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Fターム[4C082AA01]の内容

放射線治療装置 (15,937) | 治療のための照射線源 (744) | 加速装置 (494)

Fターム[4C082AA01]に分類される特許

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【課題】回転ガントリの小型化及び軽量化を可能とし、回転ガントリの高精度な回転制御、ターゲットの高精度な照射を可能にすること。
【解決手段】本発明では、照射治療装置の回転ガントリに格納され、荷電粒子線ビームの軌道を変える偏向磁場と、荷電粒子線ビームの軌道中心から遠ざかる発散成分を抑える集束磁場とを形成して、加速器で加速された荷電粒子線ビームをターゲットに導く荷電粒子線ビームの制御用電磁石において、偏向磁場と集束磁場を合成磁場として同時に形成するとともに、荷電粒子線ビームの軌道に沿って磁場の向きが切り替わるように形状設定された超伝導コイル41:42を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ビーム取り出しの高速ON/OFFが可能な環状加速器、ならびにそれを用いた、柔軟な照射に対応可能な粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】上記課題を解決する本発明の特徴は、周回する荷電粒子ビームを加速・減速する環状加速器200と、環状加速器を制御する加速器制御装置501とを備え、環状加速器200は、荷電粒子ビームのビーム軌道上に、少なくとも1台の六極電磁場成分発生装置26と、この六極電磁場成分発生装置26の設置位置での荷電粒子ビームのビーム軌道を変位させる少なくとも1台の軌道偏向電磁石とを有し、加速器制御装置500は、六極磁場成分発生装置26を励磁して環状加速器200から荷電粒子ビームを取り出している期間に、軌道偏向電磁石の励磁を開始するように制御することにある。 (もっと読む)


本発明は、ビームのライン制御の分野、特に、イオン化ビームおよび前記ビームの磁場によって堆積する線量の測定を可能にする複数の電離箱を備える装置に関する。少なくとも1つの電離箱が、厚さが100nm以下の支持フィルムから形成される。
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本発明は、放射線治療に使用する粒子線治療装置、詳細には、粒子ビームをガントリの回転軸に直交して供給する小型アイソセントリックガントリに関する。このガントリは、3個の双極磁石を含み、最終双極磁石の角度を90度未満とし、この最終双極磁石の最も好適な偏向角度を60度とする。 (もっと読む)


【課題】粒子線ビームの照射中に線量プロファイルをモニタリングし、実際の照射状況を視覚的かつ定量的に確認することができる粒子線ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る粒子線ビーム照射装置は、ビーム生成部と、粒子線ビームの出射を制御するビーム出射制御部と、照射対象の患部を粒子線ビームの軸方向に分割した各スライスに対して、粒子線ビームの位置を2次元で順次指示するビーム走査指示部と、ビーム走査指示部からの指示信号に基づいて粒子線ビームを2次元で走査するビーム走査部と、ビーム走査部と患者との間に配置され、透過する前記粒子線ビームの粒子線線量に応じた光量で発光する蛍光体板と、蛍光体板をスライス毎に撮像する撮像部と、撮像部で撮像された画像データからスライス毎の照射線量の分布を求め、求めた照射線量の分布を前記粒子線ビームの走査位置と関連付けて表示する表示部と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】径が小さい粒子ビームを用いる照射において、非円形形状のビームを円形に近づける技術を提供することにある。
【解決手段】荷電粒子ビームを加速する加速器と、加速器から出射された荷電粒子ビームを標的領域に照射する粒子線照射装置と、加速器と粒子線照射装置をつなぐビーム輸送系と、第1散乱部材及び荷電粒子ビームの散乱角が第1散乱部材よりも大きい物質で構成される第2散乱部材を少なくとも有する散乱体と、ビーム輸送系のビーム通過領域であって、通過する荷電粒子ビームのビーム径が短い領域を、第2散乱部材の長軸が横切るように散乱体を配置することによって、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】走査電磁石のヒステリシスの影響を排除し、高精度なビーム照射を実現する粒子線照射装置を得ること。
【解決手段】走査電磁石3の磁場を測定する磁場センサ20と、走査電磁石3を通過した荷電粒子ビーム1bの出射量を制御する照射制御装置5とを備えた。照射制御装置5は、磁場センサ20で測定されるX方向及びY方向の磁場で定義された複数の領域Si,jを通過した荷電粒子ビーム1bの線量の積算値を前記領域Si,j毎に求め、前記領域Si,j毎の積算値に基づいて、荷電粒子ビーム1bの出射量を制御する。 (もっと読む)


【課題】スポットスキャニング照射で治療精度を容易に向上できる粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】粒子線治療システム100は、シンクロトロン200とビーム輸送系300と照射装置500から構成される。制御装置600は、照射装置500に荷電粒子ビームを供給する際には出射装置26に印加する高周波電力をONし、荷電粒子ビームの供給を遮断する際には出射装置26に印加する高周波電力をOFFした後に、シンクロトロン200に設置した電磁石の励磁量を変化させて安定限界を広げ荷電粒子ビームの出射を停止し、次に荷電粒子ビームの供給を再開する前に安定限界を狭め荷電粒子ビームの一部を出射し、該荷電粒子ビームをビーム輸送系300に設置した電磁石で遮断する。 (もっと読む)


【課題】照射するビーム粒子の散乱を低減し、かつ真空雰囲気の保持性能の高い荷電粒子線照射装置を提供する
【解決手段】荷電粒子線照射装置のビーム取り出し窓14を、粒子線透過膜101、連結ダクト104、及び粒子線透過膜102を有する二重構造とすることで、照射するビーム粒子の散乱を低減し、かつ荷電粒子線照射装置内の真空雰囲気の保持性能を高める。 (もっと読む)


2次元画像データスライスから、組織表面、例えば、心臓の内側表面の3次元モデルを生成する、システム。本表面上では、1つ以上のパターン線が、例えば、医師によって、ユーザインターフェースを使用して、描写され、表面上の所望の病変を指定する。パターン線から、病変の3次元体積が、既知の制約を使用して、決定可能である。有利には、3次元体積によって生成される一連の境界は、個々のCTスキャン上に逆投影され、次いで、標準的放射線外科手術計画ツールに転送されてもよい。また、線量分布図が、モデル上に投影され、計画を評価するのを支援してもよい。
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本発明は運動する目標体積を照射する照射装置を制御するための装置に関するものであり、この装置は、代替運動信号を評価するための評価装置と、運動する目標体積の画像データを記録するための画像形成装置とを有し、画像形成装置のための制御装置が、画像形成装置を代替運動信号の評価に依存して作動または非作動にするよう構成されており、さらに画像形成装置により記録された画像データを評価するための画像評価装置と、画像データの評価に依存して照射制御装置により作動または非作動にされる照射装置とを有する。本発明はさらにこの種の装置で実施される、照射装置の制御方法に関する。
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放射線治療システムは、照射システムと結合した磁気共鳴撮像(MRI)システムを有する。当該MRIシステムは、放射線治療に適した放射線ビームを放出することが可能な1つ以上の線形加速器(ライナック)を有して良い。当該MRIシステムは分離した磁石システムを有する。前記分離した磁石システムは、ギャップによって隔てられた第1主磁石及び第2主磁石を有する。ガントリーは、前記ギャップ内であって前記第1主磁石と前記第2主磁石との間に設けられ、かつ、前記照射システムの(複数の)ライナックを支持している。前記ガントリーは、当該MRIシステムとは独立して回転可能で、かつ、前記(複数の)ライナックの角度を再設定することができる。遮蔽はまた、磁気遮蔽及び/又はRF遮蔽として供されても良い。磁気遮蔽は、前記MRI磁石によって生成された磁場から前記(複数の)ライナックを遮蔽するために供されて良い。RF遮蔽は、前記ライナックからのRF放射線から当該MRIシステムを遮蔽するために供されて良い。
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【課題】本発明の目的は、ビーム軌道に関するパラメータ検証・調整時間を削減することにより加速器技師の負担を軽減し、稼働率を向上させることである。
【解決手段】上記目的を達成するための手段として、本発明の粒子線照射制御装置は、治療シーケンスの中にビーム軌道補正計算処理を組み込み、照射対象へのイオンビームの照射が終了した後、ビーム輸送系に設置された電磁石への励磁電流値のデータを、補正後の補正励磁電流値に基づいて更新して記憶する記憶装置と、その後は、更新後の励磁電流値に基づいて電磁石の励磁電流を制御する制御装置を備える。ここで言う治療シーケンスとは、粒子線照射制御装置が治療計画装置から患者処方箋データを受け取った後からビーム照射が完了するまでの一連の処理を示す。 (もっと読む)


【課題】積層照射における線量校正を各層事に行え、積層照射時における線量校正の精度を向上する。
【解決手段】標的体積の所定領域を粒子線の進行方向に複数の層に分割して粒子線を照射する粒子線治療装置の線量校正方法であって、粒子線治療装置は、粒子線の線量をカウント値としてモニタする線量モニタを有し、所定領域内に照射野を形成する粒子線照射部105と、粒子線照射部の動作を制御する治療制御部102とを備え、線量校正方法は、
複数の層のうち各層に粒子線を照射したときの物理線量をカウント値で除して各層ごとに校正係数αiを求めるステップを有する。 (もっと読む)


【課題】スポットスキャン法において、スポット数が多くなった場合でも照射時間を短縮し、かつ目標照射量のビームを精度良く各スポットに照射できるようにする。
【解決手段】中央制御装置46は、事前に目標照射量に応じて、スポット毎に照射時間がほぼ一定となるように目標ビーム電流値を決定し、加速器制御部47は、その目標ビーム電流値が得られるようシンクロトロン4から出射する荷電粒子ビームの電流値を調整する。また、中央制御装置46は事前にビーム電流値に対する遅延照射量を計算し、照射装置制御部48及び加速器制御部47は目標照射量から遅延照射量を引いた設定照射量に達した時点で出射停止信号を出力してビーム出射を停止する制御を開始する。 (もっと読む)


患者の一部にある病変の放射線治療は、固定化装置を用いて定位置で患者支持テーブル上に患者を維持することによって行われ、その間、該テーブルは、磁気共鳴画像診断システムと、病変の位置で患者の360度のスキャン画像を生成するためのCT撮像システムと、病変の処置のために放射線ビームを発生させるための、および、病変の周囲360度でビームをスキャンするための、放射線治療システムとの間で回転する。MR画像は病変を見つけ、CTシステムは処置の計算のために使用される。MR画像、CT画像、および、放射線治療の間の登録は、テーブル上の患者の一部の定位置によって提供され、患者は、頭部が含まれる成形した頭部マスクを含む関連部分に適切な固定化システムを用いて固定される。 (もっと読む)


本発明は、粒子放射線治療用に使用可能なパルス化ビーム粒子加速器に関する。特に、ビームパルス内の粒子数を制御するデバイス及び方法が提供される。粒子加速器は、ビーム制御パラメータの値の関数として、最小値から最大値の間で、そのパルス化イオンビームの各ビームパルス内の粒子数を変更する手段を備える。各粒子照射に対して、各ビームパルスに対する所要の粒子数は、較正データに基づいてビーム制御パラメータに対する値を定めることによって、制御される。
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【課題】照射自由度が高く、正常組織への照射量を低減できる粒子線治療装置を得ることを目的とする。
【解決手段】供給された荷電粒子ビームBecを治療計画に基づく3次元の照射形状に整形するよう前記荷電粒子ビームをそれぞれ異なる方向に走査制御する2つのスキャニング電磁石2a,2bを備えた走査電磁石2と、走査電磁石2により走査された荷電粒子ビームBecが走査電磁石2の下流に設定された複数のビーム軌道7のうち、選択されたひとつのビーム軌道を通るように荷電粒子ビームBecの軌道を切り替える偏向電磁石4,5と、を備え、走査電磁石2からアイソセンタまでの距離を長くとるようにした。 (もっと読む)


【課題】実データに基づいたより実現実に近い高精度なビーム照射位置を実現できる粒子線照射装置が得られる
【解決手段】X方向とY方向逆写像数式モデルは、それぞれ、荷電粒子ビームの照射位置平面における目標照射位置座標を2変数で表示したときの前記2変数のいずれも含んだ多項式であり、前記多項式に含まれる未知の係数は、前記X方向とY方向スキャニング電磁石に予め設定した複数組のX方向とY方向指令値を入力して、荷電粒子ビームを制御し、実際に照射されたそれぞれの照射位置座標の実データに対して、一部のデータに低い重み付けをする重み付け最小二乗法により求める。 (もっと読む)


【課題】実データに基づいたより実現象に近い高精度なビーム照射位置を実現できる粒子線照射装置を得る。
【解決手段】逆写像数式モデルは、目標照射位置座標を表す変数を含む多項式であり、前記多項式に含まれる未知の係数は、X方向とY方向スキャニング電磁石に予め設定した複数組のX方向とY方向指令値を入力すると共に、加速器に予め設定した複数の運動エネルギー指令値を入力して、荷電粒子ビームを制御し、実際に照射されたそれぞれの照射位置座標の実データに対して、一部のデータに低い重み付けをする重み付け最小二乗法により求める。 (もっと読む)


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