【課題】 重合性液晶組成物を構成した場合に高い保存安定性、高いコレステリック配向性及び短いピッチを示す重合性化合物及び当該重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を提供する。更に、当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。
【解決手段】 一般式（Ｉ）
【化１】


で表される重合性化合物を提供する。更に、当該重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物、並びに当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。 （もっと読む）

【課題】最も経済的で安全な温度範囲でプロピレンを所望のプロピレンオキサイドに最大に転化し、かつ副産物を最小にすることに関して、プロピレンオキサイド反応器の動作目的を達成する制御システムおよび技術を提供すること。
【解決手段】プロピレンと酸素からなる反応物質から、プロピレンオキサイド、二酸化炭素および水からなる生成物質への反応を含み、かつ該反応物質に対する供給ラインおよび該生成物質に対する流出ラインを有する反応器の温度を制御するための制御装置において、前記回路手段が、下式を使用して前記冷却液流量Ｑの信号を発生するように動作することを特徴とする、制御装置。
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【課題】プロピレンの接触気相酸化によるプロピレンオキサイドの製造方法、そのための装置の提供。
【解決手段】シェル板１、上部管板２、下部管板３、反応部７のシェル側１６と冷却部８のシェル側１１とを仕切る仕切板４および多数の反応管５などで構成される反応装置であり、予熱部、反応部および冷却部を連続して熱水で循環または通過させることで、給水した熱水を水蒸気として回収する可能で、容易に有効な熱回収を達成できる。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、プロピレンオキサイド製品等におけるアセトアルデヒド含有量を低く抑えたプロピレンオキサイドの取得方法を提供すること。
【解決手段】アセトアルデヒドを含むプロピレンオキサイド水溶液を供給流として蒸留ゾーンに導入して、そこで蒸留を行ってプロピレンオキサイド生成物の副流と塔底水性生成物とを形成させ、水を蒸留ゾーンに加えて液相中にアセトアルデヒド蒸気を吸収させて、共沸混合物を形成させ、当該蒸留ゾーンから当該共沸混合物を除去する、アセトアルデヒドを含むプロピレンオキサイド水溶液からプロピレンオキサイドを取得する方法であって、当該水のすべて又は一部が塔底水性生成物に由来する再循環水性流であり、当該供給流に加えて当該蒸留ゾーンに導入することを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】光学活性エポキシ化合物の新規な製造方法の提供。
【解決手段】脱水剤の存在下、酸化剤と分子内に二重結合を有する不飽和化合物を反応させる工程を含み、トリスフェノールアミン配位子のフェノール骨格部分にビナフチル骨格及び軸不斉を有する骨格を導入することにより、トリスフェノールアミン配位子の骨格に起因するプロペラ型不斉のラセミ化を抑制する。さらに、光学活性トリスナフトールアミン配位子を有するハフニウム錯体を用いて、高い選択性で光学活性エポキシ化学物を製造する。 （もっと読む）

【課題】優れたパターン倒れ耐性（ＰＣＭ）で、欠陥の少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基；Ａ^１はアルカンジイル基を表す。］ （もっと読む）

【解決手段】式（１）で示されるフッ素化アルコールと塩素化剤、臭素化剤又はスルホニル化剤とを塩基性条件下に反応させて式（２）で示されるオキシラン前駆体を得た後、このオキシラン前駆体を塩基性条件下に閉環させる一般式（Ａ）で示される２，２−ビス（フルオロアルキル）オキシランの製造方法。


（Ｒ¹、Ｒ²はフッ素化アルキル基、Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子又は一価の炭化水素基、Ｘは塩素原子、臭素原子又は−ＯＳＯ₂Ｒ⁵基、Ｒ⁵はアルキル基又はアリール基を示す。）
【効果】本発明では、フッ素化オレフィン等、気体であり蒸気吸入の危険性のある取り扱いの困難な原材料を使用することなく、取り扱いの容易な化合物のみを用いて２，２−ビス（フルオロアルキル）オキシラン類の製造が可能である。 （もっと読む）

【課題】優れたラインウィズスラフネスを有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤、レジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩を含む酸発生剤、樹脂及び溶剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ａ^１〜Ａ^３は、独立に、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基等；環Ｗ^１は置換基を有していてもよい環状エーテル；Ｑ^１及びＱ^２は、独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１及びＸ^２は、独立に、単結合又は２価の飽和炭化水素基；Ｙ^１は、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基；ｍ_１及びｍ_２は、独立に０〜２の整数；ｍ_３は１〜３の整数、ただし、ｍ_１＋ｍ_２＋ｍ_３＝３である；ｍ_４は１〜３の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】高い生成量でアルキレンオキサイドを製造可能な貴金属触媒の製造方法を提供する。
【解決手段】貴金属を担持させた炭素材料と、樹脂とを、溶媒中で混合する工程を含む貴金属触媒の製造方法。 （もっと読む）

【課題】モノヒドロキシモノエーテル化合物を高い生産性で製造する方法を提供。
【解決手段】脱離基Ｘを有するＲ^１−ＣＨ_２−Ｘ（１）なる炭化水素化合物（１）と、式（２）


（式中、Ｒ²は置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、又は２価の炭化水素基の２以上がエーテル結合を介して連結された連結基を示す）で表されるジオールとをアルカリ金属を含む塩基の存在下、溶液中で反応させることにより、式（３）


（式中、Ｒ²は前記に同じ）で表されるモノヒドロキシモノエーテル化合物を生成させる方法であって、式（２）で表されるジオールを含む溶液に対し、アルカリ金属を含む塩基を逐次添加し、生成させたモノアルコキシドを化合物（１）と逐次的に反応させることを特徴とするモノヒドロキシモノエーテル化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れ及び欠陥の少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；Ａ¹はアルカンジイル基；Ｒ²はフッ素含有炭化水素基；Ｒ^３及びＲ^４は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は飽和炭化水素基を表し、該基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、該基に含まれる−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｒ^５は、環状エーテル構造を含む基；Ｚ^１＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】固体粒子および液体を含んで成る固液混合物から液体を分離する方法を、より長い時間運転できる新たな液体分離方法を提供する。
【解決手段】そのような液体分離方法は、
固体粒子および液体を含んで成る固液混合物を湿式分級に付すことによって、所定の粒子寸法より大きい粒子寸法を有する固体粒子および液体を含んで成る混合物２６を得る分級工程１８と、
前記得られた混合物２６をクロスフロー濾過することによって、液体を回収する濾過工程２０と
を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】殺菌作用及び漂白作用を併せ持ちながら、貯蔵安定性があり、かつ低臭または無臭の水溶性ペルオキシカルボン酸化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）酸性ｐＨ条件下で、非アルファスルホン化カルボン酸を酸化剤と接触させて、スルホペルオキシカルボン酸を製造する工程を含む、化学式Ｉ：


｛式中、Ｒ１は、（非）置換Ｃｍアルキル基であり；Ｒ２は、（非）置換Ｃｎアルキル基であり；Ｘは、水素、カチオン性基、またはエステル形成部分であり；ｎ，ｍは、１〜１０であり；そしてｍ＋ｎは、１８以下である。｝の化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】殺菌作用及び漂白作用を併せ持ちながら、貯蔵安定性があり、かつ低臭または無臭の水溶性ペルオキシカルボン酸化合物及び組成物が求められている。
【解決手段】本発明は、新規なスルホペルオキシカルボン酸化合物、組成物、化合物製造と使用の方法に関連している。本発明のスルホペルオキシカルボン酸化合物は貯蔵安定性を有し、水溶性で、低臭または無臭である。さらに、本発明の化合物は非石油系再生油から抽出されている。本発明の組成物は殺菌剤、および漂白剤として使用される。本発明の化合物はまた、カップリング剤としての使用にも適している。 （もっと読む）

【課題】高感度で、高解像度のレジストパターンを作製することができ、集積度の高い半導体素子を高い生産性で作製することが可能となるレジスト組成物およびそれに用いることができる化合物を提供する。
【解決手段】 本発明は、（ａ）炭素数５〜４５の芳香族ケトンまたは芳香族アルデヒド、および炭素数６〜１５であり１〜３個のフェノール性水酸基を含有する化合物の縮合反応により製造されたポリフェノール化合物に、可視光線、紫外線、エキシマレーザー、極端紫外線（ＥＵＶ）、電子線、Ｘ線、およびイオンビームからなる群から選ばれるいずれかの放射線の照射により直接的又は間接的に架橋反応を起こす架橋反応性基を導入する試剤を反応させることにより製造され、（ｂ）分子量が３００〜５０００であり、かつ（ｃ）該架橋反応性基を分子中に少なくとも１個有するレジスト化合物（Ａ）を一種以上含むレジスト組成物およびそれに用いる化合物である。 （もっと読む）

【課題】高感度で、高解像度のレジストパターンを作製することができ、集積度の高い半導体素子を高い生産性で作製することが可能となるレジスト組成物およびそれに用いることができる化合物を提供する。
【解決手段】本発明は、（ａ）炭素数５〜４５の芳香族ケトンまたは芳香族アルデヒド、および炭素数６〜１５であり１〜３個のフェノール性水酸基を含有する化合物の縮合反応により製造されたポリフェノール化合物に、可視光線、紫外線、エキシマレーザー、極端紫外線（ＥＵＶ）、電子線、Ｘ線、およびイオンビームからなる群から選ばれるいずれかの放射線の照射により直接的又は間接的に架橋反応を起こす架橋反応性基を導入する試剤を反応させることにより製造され、（ｂ）分子量が３００〜５０００であり、かつ（ｃ）該架橋反応性基を分子中に少なくとも１個有するレジスト化合物（Ａ）を一種以上含むレジスト組成物およびそれに用いる化合物である。 （もっと読む）

【課題】 塗料、接着剤、発泡体等に用いられる樹脂成分の中間原料であるポリオールの原料又は樹脂に難燃性、ガスバリヤ性、耐摩耗性、プラスチック基材への接着性等の機能を付与できる化合物であるジクロロエポキシブタンをジクロロブテンと過酸化水素との反応により効率よくエポキシ化して製造する方法を提供する。
【解決手段】 タングステン及び／又はモリブデンを有する遷移金属化合物と炭素数９以上５０未満の有機アンモニウム塩の存在下、ジクロロブテンと過酸化水素との反応によりエポキシ化を行うジクロロエポキシブタンの製造方法。 （もっと読む）

（ａ）銅酸化物、（ｂ）アンチモン酸化物および（ｃ）アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分を含む触媒存在下でオレフィンと酸素とを反応させることを含む、酸化オレフィンの製造方法。 （もっと読む）

（ａ）銅酸化物、（ｂ）レニウム酸化物および（ｃ）アルカリ金属成分またはアルカリ土類金属成分を含む触媒存在下でオレフィンと酸素とを反応させることを含む、酸化オレフィンの製造方法。 （もっと読む）