【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分が、一般式（ｂ１−１１）で表される化合物からなる酸発生剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。式（ｂ１−１１）中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、置換基として式（Ｉ）で表される基を有する置換アリール基であり、式（Ｉ）中のＷは２価の連結基である。Ｘ⁻は、式（ｂ−３）または（ｂ−４）で表されるアニオンである。
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【課題】より優れた拡散制御およびレジストプロファイルのような付随する特性を有するテイラーメード光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）：［Ａ−（ＣＨＲ^１）_ｐ］_ｋ−（Ｌ）−（ＣＨ_２）_ｍ−（Ｃ（Ｒ^２）_２）_ｎ−ＳＯ_３⁻Ｚ^＋（Ｉ）（式中、Ａは置換されているかもしくは非置換の単環式、多環式もしくは縮合多環式の環式脂肪族基であり、Ｒ^１はＨ、単結合または置換されているかもしくは非置換のＣ_１−３０アルキル基であり、Ｒ^２はＨ、Ｆ、もしくはＣ_１−４フルオロアルキルであり、Ｌはスルホナート基、スルホンアミド基またはＣ_１−３０スルホナートもしくはスルホンアミド含有基を含む連結基であり、Ｚは有機もしくは無機カチオンであり、ｐは０〜１０の整数であり、ｋは１もしくは２であり、ｍは０以上の整数であり、並びにｎは１以上の整数である）を有する光酸発生剤化合物。 （もっと読む）

【課題】比較的大きい溶解度を有する縮合多環芳香族化合物の前駆体に用い得る化合物と合成法の提供。
【解決手段】下記式（ＩＩ）で表される縮合多環芳香族化合物：
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【課題】レジスト組成物用酸発生剤として有用な塩、及び当該塩を含有する、優れたマスクエラーファクターを有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^２は、ラクトン環基を表す。Ｒ^３は、水素原子又はヒドロキシ基を表す。Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、式（ａ−ｇ１）


（式（ａ−ｇ１）中、ｓは０〜２の整数を表す。＊１は、硫黄原子との結合手を表し、＊２は、Ｒ^２又はＲ^３との結合手を表す。Ａ^１０は、脂肪族炭化水素基を表す。Ａ^１１は、脂肪族炭化水素基又は単結合を表す。Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基等を表す。ｍ１は１又は２を表し、ｍ２は０又は１を表す。但し、ｍ１＋ｍ２＝２の関係を満たす。Ａ⁻は、スルホン酸アニオン等の有機アニオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】天然由来物質を原料として得ることができるとともに、４００ｎｍ付近を吸収端とする広い波長領域での優れた紫外線吸収性を有し、かつ、蛍光性、耐熱性の性能にも優れるとともに、紫外線吸収性の経時安定性が高い新規な芳香族化合物、その用途およびその製造方法の提供。
【解決手段】式（２）で表される芳香族化合物等
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【課題】腎髄質外部カリウム（ＲＯＭＫ）チャネル（Ｋｉｒ１．１）阻害剤の提供。
【解決手段】下記式Ｉの化合物及び薬学的に許容されるその塩。式Ｉの化合物は、利尿薬及びナトリウム利尿薬として有用であり、従って、高血圧症、並びに慢性及び急性心不全のような循環器病を含む過剰の塩及び水分保持に起因する障害の治療及び予防に有用である。
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【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、式（ａ−ｇ１）で表される基；ｓは０〜２の整数；Ａ^１０は脂肪族炭化水素基；Ａ^１１は、単結合又は脂肪族炭化水素基、但し、ｓ＝０の時、Ａ^１１は単結合ではない；Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基又はオキシカルボニルオキシ基；環ＷＲ^２は、置換基を有していてもよいラクトン環基を表す。］ （もっと読む）

【課題】従来知られているフルオレセインや逆Ｕ字型ナフトフルオレセイン（１）よりもさらに長波長側に蛍光波長を有する近赤外蛍光色素を提供し、併せて、そのような近赤外蛍光色素を含む画像診断材料と、そのような画像診断材料を用いて行う画像診断方法とを提供する。
【解決手段】フルオレセインのキサンテン骨格の両側にベンゼン環を１つずつ付加した構造のナフトフルオレセインのうち、２つのベンゼン環の縮合位置がキサンテンの［ｂ、ｉ］である直線型ナフトフルオレセイン（２）は、従来既知のフルオレセインや逆Ｕ字型ナフトフルオレセイン（１）よりもさらに長波長側に蛍光波長を有する。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度を有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｒ^１〜Ｒ^１３、Ｘ^１は、それぞれ特定の基を表す。またＲ^４とＲ^５、Ｒ^５とＲ^６、Ｒ^６とＲ^７、Ｒ^６とＲ^１３、Ｒ^７とＲ^８、Ｒ^８とＲ^１１、Ｒ^１１とＲ^１２又はＲ^１２とＲ^１３が環を形成してもよく、但し、Ｒ^４〜Ｒ^１３の１つはＸ^１との結合手；---は単結合又は二重結合；ｎ１は１又は２、ｎ２は０又は１；Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用クエンチャーとして好適な化合物、該クエンチャーを含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、下記一般式（ｃ１）で表される化合物（Ｃ１）を含む含窒素有機化合物成分（Ｃ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）（ただし、前記化合物（Ｃ１）を除く）を含有することを特徴とするレジスト組成物［式中、Ｒ^Ｎは置換基を有していてもよい含窒素複素環式基であり；Ｘ^０は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状の２価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の環状若しくは環状の部分構造を有する２価の脂肪族炭化水素基、又はこれらの水素原子の一部若しくは全てがフッ素原子で置換された基であり；Ｍ^＋は有機カチオンである。］。
［化１］
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【課題】神経接続欠陥、例えば精神分裂病及び自閉症を伴う疾病の治療において使用するための医薬品の提供。
【解決手段】活性成分として下記式で表されるエポチロン又はその誘導体の少なくとも一つを使用する方法。


式中、Ｘ、Ｙは、酸素含有置換基、Ｗは、複素芳香族残基をあらわす。 （もっと読む）

【課題】高い収率で安価に５−オキソ−４−オキサ−５−ホモアダマンタン−２−オールを得る製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（Ａ）で表されるｅｎｄｏ−ビシクロ［３．３．１］−６−ノネン−３−カルボン酸にギ酸と過酸化水素水を反応させる下記式（Ｉ）で表される５−オキソ−４−オキサ−５−ホモアダマンタン−２−オールの製造方法。
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【課題】オートインデューサー−２を阻害する活性を有し、感染症の予防及び治療等に有効な、オートインデューサー−２阻害剤の提供。
【解決手段】エラグ酸又はその塩を有効成分とする、オートインデューサー−２阻害剤。感染症の具体例としては、口腔、皮膚、膣、消化（ＧＩ）管、食道及び気道等における感染症が挙げられる。より具体的には、ストレプトコッカス・ミュータンス等により引き起こされる齲蝕病、ポルフィロモナス・ジンジバリス等により引き起こされる歯肉炎、歯骨炎等の歯周病、日和見生物により引き起こされる日和見感染症、肺炎レンサ球菌及びインフルエンザ菌等により引き起こされる急性中耳炎（ＡＯＭ）及び滲出性中耳炎（ＯＭＥ）、インフルエンザ菌により引き起こされるインフルエンザ、ヘリコバクター・ピロリにより引き起こされる十二指腸潰瘍、胃ガン及び胃潰瘍などが挙げられる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性が良好なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）として、一般式（ｂ１−１）で表される基をカチオン部に有する酸発生剤（Ｂ１）を含有するレジスト組成物。
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【課題】リソグラフィー特性に優れるレジスト材料に用いられる高分子化合物の原料となる（メタ）アクリル酸エステル誘導体を製造するにあたり、工業的に入手容易な原料を用い、安全で安価に工業的規模で製造することが可能となる合成中間体を提供すること、および該合成中間体を用いた（メタ）アクリル酸エステル誘導体の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で示されるジカルボン酸モノエステル誘導体、および該ジカルボン酸モノエステル誘導体を用いた（メタ）アクリル酸エステル誘導体の製造方法。


（式中、Ｒ¹は、水素原子または−ＣＯＯＲ²（Ｒ²は、炭素数１〜５のアルキル基を表すか、または炭素数１〜３のアルキル基で置換された若しくは無置換の炭素数３〜１０の環状炭化水素基を表す。）を表す。Ｙは、メチレン基、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｚは、＞Ｃ＝Ｏまたは＞Ｓ（＝Ｏ）₂を表す。また、ｎは、１〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（ｂ１−１）［式中、Ｚ^＋は有機カチオンを表す。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有するレジスト組成物。
［化１］
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【課題】廃棄されていた葛澱粉精製済みの葛根抽出物の有効利用を図るとともに、安価かつ効果的な化粧品素材を提供する。
【解決手段】廃棄されていた葛澱粉精製済みの葛根抽出物は、既存のカッコン抽出物よりも強い美白作用と抗酸化作用を示すとともに、葛澱粉精製済みの葛根抽出物中に６−ゲラニル−クメストロールが豊富に含有されていることを見出した。６−ゲラニル−クメストロールには強い美白作用、抗酸化作用、抗炎症作用が示唆され、葛澱粉精製済みの葛根抽出物を使うことで、美白作用や抗酸化作用、抗炎症作用に優れた新規の化粧品を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】光電変換素子に含まれる有機層に用いた場合に、短絡電流密度及び光電変換効率が大きくなる高分子化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される構造単位を有する高分子化合物。


〔式中、Ａｒ^１及びＡｒ^２は、同一又は相異なり、３価の複素環基を表す。Ｘ^１は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）−、−ＳＯ_２−、−Ｓｉ（Ｒ^３）（Ｒ^４）−、−Ｎ（Ｒ^５）−、−Ｂ（Ｒ^６）−、−Ｐ（Ｒ^７）−又は−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ^８）−を表す。Ｒ^５１は、炭素数６以上のアルキル基、炭素数６以上のアルキルオキシ基、炭素数６以上のアルキルチオ基、炭素数６以上のアリール基、炭素数６以上のアリールオキシ基、炭素数６以上のアリールチオ基、炭素数７以上のアリールアルキル基、炭素数７以上のアリールアルキルオキシ基、炭素数７以上のアリールアルキルチオ基、炭素数６以上のアシル基又は炭素数６以上のアシルオキシ基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（ｂ１−１）［式中、Ｙ^０は置換基を有していてもよい炭素数１〜４のアルキレン基又はフッ素化アルキレン基を表す。Ｒ^０はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基又は酸素原子（＝Ｏ）を表す。ｐは０又は１である。Ｚ^＋は有機カチオンを表す。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】酸素原子及び炭素原子を介して２個の芳香環が渡環した構造を有する材料の原料となる化合物を高収率で製造する方法の提供。
【解決手段】式（１）


〔式中、Ａ環及びＢ環は、芳香環を表す。〕で表される化合物と、特定の酸無水物と、過酸化水素とを反応させて式（３）


で表される化合物を製造する。 （もっと読む）