【課題】重粒子線治療装置に必要な数の重粒子イオンを安定して生成することができる重粒子線治療用重粒子イオン発生装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る重粒子線治療用重粒子イオン発生装置は、レーザ光の照射によってプラズマを発生する物質と、物質を収納する容器と、レーザ光を発生するレーザ光源と、物質上に前記レーザ光の焦点が形成されるようにレーザ光を集光する集光手段と、物質から発生したプラズマから重粒子イオンをクーロン力によって引き出し、容器の外部に送り出す電極手段と、物質から発生するプラズマを観測し、物質に接する領域のプラズマ径からレーザ光の集光径を求める観測手段と、物質の位置または集光手段の位置を調節する位置調節手段と、観測手段で求めた集光径が所定の基準集光径となるように、位置調節手段による物質の位置調節を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】所定の敷地に粒子加速器と照射装置とを効率良く設置することが可能である加速粒子照射設備を提供する。
【解決手段】複数階の階層構造からなる建屋６Ａに設置された粒子線治療設備１Ａにおいて、陽子ビームを生成するサイクロトロン２と、サイクロトロン２で生成された陽子ビームを照射すると共に、サイクロトロン２が設置された階層よりも上側の階層及び下側の階層の少なくとも一方に設置された回転ガントリ３と、サイクロトロン２で生成された陽子ビームを回転ガントリ３まで誘導する誘導ライン４と、を備え、誘導ライン４は、サイクロトロン２に連絡して水平方向に延在し、鉛直方向に向けて湾曲し、再び水平方向に向けて湾曲して回転ガントリ３に連絡すると共に、鉛直方向に沿って延在する仮想平面ＰＬ上に配置されている。 （もっと読む）

【課題】所定の敷地に粒子加速器と照射装置とを効率良く設置することが可能である加速粒子照射設備を提供する。
【解決手段】複数階の階層構造からなる建屋６Ｄに設置された粒子線治療設備１Ｄにおいて、陽子ビームを生成するサイクロトロン２と、サイクロトロン２で生成された陽子ビームを照射すると共に、サイクロトロン２が設置された階層よりも上側の階層及び下側の階層の少なくとも一方に設置された複数の回転ガントリ７，８と、を備え、複数の回転ガントリ７，８は、水平方向にずれて設置されていると共に、それぞれサイクロトロン２が設置された階層とは異なる階層に設置されている。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線照射装置において、設置場所の敷地面積を小さくしながら、ビーム輸送用の電磁石数を削減する。
【解決手段】粒子線治療装置１は、複数の治療室を備え、陽子ビームを加速するサイクロトロンと、サイクロトロンから送り出される陽子ビームを輸送する第１輸送ラインと、治療室ごとに設けられ、第１輸送ラインの陽子ビームを更に各々の治療室に輸送する複数の第２輸送ライン１２ａ，１２ｂと、第１輸送ラインからのビームを何れかの第２輸送ライン１２ａ，１２ｂに誘導すると共に、誘導先の第２輸送ラインを選択的に切替可能とする連結ライン１３と、を備え、治療室は、連結ライン１３を中心として放射状に配置されており、連結ライン１３は、ビームを誘導する電磁石と、電磁石を回転させる回転機構と、を有し、電磁石を回転させることにより誘導先の第２輸送ラインを切り替える。 （もっと読む）

【課題】運動量分散関数を簡易に測定できるとともに所定値に補正を行う。
【解決手段】本発明のビーム測定装置は、荷電粒子を加速する加速器１から取り出した荷電粒子ビームｂを、照射対象に照射する照射装置まで、輸送するビーム輸送ライン２における荷電粒子ビームｂの位置の差分を運動量差で表す運動量分散関数Ｄｘ、Ｄｚの測定を行うビーム測定装置であって、ビーム輸送ライン２の荷電粒子ビームｂの軌道に入出可能であり、荷電粒子ビームｂの軌道に入った際に荷電粒子ビームｂを通過させて荷電粒子ビームｂのエネルギを変更する微小エネルギ吸収体１１と、微小エネルギ吸収体１１による荷電粒子ビームｂのエネルギの変更に基づき、ビーム輸送ライン２における荷電粒子ビームｂの運動量分散関数Ｄｘ、Ｄｚの測定を行う運動量分散関数測定手段８Ｂ、Ｓとを備える。 （もっと読む）

【課題】照射装置が設置される建屋の小型化を図ることができ、設備コストの低減を図ることが可能な加速粒子照射設備を提供すること。
【解決手段】本発明の加速粒子照射設備１は、回転軸Ｐ周りに回転可能な回転部３４を有すると共に粒子加速器で生成された加速粒子を照射する照射装置３と、照射装置３を収納する収納室８と、を備え、照射装置３の回転部は、回転部本体３４から径方向の外側に張り出す張出部３３ｂ，３８を有する構成とする。そして、収納室８の放射線遮蔽壁８６，８７は、照射装置３の回転部の周縁部分となる張出部３３ｂ，３８を収容可能な収容凹部９２，９１を有する構成とする。これにより、照射装置３の形状に対応した収納室８を実現することができ、収納室８の寸法を抑えることが可能となり、建屋６の小型化を図る。 （もっと読む）

【課題】照射野及び照射位置精度の組み合わせ等の粒子線照射における複数のパラメータの組み合わせを可変にし、多様な照射バリエーションの照射を行うことができる粒子線照射装置を得ることを目的とする。
【解決手段】加速器５４により加速された荷電粒子ビーム３を照射対象１１に照射する粒子線照射装置５８であって、荷電粒子ビーム３を走査する走査電磁石１、２と、荷電粒子ビーム３のビーム軸方向における走査電磁石１、２と照射対象１１との距離を変更するように走査電磁石１、２を移動する走査電磁石移動装置４と、筒状に構成され、荷電粒子ビーム３が内部を移動するように構成された真空ダクトと、真空ダクトを固定するためのフランジとを備える。走査電磁石移動装置４は、フランジにおいて発熱が懸念されるような磁場を発生する照射の際に、走査電磁石１、２をフランジから離れるように移動する。 （もっと読む）

【課題】放射線ビームの線量分布測定を高精度に行うことを目的とする。
【解決手段】平行平板電離箱１０４の複数を積層状に保持するホルダー１０８を備え、ホルダー１０８は、平行平板電離箱１０４のそれぞれの間に空間を形成するスペーサ１２０を有し、平行平板電離箱１０４は、その内部に電離箱空洞２０２を形成する電離箱ケース２０１と、電離箱空洞２０２に接する電離箱ケース２０１の内面に形成された電離箱電極２０３とを有し、電離箱電極２０３は、信号が入力される信号電極２０３ａと高圧電位が入力される高圧電極２０３ｂを有し、これらの複数の平行平板電離箱とホルダーは水１０３中に配置される。 （もっと読む）

【課題】イオンビームの照射時間を短縮し、かつ線量分布の一様度を維持することができる粒子線治療システムを提供することを課題とする。
【解決手段】イオンビームを加速する加速器２と、イオンビームを照射対象に照射する照射ノズル５と、照射ノズル５を制御する照射制御部９を備え、照射ノズル５は、イオンビームの照射位置を変更する走査電磁石１３を有し、照射制御部９は、照射対象の目標照射位置と当該目標照射位置にイオンビームを照射したときの平均ビーム位置との誤差情報と、目標照射位置に照射するイオンビームの目標照射線量情報との関係を示すデータを記憶する記憶装置を有し、照射制御部９は、記憶装置に記憶された誤差情報と目標照射線量情報の関係を示すデータに基づいて、走査電磁石１３の励磁電流を制御してイオンビームの照射位置を補正することで上記課題を解決することができる。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線ＣＴ装置において、治療計画用の画像データと治療直前の画像データとを正確に位置合わせすることで、治療計画に即した治療を支援すること。
【解決手段】放射線治療システム１は、被検体の撮像によって得られる第１画像データと、前記撮像前に被検体を撮像して得られる第２画像データとで対応する、被検体内の構造物に相当する構造物領域を輪郭としてそれぞれ設定する治療計画データ生成部６３及び輪郭設定部６５と、第１画像データに設定された輪郭と第２画像データに設定された輪郭とを基に位置合わせの対象となる特定領域としての特定輪郭を設定する特定輪郭設定部６８と、特定輪郭を基に第１画像データ及び第２画像データの位置合わせを実行する位置合わせ部６９と、位置合わせされた第１画像データの、位置合わせされた第２画像データからのずれを算出するずれ算出部７０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】シンクロトロンの小型化が可能なビーム取り出し方法、ならびにそれを用いた小型粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】上記課題を解決する本発明の特徴は、第１番目の出射用偏向器と第２番目の出射用偏向器を出射ビームの変位符号が同じ領域に設置し、第２番目の出射用偏向器の偏向方向を第１番目の出射用偏向器と逆方向とする。第２番目の出射用偏向器で偏向された出射ビームは周回軌道を交差し、変位の符号は逆転する。出射ビームは第１番目の出射用偏向器出口での軌道変位とは逆符号側で、十分なセパレーションがとれる位置に設置した第３目の出射用偏向器によってシンクロトロンから取り出す。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線照射装置において、患者を載置台に載置させてから治療が終わるまでの時間を短縮させることが可能な干渉判定装置を提供する。
【解決手段】干渉判定装置１０は、患者９が載置される患者ベッド２１の周りに可動に配置され陽子線を照射するノズル２５を有する陽子線治療装置２と通信可能とされ、陽子線治療装置２とは独立して作動し、ノズル２５の動きに関する情報である動作情報と、患者ベッド２１およびノズル２５の位置に関する情報である位置情報とに基づいて、ノズル２５と、患者９および患者ベッド２１との干渉の有無を判定する干渉判定端末７を備える。 （もっと読む）

【課題】 照射室内における被照射体の位置決め精度の向上が図られた荷電粒子線照射装
置を提供すること。
【解決手段】 照射室を構成する回転ガントリ１０３と、回転ガントリ１０３に取り付け
られると共に載置台１０５の回りに回転可能とされた荷電粒子線照射部１と、被照射体５
１から発生するガンマ線を検出する検出器３０と、を備えている。検出器３０は、回転ガ
ントリ１０３に取り付けられて載置台１０５の回りに回転可能とされている。 （もっと読む）

【課題】治療照射中においても粒子線の深さ方向線量分布を測定できる深さ方向線量分布測定装置、粒子線治療装置及び粒子線照射装置を提供する。
【解決手段】照射野形成装置２０はブロックコリメータ４５のコリメータ部材４４ｂ上流側に取り付けられた複数電離箱型検出器３０を備える。検出器３０は、ビームの飛程を連続的又は段階的に変更する遮蔽体３３とその後段に電離箱３７を複数設置した構造を有し、信号処理装置３１と共に深さ方向線量分布測定装置３９を構成する。照射野形成装置２０内に到達した粒子線の一部はビーム通路４８を通過して患者６０に照射され、残りの粒子線の一部が複数電離箱型検出器３０に入射し、電離箱３７内で電荷が発生する。個々の電離箱３７内で発生した電荷量に基づいて、信号処理装置３１で深さ方向線量分布が求められる。 （もっと読む）

【課題】多チャンネル型のモニタからのビームデータの収集や演算処理を高速化することを目的とする。
【解決手段】多チャンネル型センサ装置２２からのアナログ信号に基づいたチャンネルデータの複数から一つを選択するマルチプレクサ１３と、マルチプレクサ１３で選択されたチャンネルデータをＡＤ変換データに変換するＡＤ変換器１４と、マルチプレクサ１３及びＡＤ変換器１４を制御するチャンネル選択回路１６と、複数のＡＤ変換データに基づいて荷電粒子ビーム１の状態を演算するデータ収集演算回路１７を備える。チャンネル選択回路１６は、多チャンネル型センサ装置２２の複数の検出チャンネルのうちデータ収集演算回路１７に出力する選抜チャンネルの情報を記憶するチャンネル設定レジスタ１８を有し、選抜チャンネルの情報に基づいて選抜チャンネルのＡＤ変換データを順次データ収集演算回路１７に出力する。 （もっと読む）

【課題】ブロード照射と高分解能の照射を両立するためのマルチリーフコリメータを得ることを目的とする。
【解決手段】端面１Ｌｅ、１Ｒｅが互いに対向するように配置したリーフ対１を厚みｔ_Ｌ方向に複数並べたリーフ対群２と、リーフ対群２のリーフ板のそれぞれを、対向するリーフ板に対して接近または離反方向に駆動させるリーフ板駆動機構４と、リーフ対群２を厚みｔ_Ｌ方向に駆動するリーフ対群駆動機構５と、を備え、複数のリーフ対１のうち少なくとも１つのリーフ対１（ｗ）では、リーフ板どうしを接近方向に駆動させたときに、粒子ビームの照射方向から見てそれぞれのリーフ板の先端が相互に重なるように、それぞれのリーフ板の対向する端面が厚みｔ_Ｌ方向から見て段差状をなし、かつ、少なくとも一方のリーフ板には、段差状をなす端面のうち、他方のリーフ板に向かって最先端となる端面に切欠き部が形成されている。 （もっと読む）

【課題】本方法は、患者を放射線ビームに位置合わせするときの誤差を求める。
【解決手段】治療計画中に計画容積Ｖが取得され、治療中に治療容積Ｉが取得される。座標変換Ｔによって位置合わせされることになる前記計画容積および前記治療容積内の点ｒ毎に、重み付けされた誤差ＷＥが、重み付け関数Ｗ（ｒ）によって重み付けされた、前記計画容積および前記治療容積に適用される目的関数Ｆ（ｒ，Ｔ）を用いて


のように最小にされ、ここで、Ｗ（ｒ）はターゲット重みＷ_Ｔ、リスク組織重みＷ_Ｒ、および送達線量重みＷ_Ｄの関数である。 （もっと読む）

放射線量は、正規化された形態のビーム群のモデルおよび標的線量を提供することにより、最適化される。グラム行列がモデルから決定される。標的線量がサブサンプリングされて、ビーム群の初期強度値が決定される。次に、以下のステップが、収束するまで繰り返される。非常に小さな正の値０＜ε＜＜１を各強度値に加算して、強度値がゼロよりも大きいことを保証する。各強度値にグラム行列を乗算して、積を求め、積を要素毎に除算して正規化された標的線量にし、対応する比率を求める。比率が、数値許容誤差内ですべて１に近い場合、ビーム群の初期値を出力する。そうでない場合、次の反復前に、強度値に比率を乗算される。
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【課題】ターゲットにおける熱応力の発生を抑制することが可能な荷電粒子の照射制御装置を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る荷電粒子の照射制御装置１００は、荷電粒子Ｐの照射を受けて中性子ｎを発生する物質からなるターゲット３８に対して、当該荷電粒子の照射制御を行う照射制御装置において、荷電粒子Ｐを偏向させる偏向手段１１０，１２０と、偏向手段１１０，１２０を制御して、荷電粒子ＰのビームＢｐをターゲット３８の照射面３８ａ上で周回移動させる制御手段１３０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】低コストで、線量の揺らぎが防止され設定量の線量が得られるビーム制御装置、粒子線照射装置、およびこれらの制御方法を提供する。
【解決手段】本発明のビーム制御装置は、シンクロトロン２を備え、シンクロトロン２からのベータトロン振動の共鳴を用いた粒子線ビームの取り出しを行うためのビーム制御装置１であって、シンクロトロン２内の粒子線ビームのセパラトリクス生成のための共鳴の次数に対応した多極電磁石６と、多極電磁石６の磁場強度を、生成したセパラトリクス面積を所望の大きさに保ちながら、高く制御することによって、前記粒子線ビームのビームスピルリップルを所定量以下に低減するビーム制御手段とを備えている。 （もっと読む）