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【課題】X線CT装置において、治療計画用の画像データと治療直前の画像データとを正確に位置合わせすることで、治療部位が的確に治療できるように支援すること。
【解決手段】放射線治療システム1は、撮像手段によって患者Oを撮像して得られる第1画像データと、撮像前に前記被検体を撮像して得られる第2画像データとで対応する所要領域の輪郭をそれぞれ設定する治療画像データ生成部63及び輪郭設定部65と、第1画像データのOARのDVヒストグラムと、第2画像データのOARのDVヒストグラムとをそれぞれ生成するDVH演算部67と、第1画像データのOARのDVヒストグラムと、第2画像データのOARのDVヒストグラムとの差異を算出する線量差異演算部68と、差異が閾値より大きいと判断する場合、外部に報知する報知制御部70と、を有する。 (もっと読む)


【課題】その被検体をより容易に位置合わせすること。
【解決手段】被検体が撮影された第1画像に基づいて複数の輝度勾配を算出するステップと、その複数の輝度勾配に基づいて複数の表示領域にそれぞれ表示される複数の表示部分63−1〜63−nをその第1画像から抽出するステップと、その複数の表示領域に複数の表示部分63−1〜63−nがそれぞれ表示され、他の領域に第2画像62が表示されている表示画像61を作成するステップとを備えている。このような表示画像61は、その第1画像が撮影された第1時刻からその第2画像が撮影された第2時刻までにその被検体がどのようにずれたかが見やすく、ユーザは、このような表示画像61を用いることにより、被検体35をより容易に位置合わせすることができる。 (もっと読む)


【課題】スキャニング照射方式におけるビーム遮断の際の過渡線量を抑制し、照射線量精度を向上させることを目的とする。
【解決手段】荷電粒子ビーム1の進行方向を電場により変更し、照射対象16へのビーム1の出射及び遮断を行うビーム偏向器2と、電圧パルス31をビーム偏向器2に出力するビーム偏向器制御装置7を備え、ビーム偏向器2は、ビーム1の進行方向に短手方向を並べた複数の導体板27a〜27hが配置されたライン電極板24と、ライン電極板24に平行に配置された電極板26を有し、導体板27a〜27hは、長手方向に直列に接続され、インピーダンス整合がされており、ビーム偏向器制御装置7は、ビーム1が導体板27a〜27hの短手方向を通過する粒子移動基本時間TP0に、導体板27a〜27hの長手方向を伝送する伝送基本時間TV0を同期させた電圧パルス31を出力する。 (もっと読む)


【課題】被検体をより高精度に位置合わせすること。
【解決手段】被検体の位置合わせ時透視画像61を撮影する位置合わせ時透視画像撮影部と、その被検体の計画時3次元データに基づいて、形状が患者の形状と等しい水の塊を映す体厚画像62を再構成する体厚画像作成部と、その位置合わせ時透視画像61とその体厚画像62とに基づいて強調画像を作成する強調画像作成部とを備えている。その強調画像の各ピクセルP1は、位置合わせ時画像61の各ピクセルP1に対応する輝度g1と、体厚画像62の各ピクセルP1に対応する輝度g2とを比較した差異を示している。このような強調画像は、その被検体の骨が強調されて映し出される。このため、このような放射線治療装置制御装置は、その骨が所定の位置に配置されるように、その被検体をより高精度に位置合わせすることができる。 (もっと読む)


【課題】シンクロトロンの小型化が可能なビーム取り出し方法、ならびにそれを用いた小型粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】上記課題を解決する本発明の特徴は、第1番目の出射用偏向器と第2番目の出射用偏向器を出射ビームの変位符号が同じ領域に設置し、第2番目の出射用偏向器の偏向方向を第1番目の出射用偏向器と逆方向とする。第2番目の出射用偏向器で偏向された出射ビームは周回軌道を交差し、変位の符号は逆転する。出射ビームは第1番目の出射用偏向器出口での軌道変位とは逆符号側で、十分なセパレーションがとれる位置に設置した第3目の出射用偏向器によってシンクロトロンから取り出す。 (もっと読む)


【課題】線量分布の一様度が向上した治療計画データを作成する粒子治療計画装置を提供することを課題とする。
【解決手段】粒子線治療を行うための治療計画データを作成する治療計画装置において、患者の患部(標的)を含む複数枚の断層画像から標的の動きを抽出し、これを走査電磁石の走査面内に射影することで、走査方向を定める。この走査方向に平行な直線上に照射位置を配置することで、標的方向に主な走査を行う走査経路が算出でき、上記課題を解決することができる。 (もっと読む)


【課題】患者体軸周りの複数の方向から照射可能な粒子線治療装置およびその偏向装置のコスト低減を図る。
【解決手段】偏向装置は上流から第1偏向電磁石3と第2偏向電磁石4と第3偏向電磁石(スプリット式トンネル型電磁石)5とを配置する。第3電磁石装置5はトンネル形状の電磁石を間隙部15を設けて患者体軸方向に連設するように構成される。トンネル形状は患者体軸が貫通可能な空洞部16を有する。間隙部15はスプリットを形成する。制御装置40が適切な偏向装置3〜5の励磁電流量を指令すると、粒子線ビーム1は偏向電磁石3,4により略平行にオフセットされ、第3偏向電磁石5による磁場空間において、円軌道を描きながら、患部に照射される。これにより患者体軸周りの複数の方向から照射が可能となる。偏向装置は、患者2と同じ程度の高さに固定して据え付けられ、空間的な移動を伴わない。これによりコスト低減を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】照射自由度が高く、正常組織への照射量を低減できる粒子線治療装置を得ることを目的とする。
【解決手段】供給された荷電粒子ビームBecを治療計画に基づく3次元の照射形状に整形するよう荷電粒子ビームBecをそれぞれ異なる方向に走査制御する2つのスキャニング電磁石2a、2bを備えた走査電磁石2と、走査電磁石2の下流に設置され、走査電磁石2により走査された荷電粒子ビームBecが、走査電磁石2から複数のアイソセンタCa〜Ccのそれぞれに向かうように設定されたビーム軌道57a〜57cのうち、選択されたひとつのアイソセンタに向かうビーム軌道を通るように、荷電粒子ビームBecの軌道を切り替える偏向電磁石54と、を備える。 (もっと読む)


【課題】小型であり設置コストや運用コストが低廉でありながら、重粒子につきがん治療を可能とする程の十分なエネルギーを有するまで加速可能となるような磁場分布を形成することができる空芯型サイクロトロンを提供する。
【解決手段】空芯型サイクロトロンのコイルシステム1にあって、軸方向に対向し、半径方向に等時性磁場を形成する一対のメインコイルユニット2と、軸方向に対向し、円周方向に強弱のある磁場を形成する一対のスパイラルセクターコイルユニット4を設ける。スパイラルセクターコイルユニット4は、複数のスパイラルセクターコイル41を含む。各スパイラルセクターコイル41は、酸化物超電導導体を、螺旋状に湾曲する扇形に沿うように巻いた空芯のコイルとし、互いに回転対称となるように配置する。 (もっと読む)


【課題】本方法は、患者を放射線ビームに位置合わせするときの誤差を求める。
【解決手段】治療計画中に計画容積Vが取得され、治療中に治療容積Iが取得される。座標変換Tによって位置合わせされることになる前記計画容積および前記治療容積内の点r毎に、重み付けされた誤差WEが、重み付け関数W(r)によって重み付けされた、前記計画容積および前記治療容積に適用される目的関数F(r,T)を用いて


のように最小にされ、ここで、W(r)はターゲット重みW、リスク組織重みW、および送達線量重みWの関数である。 (もっと読む)


放射線量は、正規化された形態のビーム群のモデルおよび標的線量を提供することにより、最適化される。グラム行列がモデルから決定される。標的線量がサブサンプリングされて、ビーム群の初期強度値が決定される。次に、以下のステップが、収束するまで繰り返される。非常に小さな正の値0<ε<<1を各強度値に加算して、強度値がゼロよりも大きいことを保証する。各強度値にグラム行列を乗算して、積を求め、積を要素毎に除算して正規化された標的線量にし、対応する比率を求める。比率が、数値許容誤差内ですべて1に近い場合、ビーム群の初期値を出力する。そうでない場合、次の反復前に、強度値に比率を乗算される。
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【課題】X線治療装置を小形化および高速化するために、治療対象の病巣組織の動きに追従して、その位置をリアルタイムに同定できる小形の位置同定装置が必要であった。病巣組織の近傍に埋め込まれる低侵襲性でX線撮像に適したマーカも必要であった。これらを使って、高速で高精度なX線治療方法を提供する。
【解決手段】本発明による病巣組織リアルタイム位置同定装置は、1または2以上のX線源が平面または円弧状曲面に配置され、前記X線源に対向して配置されたX線センサを備え、患者が仰臥するカウチに取り付けられるか6軸又は7軸ロボットのヘッドに取り付けられる。前記X線源はマイクロフォーカスX線源であって、フラットパネルセンサなどと組み合わせて高速のX線撮像ができる。病巣組織の近傍に埋め込まれるマーカは形状記憶合金製または超弾性合金製であって、患者に低侵襲性である。これらを使って、リアルタイムに高精度なX線治療を実現する。 (もっと読む)


【課題】偏向電磁石による荷電粒子ビームの偏向制御を高精度に調整する偏向電磁石調整装置を得ることを目的とする。
【解決手段】偏向電磁石11、21により走査された荷電粒子ビーム1の走査軌道を検出するモニタ31と、走査軌道に基づいて所定の走査軌道になるような補正データを生成し、偏向電磁石11、21を制御する制御部12、22に補正データを送信するフィードバック制御装置41とを備えた。また、フィードバック制御装置41は、荷電粒子ビーム1の走査軌道における真円からのずれの度合いである真円度を判定し、真円度が所定の許容範囲を超えた場合に、走査軌道の真円度が許容範囲になるような補正データを生成する。 (もっと読む)


【課題】ターゲットにおける熱応力の発生を抑制することが可能な荷電粒子の照射制御装置を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る荷電粒子の照射制御装置100は、荷電粒子Pの照射を受けて中性子nを発生する物質からなるターゲット38に対して、当該荷電粒子の照射制御を行う照射制御装置において、荷電粒子Pを偏向させる偏向手段110,120と、偏向手段110,120を制御して、荷電粒子PのビームBpをターゲット38の照射面38a上で周回移動させる制御手段130と、を備える。 (もっと読む)


【課題】低コストで、線量の揺らぎが防止され設定量の線量が得られるビーム制御装置、粒子線照射装置、およびこれらの制御方法を提供する。
【解決手段】本発明のビーム制御装置は、シンクロトロン2を備え、シンクロトロン2からのベータトロン振動の共鳴を用いた粒子線ビームの取り出しを行うためのビーム制御装置1であって、シンクロトロン2内の粒子線ビームのセパラトリクス生成のための共鳴の次数に対応した多極電磁石6と、多極電磁石6の磁場強度を、生成したセパラトリクス面積を所望の大きさに保ちながら、高く制御することによって、前記粒子線ビームのビームスピルリップルを所定量以下に低減するビーム制御手段とを備えている。 (もっと読む)


【課題】直線加速器の運転周期に対する最短周期制限を維持したまま円形加速器に対する荷電粒子ビームの入射を任意のタイミングで行うことを可能として照射時間を短縮し、治療時間を短くする荷電粒子ビーム発生装置、荷電粒子ビーム照射装置及びそれらの運転方法を提供する。
【解決手段】加速器機器制御装置210はビーム利用系制御装置400からのビーム出射要求信号によりシンクロトロン200の運転を制御する。制御装置400はシンクロトロン200の出射完了後に次の運転サイクルの入射タイミングを知らせるタイミング信号を発生し、直線加速器111の運転タイミングを変更して入射タイミングに合致させる。 (もっと読む)


【課題】精度低下を抑えながら、演算処理の負担を軽減して荷電粒子線の線量分布を早期に割り出すことが可能となる荷電粒子線量シミュレーション装置、及び荷電粒子線量のシミュレーション方法を提供することを目的とする。
【解決手段】被照射体Xの物質情報及び陽子線Bの照射情報を含むシミュレーションデータの入力を受け付ける入力部31と、入力部31で受け付けられたシミュレーションデータ及び線量分布カーネルに基づいて、被照射体X内の陽子線Bの線量分布を割り出す演算部33と、を備え、演算部33は、体表面に到達した仮定される陽子線BからSurface Mapを作成すると共に、Surface Mapを細分化して陽子線Bを複数のビームレットBaに細分化し、入力部31で受け付けられたシミュレーションデータと複数のビームレットBaとに基づいて被照射体X内での陽子線Bの線量分布を割り出すシミュレーション装置3とした。 (もっと読む)


【課題】粒子治療計画装置において標的領域外の高線量領域の出現を抑制する治療計画情報を提供することにある。
【解決手段】粒子線を照射する標的となる標的領域を入力する標的領域入力手段302と、標的領域を包含するように設定された照射領域の内部において粒子線を照射する照射スポットを決定する演算装置305を備え、演算装置305が照射領域の輪郭上に前記照射スポットを配置し、かつ、隣り合う照射スポットの間隔が予め定められた設定値以下となるように、照射スポットを決定する。このように粒子線の停止位置近辺の標的領域形状を抽出し、この形状内に一様な高線量領域が形成されるようにスポット間隔を領域内の位置に依存して変化させることで、標的領域での粒子線の照射線量が一様となる高線量領域と標的領域との乖離を抑制することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】取り出される荷電粒子ビームの線量を一定に保つことが可能な粒子線照射システムを提供する。
【解決手段】粒子線照射システム1Aにおいて、シンクロトロン40を駆動制御する加速器制御部71及びRF−KO電極駆動装置80Aは、RF−KO電極45の駆動を停止したまま、シンクロトロン40を駆動し、続いて、RF−KO電極45に対して、第一のRF−KO信号をRF−KO電圧として印加し、続いて、RF−KO電極45に対して、第一のRF−KO信号と、第二のRF−KO信号と、をRF−KO電圧として印加するとともに、シンクロトロン40から取り出された荷電粒子ビームの線量に基づくRF−KO電圧に関するフィードバック制御を開始し、当該フィードバック制御のゲインをゼロから所定値まで連続的に上昇させ、続いて、RF−KO電圧に関するフィードバック制御を、当該フィードバック制御のゲインを所定値としたまま行う。 (もっと読む)


【課題】位置決めのずれ量算出数が6軸となり精度が向上し、照射対象の位置の決定に時間かからず、X線の被曝量が少ない。
【解決手段】放射線ビーム照射対象位置決め装置2は、前・今回の照射対象Kの第1・第2方向からの前・今回の第1・第2投影画像を表示する第1表示部と、前・今回の第1投影画像で照射対象Kの特徴点として指示される前・今回の第1指示点によって、前・今回の第2投影画像での前・今回の直線を求める第1演算部と、前・今回の直線を前・今回の第2投影画像に表示する第2表示部と、前・今回の第2投影画像に表示された前・今回の直線g2、g2´上に特徴点として指示される前・今回の第2指示点と、前・今回の第1指示点とから、前・今回の特徴点の位置を演算する第2演算部と、前・今回の特徴点の間の位置ずれ量を演算し、照射対象Kの前・今回の位置の位置ずれ量を演算する第3演算部と、該位置ずれ量を出力する出力部とを備える。 (もっと読む)


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