【課題】内視鏡に組み込んで生体内へ挿入可能な、紫外線レーザを用いるタイプのＸ線発生装置を用いた治療器を提供する。
【解決手段】紫外線レーザ発生装置５１から放出される紫外線レーザを電子線放出素子２０の紫外線レーザ受光面２１に照射し、電子線放出素子において紫外線レーザ受光面と異なる電子線放出面２３から放出される電子線を金属片２５へ照射し、該金属片からＸ線を発生させるＸ線発生方法において、紫外線レーザとして、単位パルス強度を１０００μジュール以下とし、単位パルスの幅を１００ｎｓ以下のものを使用し紫外線レーザ受光面の物質の変性を防止し、かかるＸ線発生装置とともにＸ線照射部位から放出される各種の光を検出する検出器を備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線治療装置を小形化および高速化するために、治療対象の病巣組織の動きに追従して、その位置をリアルタイムに同定できる小形の位置同定装置が必要であった。病巣組織の近傍に埋め込まれる低侵襲性でＸ線撮像に適したマーカも必要であった。これらを使って、高速で高精度なＸ線治療方法を提供する。
【解決手段】本発明による病巣組織リアルタイム位置同定装置は、１または２以上のＸ線源が平面または円弧状曲面に配置され、前記Ｘ線源に対向して配置されたＸ線センサを備え、患者が仰臥するカウチに取り付けられるか６軸又は７軸ロボットのヘッドに取り付けられる。前記Ｘ線源はマイクロフォーカスＸ線源であって、フラットパネルセンサなどと組み合わせて高速のＸ線撮像ができる。病巣組織の近傍に埋め込まれるマーカは形状記憶合金製または超弾性合金製であって、患者に低侵襲性である。これらを使って、リアルタイムに高精度なＸ線治療を実現する。 （もっと読む）

【課題】スポットスキャニング照射法では、ビーム照射中のビーム位置を監視し、許容範囲を逸脱するとビーム停止する必要がある。また、照射スポットの移動時に走査電磁石電流が安定しビーム位置が許容範囲におさまるための待ち時間が必要である。従来技術では、ビーム位置の許容範囲をすべての照射スポットで同じ値を設定していたため、治療時間が長くなる可能性があった。
【解決手段】荷電粒子ビームを加速する荷電粒子ビーム発生装置２００と、通過する荷電粒子ビームを患部の各照射スポットに走査して照射する照射ノズル４００と、荷電粒子ビーム発生装置２００から出射された荷電粒子ビームを照射ノズル４００に輸送するビーム輸送系３００と、患部に照射する荷電粒子ビームのビーム位置の許容範囲を、照射スポット毎の目標ビーム照射量に応じて設定する制御装置１００を備えることで、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】放射線治療の前に、治療装置と患者或いは他の治療装置との物理的干渉の有無をチェックする干渉チェックシミュレーションの精度を向上させる事を目的とする。
【解決手段】患者２４を光学ステレオカメラ２３により撮影した光学画像と放射線治療の治療計画に用いるＣＴ画像とを関連付けされた患者３Ｄモデル１５を生成する患者３Ｄモデル撮影部５と、患者３Ｄモデル１５と治療装置の３Ｄモデルに基づいて物理的干渉の有無をチェックする干渉チェックシミュレーション部２とを備えた。 （もっと読む）

【課題】ビーム取り出しの高速ＯＮ／ＯＦＦが可能な環状加速器、ならびにそれを用いた、柔軟な照射に対応可能な粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】上記課題を解決する本発明の特徴は、周回する荷電粒子ビームを加速・減速する環状加速器２００と、環状加速器を制御する加速器制御装置５０１とを備え、環状加速器２００は、荷電粒子ビームのビーム軌道上に、少なくとも１台の六極電磁場成分発生装置２６と、この六極電磁場成分発生装置２６の設置位置での荷電粒子ビームのビーム軌道を変位させる少なくとも１台の軌道偏向電磁石とを有し、加速器制御装置５００は、六極磁場成分発生装置２６を励磁して環状加速器２００から荷電粒子ビームを取り出している期間に、軌道偏向電磁石の励磁を開始するように制御することにある。 （もっと読む）

【課題】粒子線ビームの照射中に線量プロファイルをモニタリングし、実際の照射状況を視覚的かつ定量的に確認することができる粒子線ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る粒子線ビーム照射装置は、ビーム生成部と、粒子線ビームの出射を制御するビーム出射制御部と、照射対象の患部を粒子線ビームの軸方向に分割した各スライスに対して、粒子線ビームの位置を２次元で順次指示するビーム走査指示部と、ビーム走査指示部からの指示信号に基づいて粒子線ビームを２次元で走査するビーム走査部と、ビーム走査部と患者との間に配置され、透過する前記粒子線ビームの粒子線線量に応じた光量で発光する蛍光体板と、蛍光体板をスライス毎に撮像する撮像部と、撮像部で撮像された画像データからスライス毎の照射線量の分布を求め、求めた照射線量の分布を前記粒子線ビームの走査位置と関連付けて表示する表示部と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】走査電磁石のヒステリシスの影響を排除し、高精度なビーム照射を実現する粒子線照射装置を得ること。
【解決手段】走査電磁石３の磁場を測定する磁場センサ２０と、走査電磁石３を通過した荷電粒子ビーム１ｂの出射量を制御する照射制御装置５とを備えた。照射制御装置５は、磁場センサ２０で測定されるＸ方向及びＹ方向の磁場で定義された複数の領域Ｓ_ｉ，ｊを通過した荷電粒子ビーム１ｂの線量の積算値を前記領域Ｓ_ｉ，ｊ毎に求め、前記領域Ｓ_ｉ，ｊ毎の積算値に基づいて、荷電粒子ビーム１ｂの出射量を制御する。 （もっと読む）

【課題】スポットスキャニング照射で治療精度を容易に向上できる粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】粒子線治療システム１００は、シンクロトロン２００とビーム輸送系３００と照射装置５００から構成される。制御装置６００は、照射装置５００に荷電粒子ビームを供給する際には出射装置２６に印加する高周波電力をＯＮし、荷電粒子ビームの供給を遮断する際には出射装置２６に印加する高周波電力をＯＦＦした後に、シンクロトロン２００に設置した電磁石の励磁量を変化させて安定限界を広げ荷電粒子ビームの出射を停止し、次に荷電粒子ビームの供給を再開する前に安定限界を狭め荷電粒子ビームの一部を出射し、該荷電粒子ビームをビーム輸送系３００に設置した電磁石で遮断する。 （もっと読む）

【課題】スポットスキャン法において、スポット数が多くなった場合でも照射時間を短縮し、かつ目標照射量のビームを精度良く各スポットに照射できるようにする。
【解決手段】中央制御装置４６は、事前に目標照射量に応じて、スポット毎に照射時間がほぼ一定となるように目標ビーム電流値を決定し、加速器制御部４７は、その目標ビーム電流値が得られるようシンクロトロン４から出射する荷電粒子ビームの電流値を調整する。また、中央制御装置４６は事前にビーム電流値に対する遅延照射量を計算し、照射装置制御部４８及び加速器制御部４７は目標照射量から遅延照射量を引いた設定照射量に達した時点で出射停止信号を出力してビーム出射を停止する制御を開始する。 （もっと読む）

【課題】濃縮^２３５Ｕを使用せず、高強度で半減期の長い放射性廃棄物を多量に発生させることなく、効率よく廉価に放射性同位元素の安定供給ができる技術を提供する。
【解決手段】固体又は液体の原料ターゲットに加速器からの高速中性子を照射し、１個の中性子の照射により３個の中性子を放出する（ｎ，３ｎ）反応を起させ、放射性同位元素を直接にあるいはベータ崩壊により生成させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】患者に予めシンクロトロンの照射周期に沿って定められた固定の目標呼吸情報を教示し、これに患者の呼吸周期を合わせてもらうよう支援することにより、効率よく粒子線の照射を行うことができる粒子線治療装置に用いられる呼吸ナビゲーション装置及び呼吸タイミングの表示の方法並びに粒子線治療システムを提供するものである。
【解決手段】 患者の呼吸パターンをあらかじめシンクロトロンの運転周期に適した周期に定められた目標呼吸情報として作成しておき、目標呼吸情報を患者に教示することにより、教示した情報に患者が意識的に合わせることによって患者の呼吸タイミングをシンクロトロンの運転に適した状態にもっていくようになされている。 （もっと読む）

【課題】１台の回転照射型の粒子線照射装置において、２つの照射を行うことができる粒子線照射装置を得る。
【解決手段】入射される粒子線を照射する照射装置が照射基準点を回転中心として回転自在に駆動される粒子線照射装置において、入射される粒子線を第１照射系統１４と第２照射系統２３に切り替える照射系統切り替え手段３１と、前記第１照射系統１４に配置された第１の照射装置１５と、前記第２照射系統２３に配置された第２の照射装置２４とを備え、種々の照射形態を選択できるようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、スポットスキャニング法による粒子線治療に好適な照射ビームが得られ、小型で安価かつ調整容易な粒子線治療システムを提供することにある。
【解決手段】
粒子線治療システム１００は、シンクロトロン２００と、ビーム輸送系３００と、照射装置５００から構成され、ビーム輸送系３００に設置され照射装置５００への荷電粒子ビームの供給を遮断するビーム遮断装置７００が、ビーム輸送系３００を構成する偏向電磁石３１の入口側に設置された２つの異なる応答速度の遮断電磁石３３，３４とその励磁電源３３Ａと３４Ａ、および出口側に設置されたビームダンプ３５から構成される。制御装置６００は励磁電源３３Ａと３４Ａを制御して遮断電磁石３３，３４の動作タイミングを調整する。 （もっと読む）

【課題】眼球の動きの範囲が設定された誤差の範囲を越える場合には、陽子ビームの出力を遮断できる眼球腫瘍治療において眼球追跡方法を提供する。
【解決手段】本発明は、眼球腫瘍治療システムの制御装置の出力部を通じて出力される画像の画素当りの実際の長さを、制御装置の制御部が制御装置の記憶部に保存する較正段階；眼球腫瘍治療システムの感知装置から伝送された患者の眼球画像を、制御部が患者の眼球に対するテンプレート画像で記憶部に保存するテンプレート画像生成段階；眼球腫瘍治療システムの陽子ビームの出力装置を通じて患者の眼球治療中、制御部が感知装置から実時間に受け取った患者の眼球の実時間画像をテンプレート画像に比較し、実時間画像の動きの可否を判断する眼球位置追跡段階；及び判断結果により、制御部が陽子ビームの出力装置の動作を停止させ、又は陽子ビームの出力装置の動作を正常的に維持させる制御段階を含む。 （もっと読む）

【課題】
スポットスキャニング法などの高精度な粒子線治療に好適な照射ビームを実現する。
【解決手段】
上記課題を達成するための粒子線治療システムは、荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速し、安定限界を越えた前記荷電粒子ビームを出射するシンクロトロンと、前記荷電粒子ビームを照射対象に照射する照射装置と、前記シンクロトロンから出射した前記荷電粒子ビームを前記照射装置に輸送するビーム輸送系と、前記シンクロトロンを周回する前記荷電粒子ビームの一部を除去した後、周回する他の前記荷電粒子ビームを前記シンクロトロンから出射して前記照射装置に輸送するように制御する制御装置を有する。 （もっと読む）

【課題】放射線治療される患者の負担をより軽減すること。
【解決手段】放射線治療に利用される第１治療用放射線を発生させる第１治療用放射線照射装置１６−１と、第２治療用放射線を発生させる第２治療用放射線照射装置１６−２と、第１治療用放射線と第２治療用放射線が一部分に照射されるように第２治療用放射線照射装置１６−２と第１治療用放射線照射装置１６−１を支持する支持装置１５−１〜１５−３と、第１治療用放射線が発生する第１タイミングと第２治療用放射線が発生する第２タイミングとを制御するタイミング制御装置６をさらに備えている。このとき、放射線照射装置を１つだけ備えている装置に比較して、被検体の一部分に照射される治療用放射線の線量率をより大きくすることができ、放射線治療を短時間化することができる。 （もっと読む）

【課題】人間の脳内等の任意の小範囲に、非接触で、電磁波ビームの焦点を照射し、それを急速に３次元走査しうるようにする。
【解決手段】マトリックス状に多数の電磁波放射素子を設け、それらにおける各素子の電磁波パルス放射時間位相を変えて飽射方向を変えるフェーズドアレーアンテナの中心点を含む光軸（放射方向）上の任意の１点に焦点を結ばせるため、該フェーズドアレーアンテナの光軸上の任意の１点に放射された電磁波を集束させるようにする、集束用位相調整回路を設けて、アンテナから任意の距離離れた遠隔の位置に焦点を結ばせることができると同時に、放射される電磁波の縦方向制御を行ないうるようにし、かつ、放射される電磁波の横方向制御を行ないうるようにして、遠隔点状３次元電磁波照射システムにより、急速に、任意の位置に電磁波焦点を結ばせうるようにする。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、高い安全性を確保して、高精度で荷電粒子ビームを照射できる荷電粒子ビーム照射システム及び荷電粒子ビーム出射方法を提供することにある。
【解決手段】
荷電粒子ビーム発生装置から出射された荷電粒子ビームを、ビーム進行方向と垂直な照射面上に走査する走査磁石に供給し、この走査磁石を通過した荷電粒子ビームの照射面上における位置及び線量に基づいて、荷電粒子ビーム発生装置からの荷電粒子ビームの出射量を制御する。具体的には、照射面上で分割して形成される複数の領域のうち、目標線量に達した領域への荷電粒子ビームの供給を停止し、目標線量に達していない他の領域に荷電粒子ビームを供給する。 （もっと読む）

制御パラメータは、身体７７内の所定の標的体積を粒子ビーム７５で照射するシステム１０に関する。システムは、標的体積内の複数の標的点３０に連続して粒子ビームを向けて、標的点毎に、該標的点の周囲の領域において所定の線量分布４２を生成するように構成される。制御パラメータは、第１の標的点の線量分布と隣接する標的点の線量分布との重なりの程度を制御する。制御パラメータを求めるために、第１の標的点において身体の動きを定量的に特徴付ける動きパラメータを求める（９４）。動きパラメータに基づいて、制御パラメータを求める（９５）。 （もっと読む）

【課題】照射時間を短縮し、照射対象に対する時間の負荷を軽減させるだけでなく、照射精度を向上させることができるようにする。
【解決手段】荷電粒子ビーム２を出射する加速器１２と、該加速器から出射された荷電粒子ビームを周期変動する照射対象６に複数回スキャニング照射する照射装置２０と、を有する粒子線照射システム１０において、前記照射対象をビーム軸方向に分割して層状に形成される各スキャン領域の大きさに対応する照射線量を、前記加速器からのビーム強度を変調（Ｓ２）させて供給させるビーム強度変調手段と、該ビーム強度変調手段によって変調された荷電粒子ビームにより供給される前記各照射線量を、前記照射対象の周期変動の変位量が所定位相内にあるゲート期間に、前記各スキャン領域に対してスキャニング照射（Ｓ３、Ｓ４、Ｓ５）させる手段と、を備える。 （もっと読む）