【課題】ゲート照射時に照射対象に不規則変動が生じたときも効率のよい照射を行うことで、照射時間を短縮し、治療時間を短縮できる荷電粒子照射システムおよび荷電粒子照射方法を提供する。
【解決手段】規則的な移動信号による規則的な出射許可終了信号受信によりビームの出射が停止される。一方、出射許可終了信号受信により、出射可能状態維持機能４６ｂが作動する。待機中に出射許可開始信号が再受信されず、設定待機時間を経過すると、出射可能状態維持機能４６ｂは作動終了となる。荷電粒子ビーム発生装置１はビームを減速する。
照射中の不規則的な出射許可終了信号受信によりビームの出射が停止される場合もある。一方、出射許可終了信号受信により、出射可能状態維持機能４６ｂが作動し、荷電粒子ビーム発生装置１は出射可能状態を維持する。待機中に出射許可開始信号が再受信されると、ビームの出射が再開される。 （もっと読む）

【課題】照射線量一様度を低下させずにビーム利用効率を高めることのできる粒子線照射システムを提供する。
【解決手段】
イオンビーム１０を加速して出射するシンクロトロン１３と、シンクロトロン１３から出射されたイオンビーム１０を照射する照射装置３０とを有し、照射装置３０から一単位の照射を複数回行う粒子線照射システムにおいて、シンクロトロン１３内の蓄積ビーム電荷量（Ｑｍｅａｓ）を計測する蓄積ビーム電荷量計測手段１５と、蓄積ビーム電荷量計測手段で計測した蓄積ビーム電荷量（Ｑｍｅａｓ）に基づき、シンクロトロン１３から出射する目標ビーム電流値（Ｉｆｂ）を設定する目標電流設定手段と、前記目標電流設定手段より求められた出射ビーム電流の目標値（Ｉｆｂ）に基づきビーム電流を制御する出射ビーム電流補正制御手段を備えることを特徴とする粒子線照射システム。 （もっと読む）

【課題】スポットスキャニング照射で治療精度を容易に向上できる粒子線治療システムを低コストで提供する。
【解決手段】粒子線治療システム１００は、荷電粒子ビームを断続的に出射するシンクロトロン２００、ビーム輸送系３００と照射装置５００から構成される。制御装置６００は、照射装置５００に荷電粒子ビームを供給する期間では出射装置２６に印加する高周波電力をＯＮし、照射装置５００への荷電粒子ビームの供給を遮断する期間では出射装置２６に印加する高周波電力をＯＦＦするとともに、照射装置５００に荷電粒子ビームを供給する期間の間で出射装置２６に印加する高周波電力の帯域中心周波数を変化させる。 （もっと読む）

【課題】アイソセンター位置における荷電粒子線の線量分布を精度良く算出することができる荷電粒子線照射装置及び荷電粒子線の線量分布算出方法を提供する。
【解決手段】本発明は、アイソセンター位置の被照射体に対して荷電粒子線Ｐを照射する荷電粒子線照射装置１００であって、被照射体に荷電粒子線Ｐを照射する照射部１と、照射部１に設けられ、照射部１に設けられ、荷電粒子線の線量分布を測定する線量分布モニタ６と、線量分布モニタ６の測定結果に基づいて、アイソセンター位置における荷電粒子線Ｐの線量分布を算出する線量分布算出部１１と、を備える。この荷電粒子線照射装置１００によれば、照射部１を通過する荷電粒子線Ｐの線量分布の測定結果に基づいて、アイソセンター位置における荷電粒子線Ｐの線量分布を算出することができる。 （もっと読む）

【課題】四極電磁石の調整時間短縮を図ることのできる調整方法を提供する。
【解決手段】ビームライン上にビーム整形板２およびビームモニタ４を設置する。イオンビームを照射し、ビーム整形孔に通過させ、格子状に整形する。四極電磁石が励磁されていない場合、ビームモニタ４により、格子状配列形状のビーム形状が計測される。Ｘ方向においてイオンビームが集束するように、磁石３Ａを励磁する。励磁電流が増すごとに、格子状配列のＸ方向間隔は狭くなり、Ｘ方向配列の５つの格子点は一つの略長円となり、Ｙ方向に1つの点列（1×５）が形成される。点列形成を確認すると、Ｘ方向長さを計測する。励磁電流が増すごとに、Ｘ方向長さは短くなる。励磁電流を漸増し、各点（５点）の平均が基準サイズ以下になると、適切にビーム集束されたと判断し、端末７を介して、Ｘ方向集束調整完了指令を行ない、そのときの励磁電流値を記憶する。 （もっと読む）

【課題】
３次元の画像又はマップ内で関心構造を描写する方法及び装置を提供する。
【解決手段】
関心構造を描写する装置は、３次元の画像又はマップ（８０）内で選択可能な方向の輪郭描写平面を選択するための平面選択インタフェース（３２、７０）、選択された輪郭描写平面内で輪郭を定めるための輪郭描写インタフェース（３２、７２）、及び３次元の画像又はマップ内で関心構造を描写する３次元多角形メッシュ（９０）を構築するように構成されたメッシュ構築部（７４、７６）を含む。メッシュ構築部は、輪郭描写インタフェースを用いて定められた複数の、同一平面内にない描写輪郭（８４、Ｃｃｏｒ、Ｃｏｂｌ）の上又は付近に制約頂点（１０２、Ｖｃ）を位置付ける。 （もっと読む）

【課題】 陽子ビーム等のマイクロビームの照射強度を照射しながら測定する。
【解決手段】 本発明のある態様においては、内部に通路１０２をなす側壁１０６と、通路１０２の一端１０４Ｔまたはその近傍にて通路１０２を塞ぐように配置され、荷電粒子の透過に応じてシンチレーション光を発するシンチレーターを含む先端壁１０８とを備えるエネルギー付与用ノズル１００が提供される。典型的には、その先端壁１０８は、シンチレーターを含む微粒子１１２を融解または軟化して形成される。 （もっと読む）

【課題】スポットの集合の照射中における異常発生時のビーム出射処理（中断、再開）を適切に行うことにより、照射精度を上げて、安全かつ効率的に照射する。
【解決手段】シンクロトロン１２と、走査電磁石５Ａ，５Ｂを有し、シンクロトロン１２から出射されたイオンビームを走査するスキャニング照射装置１５と、シンクロトロン１２からのイオンビームの出射をビーム出射停止指令に基づいて停止させ、この状態で走査電磁石５Ａ，５Ｂを制御することによりイオンビームの照射位置（スポット）を変更させ、この変更後にシンクロトロン１２からのイオンビームの出射を開始させる。ある照射スポットへのビームの照射中に、照射継続可能な比較的軽度な異常が発生した場合に、直ちにビーム出射を停止せず、その照射スポットを含む予め定義されたスポットの集合に属する全スポットについての照射を完了させた時点でビーム出射を停止する。 （もっと読む）

【課題】チェンバの亀裂が生じ難く、粒子線を高速に移動できる粒子線照射ノズルを提供する。
【解決手段】入射した粒子線を、この粒子線の進行方向と垂直な方向に走査する走査電磁石と、この走査電磁石に囲まれ、内部に上記粒子線を通過させるビーム輸送チェンバを備えた粒子線照射ノズルにおいて、ビーム輸送チェンバは、非磁性材料のフランジ部を有し、このフランジ部と同一材料で一体的に形成されたチェンバ本体と、当該ビーム輸送チェンバから粒子線を照射対象の方向に取り出すための、金属フランジに取り付けられた隔離窓と、チェンバ本体のフランジ部と隔離窓の金属フランジとを接続する金属製の隔離窓接続部材とを備えるようにした。 （もっと読む）

【課題】架台を大型化せず架台の回転角度や揺動角度による照射精度の低下を抑制し、スキャニング方式における照射精度の低下を抑制できる荷電粒子線照射装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線Ｒを被照射体へ照射する荷電粒子線照射装置１であって、荷電粒子線Ｒを走査する走査磁石を有し、走査された荷電粒子線Ｒを被照射体へ照射する照射ノズル６と、サイクロトロン２より送られてきた荷電粒子線Ｒを照射ノズル６へ向けて偏向させる偏向磁石５Ａと、照射ノズル６と偏向磁石５Ａとが配置され、回転軸Ｐを中心に回転可能な回転ガントリ−３と、回転軸Ｐと照射ノズル６から照射される荷電粒子線Ｒの照射位置との位置関係を検出する位置検出部８と、回転ガントリ−３の回転角度に対応する位置検出部８の検出結果を利用して、照射ノズル６から照射される荷電粒子線の照射位置を調整する制御装置Ｔとを備える。 （もっと読む）

【課題】エネルギーが低い方の荷電粒子線の透過率の低下を緩和することが可能なエネルギーデグレーダ及びそれを備えた荷電粒子線照射システムを提供すること。
【解決手段】エネルギーの減衰量が異なる複数の減衰部材１１Ａ〜１１Ｇを備え、エネルギー減衰量が大きい方の低エネルギー側減衰部材１１Ｇを、エネルギー減衰量が小さい方の高エネルギー側減衰部材１１Ａよりも透過率が高い材質から形成する。 （もっと読む）

【課題】シンクロトロンの小型化に好適な機器の配置とそれを用いたシンクロトロン、及び当該シンクロトロンを用いた粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】上記課題を解決する本発明の特徴は、加速又は減速した荷電粒子ビームを取り出すための第１出射用偏向器２０８及び第２出射用偏向器２０９を備え、第１出射用偏向器２０８と第２出射用偏向器２０９の間に複数の偏向電磁石２０２と第１の四極電磁石２０４を有し、第１の四極電磁石２０４は複数のいずれかの偏向電磁石２０２の間に設置され、第１出射用偏向器よりもビーム進行方向の上流側に配置される第２の四極電磁石と、第２出射用偏向器よりもビーム進行方向の下流側に配置される第３の四極電磁石を備えることにある。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子を加速するための加速電極と、加速電極に電力を供給する高周波電源とのインピーダンス整合をとる際の調整時間の短縮化を図ることが可能な調整回路を備えた粒子加速器を提供すること。
【解決手段】加速電極と高周波電源とのインピーダンス整合をとる整合回路の常数の調整を電気的に行う構成とする。具体的には、コイル２３のインダクタンスＬ１を調整するための円環状のフェライトと、フェライト２４に巻き付けられたバイアス巻線２５と、バイアス巻線２５にバイアス電流を供給するバイアス電源３１と、バイアス巻線２５に供給するバイアス電流を増減するバイアス電流調整部とを備える構成とし、バイアス巻線２５に供給するバイアス電流の増減を調整することで、フェライト２４の透磁率μを変更し、整合回路１０の常数を短時間で調整する。 （もっと読む）

【課題】多分割絞り体に設けられた絞りブロックの経時的な位置ズレを放射線照射強度分布の不均一性に影響されることなく正確に検出する。
【解決手段】絞り画像解析装置３は、所定位置に対しその端部が配置された前記絞りブロックに対する放射線撮影によって収集された投影データに基づいて基準画像データを生成する基準画像データ生成し、更に、前記所定位置あるいはその近傍に前記端部が配置された前記絞りブロックに対する放射線撮影によって収集された投影データに基づいて評価用画像データを生成する画像データ生成部３１と、前記基準画像データに示された前記絞りブロックの端部の位置情報と前記評価用画像データに示された前記絞りブロックの端部の位置情報とに基づいて前記所定位置に対する前記絞りブロックの位置ズレを検出する位置ズレ検出部３５を備える。 （もっと読む）

【課題】被照射体に対する照射量の高精度なコントロールを実現できる荷電粒子線照射装置を提供する。
【解決手段】本発明は、被照射体に荷電粒子線Ｒを照射する荷電粒子線照射装置１００であって、荷電粒子線Ｒを走査して、被照射体の所定の部位へ荷電粒子線Ｒを照射する照射部１と、照射部１内に設けられ、被照射体へ向かう荷電粒子線Ｒの照射位置を検出するビーム位置モニタ５と、ビーム位置モニタ５に対して荷電粒子線Ｒの下流側に配置され、荷電粒子線Ｒを通過させる開放状態と荷電粒子線を遮断する遮断状態とを切り換え可能なシャッター機構６と、を備える。この荷電粒子線照射装置１００によれば、シャッター機構６を遮断状態に切り換えることにより照射位置調整前の荷電粒子線Ｒを患者に照射することなく照射位置の確認及び調整を行うことができるので、被照射体に対する照射量の高精度なコントロールを実現できる。 （もっと読む）

【課題】生体内で移動する患部を追尾する精度を向上できる放射線治療装置制御装置を提供する。
【解決手段】呼吸位相ごとに生成されたＣＴ画像データ群の中から、患部を写すＣＴ画像データを複数の呼吸位相について選択し、更新対象のＣＴ画像データを用いて呼吸位相に応じた再構成画像を線源及びセンサアレイの回転角度ごとに生成する。回転角度が所定の回転角度である場合に放射線を照射した際の患部を写す放射線投影画像を生成し、複数の呼吸位相ごとの再構成画像と放射線投影画像とを比較して差分が少ない再構成画像が示す呼吸位相を、現在の呼吸位相と判定し、当該呼吸位相のＣＴ画像データ群内のＣＴ画像データにおいて予め算出されている患部の位置を、現在の前記患部の位置と特定する。 （もっと読む）

【課題】 陽子ビーム等のマイクロビームの照射強度を照射しながら測定する。
【解決手段】 本発明のある態様においては、内部に通路１０２をなす側壁１０６と、通路１０２の一端１０４Ｔまたはその近傍にて通路１０２を塞ぐように配置され、荷電粒子の透過に応じてシンチレーション光を発するシンチレーターを含む先端壁１０８とを備えるエネルギー付与用ノズル１００が提供される。典型的には、その先端壁１０８は、シンチレーターを含む微粒子１１２を融解または軟化して形成される。 （もっと読む）

【課題】線量分割パターン及び実行パターンを含む照射分割パターンを適切に設定することができる治療計画システムを得ることを目的とする。
【解決手段】放射線の総照射線量ｄａ１３を分割照射する照射回数ｄａ１４と、分割された線量を照射する照射間隔区分を含むパターンである実行パターンｄａ１５とを含む照射分割パターンｄａ１６を、患部の部位を分類する治療部位ｄａ１２及び総照射線量ｄａ１３に対応させて管理する照射分割パターン管理装置２と、患部に照射する総照射線量ｄａ１３及び患部の治療部位ｄａ１２に基づいて、照射分割パターン管理装置２に管理された照射分割パターンｄａ１６を取得し、患部に対する照射条件に照射分割パターンｄａ１６を設定した治療計画ｄａｔａ４を作成する照射分割パターン設定装置１と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】粒子線治療装置で要求される照射ビームのエネルギーの変更制御が容易でありかつ、装置コストおよび装置の大型化を抑えられるイオンシンクロトロンを提供する。
【解決手段】電磁石電源制御装置22は、対して励磁電流パターンデータ401に基づき励磁電流設定値221を偏向電磁石電源21に設定する。電流変化検出装置23は、偏向電磁石電源制御装置22から入力した励磁電流設定値221の変化量が更新制御の基準となる参照電流値（Iref）以上になると、高周波制御装置32内の周波数更新制御部36に周波数更新指令信号231を出力する。高周波制御装置32内の周波数更新制御部36は、周波数更新指令信号231を入力すると、周波数データメモリ35に記憶された周波数パターンデータ403から励磁電流設定値221の変化に対応する周波数データ351を読み込み、高周波発振器34に周波数設定値321として設定する。 （もっと読む）

【課題】治療制御コンピュータによって制御される放射線治療装置を提供する。
【解決手段】線源であって、治療用の放射線のビームをビーム軸線に沿って放出することができ且つビーム軸線と実質的に一致する回転軸線を中心として回転することができ、これによって前記軸線を中心として弧を描く、線源と、ビームを所望の形状にコリメートするように構成された多分割コリメータと、線源の線量の率、線源の回転、および、前記多分割コリメータを制御することができる制御手段と、を有するタイプの放射線治療装置用の治療計画装置である。 （もっと読む）