選択して、短絡欠陥部の陰極１６の領域及び当該領域の周囲のうち少なくとも一方に照射して、短絡欠陥部に起因する不良を解消する照射ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】簡単な画素回路構成で製造歩留まりの低下がなく、表示品質を維持しつつＥＬ素子の輝度劣化の回復を実現できる表示装置およびその駆動方法を提供する。
【解決手段】複数の発光画素を有する表示装置３であって、発光画素２２は、駆動トランジスタ１０２と、信号電流が流れることにより発光する発光素子１０１と、データ線１１と発光素子１０１との導通及び非導通を切り換えるスイッチングトランジスタ１０７とを備え、表示装置３は、信号電圧をデータ線１１に供給するデータ駆動回路１４１と、所定のバイアス電圧をデータ線１１に供給するバイアス供給回路１４２とを備え、信号電流を発光素子１０１に流さない期間と同期して、制御線１３を電圧変化させることでスイッチングトランジスタ１０７をオン状態とすることにより、発光素子１０１のアノードに所定のバイアス電圧を印加する。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスクに強固に付着した付着物を、蒸着マスクにダメージを与えるおそれを低減しつつ、効率よく除去する蒸着マスク洗浄装置、蒸着マスク洗浄システムおよび蒸着マスク洗浄方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬデバイスの製造工程に用いられる蒸着マスク１６を洗浄するための蒸着マスク洗浄装置としての電解洗浄装置１３は、蒸着マスク１６を収容する洗浄槽としての電解槽２０と、電解槽２０にアルカリ性の電解液を供給するポンプ２１および貯留槽２２からなる電解液供給部と、洗浄槽内に設けられている陽極電極２３および陰極電極２４の電極と、陽極電極２３および陰極電極２４の電極間に通電する通電部２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】保護膜がカソードを被覆している構成の有機ＥＬ素子に対しても、異物の除去がレーザーリペア法で行える有機ELディスプレイの提供を目的とする。
【解決手段】第一の基板の一方の面上に、パターン状に設けた第一電極と、第一電極の周辺端部を被覆する隔壁と、該隔壁内の第一電極上に設けた有機発光媒体層と、該有機発光媒体層上に第一電極に対向する位置に設けた第二電極からなる有機ＥＬ素子基板と、第二の基板の一方の面の全面上にシート状接着剤層と、それより内側の領域に保護層を順次積層してなる対向基板とを、それぞれの一方の面側とを貼り合わせてなる有機ＥＬLディスプレイであって、
（ａ）第二電極と保護層間に空隙層が形成され、
（ｂ）有機ＥＬ素子基板と対向基板とが、シート状接着剤層を介して接着されている、ことを特徴とする有機ELディスプレイ及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】水分バリア性を確保するとともに薄型化が可能であり、さらに自己修復を行って短絡の発生を抑制可能な有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】透光性電極４と、透光性電極４上に形成され少なくとも有機発光層を含む機能層７と、機能層７上に形成される背面電極９と、を備えてなる有機ＥＬ素子３である。背面電極９によって挟持するように、少なくとも水分バリア性を有するバリア層８を形成してなることを特徴とする。バリア層８は、膜厚が５０ｎｍ以下であることを特徴とする。バリア層８は、伝導帯エネルギー準位が２．０〜５．５ｅＶであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】金属配線の下層を加工または損傷させることなく、金属配線がショート不良となることを未然に防止できるレーザー修正工程を有する表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】複数の画素を備えた表示部を有する表示装置の製造方法は、当該表示部が有するガラス基板１１上に形成された駆動回路層１２の表面を平坦化する平坦化膜１３と、平坦化膜１３上に積層された上部電極層１４Ｐと、上部電極層１４Ｐ上に形成され上部電極層１４Ｐを画素形成領域ごとに配置された上部電極１４として分離形成するためのパターニングされたレジスト２０とを準備する第１工程と、隣接する画素形成領域の間の領域に残存するレジスト残り２０Ｎに対し、２６６ｎｍの波長を有するレーザーを照射することにより、レジスト残り２０Ｎを除去する第２工程と、当該第２工程の完了後、全ての画素に対して、レジスト２０をマスクとしてエッチングする第３工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法で欠陥のある画素を修復し、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造時の歩留まりを上げる。
【解決手段】ＩＴＯ陽極１０１上にＨＩＬ１０２とＥＭＬ１０３を成膜する工程と、欠陥のある画素Ａを検出する工程と、欠陥のある画素Ａのゴミ２００とその周囲を親液性化処理する工程と、ゴミ２００とその周囲に絶縁性材料を含むインク３０２を塗布する工程と、塗布した絶縁性材料を含むインク３０２を硬化させる工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い発光装置を提供する。また、メタルマスクに起因する不具合が抑制された発光装置を提供する。また、発光素子の上部電極層の抵抗に起因する不具合が抑制された発光装置を提供する。
【解決手段】あらかじめ基板上に電極層を設け、当該電極層と重なるようにＥＬ層及び上部電極層を、メタルマスクを用いずに同一パターンで形成し、その後、電極層と上部電極層とを電気的に接続する。接続方法として、レーザ光を照射する方法や、物理的に加圧する方法、また物理的に加圧しながら加熱する方法などを用いる。 （もっと読む）

【課題】欠陥のある画素の修復の際に、正常に形成された周囲の画素の劣化を避ける。
【解決手段】欠陥のある画素Ａの周囲の正常画素Ｂ１，Ｂ２の表面に、ＥＭＬ１０３を溶解しない保護液１０５を塗布する工程と、欠陥のある画素Ａの修復を行う工程と、正常画素Ｂ１，Ｂ２に塗布した保護液１０５を除去する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】既に形成されている有機デバイスの素子が、後工程での焼成によって劣化することを避ける。
【解決手段】第１のインクを配置し、第１の温度で焼成することによりＨＴＬ１０３を成膜する工程と、第２のインクを配置し、第１の温度以下の第２の温度で焼成することによりＥＭＬ１０４を成膜する工程と、欠陥のある画素Ａを検出し、画素ＡのＨＴＬ１０３とＥＭＬ１０４を除去する工程と、第３のインクを画素Ａに配置し、第２の温度以下の第３の温度で焼成することにより再生後ＨＴＬ１０７を成膜する工程と、第４のインクを再生後ＨＴＬ１０７上に配置し、第３の温度以下の第４の温度で焼成することにより再生後ＥＭＬ１０８を成膜する工程と、を備え、第３のインクの沸点は第２のインクの沸点以下であり、第４のインクの沸点は第３のインクの沸点以下である。 （もっと読む）

【課題】
逆バイアスを印加することで有機ＥＬ素子の不良箇所を自己修復し、かつ有機ＥＬ照明装置のちらつき、もしくは視認されない非発光期間による視認者が感じる眼疲労等を軽減する。
【解決手段】
透明基板上に陽極と、発光層と、陰極と、を順次積層してなる有機ＥＬ照明装置であって、フレーム周期Ｆに対する逆バイアス印加時間Ｔｒの割合Ｘを０．０５％以下とし、さらに逆バイアス印加時間Ｔｒが前記有機ＥＬ照明装置１の素子容量Ｃと配線抵抗Ｒの積である時定数Ｔ以上とする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬディスプレイの製造において、画素電極に異物が混入し、この異物による欠陥が生じた場合、簡易的に欠陥部のみを局所的に修復し、修復後に修復部周囲へのダメージが発生しない有機ＥＬディスプレイのリペア方法を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬディスプレイの製造において、画素電極形成に画素電極に混入した異物を検出し、画素電極に混入した異物に対して先端が半球状の微細な針を下方に押し下げて、異物と画素電極の一部とを一緒に塑性変形させて、異物を画素電極内に埋め込むことで異物による欠陥を修復する。画素電極に異物を押し込むことで異物によるショート欠陥を起こさない。 （もっと読む）

【課題】上部電極が１３５ｎｍ以上という厚膜の構造の有機ＥＬ素子とした場合において、本来良品としても良い製品が不良品と判定されることを抑制し、良不良率を向上させられるようにする。
【解決手段】第１、第２欠陥部顕在化工程を行うと共に、それらの工程で第１、第２の直流電圧を印加している全期間中のリーク電流を測定し、それに基づいて良不良判定を行う。また、第１の直流電圧の印加が終了してから第２の直流電圧の印加が開始するまでの間において、両電極間の電位差が０Ｖから４Ｖ、かつ、これらの間の時間が１０ｍｓｅｃ以上となるようにする。これにより、オープン欠陥の破壊痕サイズが視認できない大きさとなるようにオープン欠陥の顕在化が行える。このため、再オープン化できれば、従来不良と判定されていたものについても良品とすることが可能となり、本来良品としても良い製品が不良品と判定されることを抑制でき、良不良率が向上させられる。 （もっと読む）

【課題】輝度を向上させる有機ＥＬ素子の製造方法及び有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】陰極３と、陰極３に対向する陽極８と、陰極３と陽極８との間に配置された有機層２３とを有する有機ＥＬ素子の製造方法において、有機ＥＬ素子２が準備され、陰極３を透過させてパルスレーザが有機層２３に照射されて、有機層２３の電気抵抗値より低い電気抵抗値を有する導電性の有機層２４が有機層２３に形成される。 （もっと読む）

【課題】
伝導性異物による有機発光素子のピクセルの不良領域を再生して製品の信頼性を確保し、歩留まりを向上させるピクセルの再生方法及びこれを具現する再生装置を提供する。
【解決手段】
本発明は、基板１０上に有機発光層３１，３２，３３を挟んで互いに交差するように形成された第１の電極２０と第２の電極４０とを含む有機発光素子をステージ上にアラインする第１のステップと、前記第１の電極２０及び第２の電極４０間の有機発光層３１，３２，３３に存在する伝導性異物存在領域にピクセル再生装置Ｌを用いてレーザを照射する第２のステップとを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法で欠陥のある画素を修復するとともに、正常に形成された画素の劣化を避ける。
【解決手段】２層以上の有機膜を含む画素を備えた有機エレクトロルミネッセンス表示装置１００の製造方法であって、第１のインクを配置し、第１の温度で焼成することによりＨＩＬ１０２を成膜する工程と、欠陥のある画素Ａを検出する工程と、欠陥のある画素ＡのＨＩＬ１０２を除去する工程と、第２のインクを欠陥のある画素Ａに配置し、第１の温度以下の第２の温度で焼成することにより再生後ＨＩＬ１０３を成膜する工程と、ＨＩＬ１０２および再生後ＨＩＬ１０３上に、第３のインクを配置し、第２の温度以下の第３の温度で焼成することによりＨＴＬ１０４を成膜する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法で欠陥のある画素を修復するとともに、正常に形成された画素の劣化を避ける。
【解決手段】２層以上の有機膜を含む画素を備えた有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、第１のインクを配置し、第１の温度で焼成することによりＨＴＬ１０３を成膜する工程と、ＨＴＬ１０３上に、第２のインクを配置し、第１の温度以下の第２の温度で焼成することによりＥＭＬ１０４を成膜する工程と、欠陥のある画素Ａを検出する工程と、画素ＡのＥＭＬ１０４を除去する工程と、第３のインクを画素Ａに配置し、第２の温度以下の第３の温度で焼成することにより再生後ＥＭＬ１０６を成膜する工程と、を備え、第３のインクの沸点は前記第２のインクの沸点以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬディスプレイの製造において、有機層中に異物が混入し、この異物により欠陥が発生したとき、ダメージなく修復できることのできる有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供すること。
【解決手段】有機層中に混入した異物に対してレーザを照射して異物周囲を絶縁化することで異物による欠陥部を修復するとき、欠陥のある画素の周囲の画素に対して、レーザの焦点をずらしながらレーザを照射したあと、レーザによる加工痕と発光状態から、レーザの焦点を規定し、この規定した焦点で異物に対してレーザを照射することで、異物周囲以外にダメージを与えず、異物部を絶縁化し異物による欠陥を修復することができる。 （もっと読む）

【課題】検査精度の向上、および検査回路自体の検査およびリペアが可能なアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板上に配置された複数のゲート線１０２と、前記基板上に複数のゲート線１０２と交差する方向に配置された複数のソース線１０３と、ｍ（ｍは２以上の整数）本のソース線１０３ごとにブロック化されたデータ線ブロックＢごとに設けられた端子１４１と、データ線ブロックＢごとに設けられ、ｍ本のソース線１０３のうちから選択される少なくとも１本のソース線１０３と端子１４１とを導通させる第１選択回路１２１と、ｎ（ｎは２以上の整数）個のデータ線ブロックＢごとに設けられた端子１４２と、ｎ個のデータ線ブロックＢごとに設けられ、ｍ×ｎ本のソース線１０３のうちから選択される少なくとも１本のソース線１０３と端子１４２とを導通させる第２選択回路１２２と、を具備する。 （もっと読む）