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Fターム[4C082AG09]の内容

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Fターム[4C082AG09]に分類される特許

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【課題】照射線量一様度を低下させずにビーム利用効率を高めることのできる粒子線照射システムを提供する。
【解決手段】
イオンビーム10を加速して出射するシンクロトロン13と、シンクロトロン13から出射されたイオンビーム10を照射する照射装置30とを有し、照射装置30から一単位の照射を複数回行う粒子線照射システムにおいて、シンクロトロン13内の蓄積ビーム電荷量(Qmeas)を計測する蓄積ビーム電荷量計測手段15と、蓄積ビーム電荷量計測手段で計測した蓄積ビーム電荷量(Qmeas)に基づき、シンクロトロン13から出射する目標ビーム電流値(Ifb)を設定する目標電流設定手段と、前記目標電流設定手段より求められた出射ビーム電流の目標値(Ifb)に基づきビーム電流を制御する出射ビーム電流補正制御手段を備えることを特徴とする粒子線照射システム。 (もっと読む)


【課題】アイソセンター位置における荷電粒子線の線量分布を精度良く算出することができる荷電粒子線照射装置及び荷電粒子線の線量分布算出方法を提供する。
【解決手段】本発明は、アイソセンター位置の被照射体に対して荷電粒子線Pを照射する荷電粒子線照射装置100であって、被照射体に荷電粒子線Pを照射する照射部1と、照射部1に設けられ、照射部1に設けられ、荷電粒子線の線量分布を測定する線量分布モニタ6と、線量分布モニタ6の測定結果に基づいて、アイソセンター位置における荷電粒子線Pの線量分布を算出する線量分布算出部11と、を備える。この荷電粒子線照射装置100によれば、照射部1を通過する荷電粒子線Pの線量分布の測定結果に基づいて、アイソセンター位置における荷電粒子線Pの線量分布を算出することができる。 (もっと読む)


【課題】スポットの集合の照射中における異常発生時のビーム出射処理(中断、再開)を適切に行うことにより、照射精度を上げて、安全かつ効率的に照射する。
【解決手段】シンクロトロン12と、走査電磁石5A,5Bを有し、シンクロトロン12から出射されたイオンビームを走査するスキャニング照射装置15と、シンクロトロン12からのイオンビームの出射をビーム出射停止指令に基づいて停止させ、この状態で走査電磁石5A,5Bを制御することによりイオンビームの照射位置(スポット)を変更させ、この変更後にシンクロトロン12からのイオンビームの出射を開始させる。ある照射スポットへのビームの照射中に、照射継続可能な比較的軽度な異常が発生した場合に、直ちにビーム出射を停止せず、その照射スポットを含む予め定義されたスポットの集合に属する全スポットについての照射を完了させた時点でビーム出射を停止する。 (もっと読む)


【課題】多分割絞り体に設けられた絞りブロックの経時的な位置ズレを放射線照射強度分布の不均一性に影響されることなく正確に検出する。
【解決手段】絞り画像解析装置3は、所定位置に対しその端部が配置された前記絞りブロックに対する放射線撮影によって収集された投影データに基づいて基準画像データを生成する基準画像データ生成し、更に、前記所定位置あるいはその近傍に前記端部が配置された前記絞りブロックに対する放射線撮影によって収集された投影データに基づいて評価用画像データを生成する画像データ生成部31と、前記基準画像データに示された前記絞りブロックの端部の位置情報と前記評価用画像データに示された前記絞りブロックの端部の位置情報とに基づいて前記所定位置に対する前記絞りブロックの位置ズレを検出する位置ズレ検出部35を備える。 (もっと読む)


【課題】臓器の動きに応じて、照射条件を動的に変更するとともに、線量分布を正確に評価し、治療計画に基づいた適切な治療を行うことができる放射線治療システムを得ることを目的とする。
【解決手段】 呼吸位相毎に撮像された複数の3次元画像と、複数の3次元画像のそれぞれに対して生成された治療計画データRTPを保持する4次元治療計画装置11と、治療対象部位の変位を計測する治療対象部位変位計測装置12と、計測した変位データと、複数の3次元画像とに基づいて、呼吸位相を算出する呼吸位相算出装置13と、算出した呼吸位相と治療計画データに基づいて照射装置17を制御する照射制御部15,16と、放射線の線量分布を評価する線量分布評価部20と、を備え、線量分布評価部20は、呼吸位相ごとに当該呼吸位相に対応する治療計画データに基づいて計算した線量分布を重ね合わせ、重ね合わせた線量分布に応じて放射線量を制御する。 (もっと読む)


【課題】被照射体に対する照射量の高精度なコントロールを実現できる荷電粒子線照射装置を提供する。
【解決手段】本発明は、被照射体に荷電粒子線Rを照射する荷電粒子線照射装置100であって、荷電粒子線Rを走査して、被照射体の所定の部位へ荷電粒子線Rを照射する照射部1と、照射部1内に設けられ、被照射体へ向かう荷電粒子線Rの照射位置を検出するビーム位置モニタ5と、ビーム位置モニタ5に対して荷電粒子線Rの下流側に配置され、荷電粒子線Rを通過させる開放状態と荷電粒子線を遮断する遮断状態とを切り換え可能なシャッター機構6と、を備える。この荷電粒子線照射装置100によれば、シャッター機構6を遮断状態に切り換えることにより照射位置調整前の荷電粒子線Rを患者に照射することなく照射位置の確認及び調整を行うことができるので、被照射体に対する照射量の高精度なコントロールを実現できる。 (もっと読む)


【課題】生体内で移動する患部を追尾する精度を向上できる放射線治療装置制御装置を提供する。
【解決手段】呼吸位相ごとに生成されたCT画像データ群の中から、患部を写すCT画像データを複数の呼吸位相について選択し、更新対象のCT画像データを用いて呼吸位相に応じた再構成画像を線源及びセンサアレイの回転角度ごとに生成する。回転角度が所定の回転角度である場合に放射線を照射した際の患部を写す放射線投影画像を生成し、複数の呼吸位相ごとの再構成画像と放射線投影画像とを比較して差分が少ない再構成画像が示す呼吸位相を、現在の呼吸位相と判定し、当該呼吸位相のCT画像データ群内のCT画像データにおいて予め算出されている患部の位置を、現在の前記患部の位置と特定する。 (もっと読む)


【課題】シンクロトロンからのイオンビームの出射制御の際、イオンビームのON制御時に出射ビーム電流波形のオーバーシュートを抑制することを課題とする。
【解決手段】イオンビームを加速して出射するシンクロトロンと、シンクロトロンから出射されたイオンビームを照射対象に照射する照射装置と、シンクロトロン及び照射装置を制御する制御装置を備え、照射装置は、通過するイオンビームを走査する走査電磁石及びイオンビームの線量を測定する線量モニタを有し、制御装置は、照射対象の各照射領域に対する目標線量値及び目標線量値よりも低い値である閾値を記憶し、線量モニタからの出力信号に基づく積算線量値が閾値になるまでの期間に、シンクロトロンから出射されるイオンビームの電流値を制御することによって、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】患部挿入用の放射線源の強度を効率良く測定することが可能な放射線源強度測定装置及び放射線源強度測定方法を提供する。また、放射線源の取り違えを検出することができる放射線源強度測定装置及び放射線源強度測定方法を提供する。
【解決手段】放射線源の強度を求める放射線源強度測定装置は、微小放射線源挿入装置1の微小放射線源の挿入位置毎に測定パラメータを記憶する記憶部を備えるコンピュータ33と、微小放射線源の挿入時に、微小放射線源挿入装置1のガイド針21中を移動中の微小放射線源からの放射線の強度を測定する放射線センサ31とを備える。コンピュータ33は、挿入位置に基づいて記憶している測定パラメータを特定し、特定した測定パラメータと放射線センサ31により測定された放射線強度とに基づいて、微小放射線源の強度を求める。 (もっと読む)


【課題】治療照射中においても粒子線の深さ方向線量分布を測定できる深さ方向線量分布測定装置、粒子線治療装置及び粒子線照射装置を提供する。
【解決手段】照射野形成装置20はブロックコリメータ45のコリメータ部材44b上流側に取り付けられた複数電離箱型検出器30を備える。検出器30は、ビームの飛程を連続的又は段階的に変更する遮蔽体33とその後段に電離箱37を複数設置した構造を有し、信号処理装置31と共に深さ方向線量分布測定装置39を構成する。照射野形成装置20内に到達した粒子線の一部はビーム通路48を通過して患者60に照射され、残りの粒子線の一部が複数電離箱型検出器30に入射し、電離箱37内で電荷が発生する。個々の電離箱37内で発生した電荷量に基づいて、信号処理装置31で深さ方向線量分布が求められる。 (もっと読む)


【課題】スポットスキャニング照射法では、ビーム照射中のビーム位置を監視し、許容範囲を逸脱するとビーム停止する必要がある。また、照射スポットの移動時に走査電磁石電流が安定しビーム位置が許容範囲におさまるための待ち時間が必要である。従来技術では、ビーム位置の許容範囲をすべての照射スポットで同じ値を設定していたため、治療時間が長くなる可能性があった。
【解決手段】荷電粒子ビームを加速する荷電粒子ビーム発生装置200と、通過する荷電粒子ビームを患部の各照射スポットに走査して照射する照射ノズル400と、荷電粒子ビーム発生装置200から出射された荷電粒子ビームを照射ノズル400に輸送するビーム輸送系300と、患部に照射する荷電粒子ビームのビーム位置の許容範囲を、照射スポット毎の目標ビーム照射量に応じて設定する制御装置100を備えることで、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】 照射室内における被照射体の位置決め精度の向上が図られた荷電粒子線照射装置を提供すること。
【解決手段】 照射室103内において、被照射体51に注入された放射性薬剤の到達位置から発生する消滅γ線を検出し、放射性薬剤の到達位置である照射目標位置を検出する。また、被照射体51に照射された荷電粒子線と被照射体51内の原子核との核反応によって生成されたポジトロン放出核からの消滅γ線を検出し、実際に照射された荷電粒子線の到達位置を検出する。これにより、照射室103内において、照射目標位置、及び実際に照射された荷電粒子線の到達位置を確認することで、照射目標位置と実際に照射された荷電粒子線の到達位置との位置ずれを修正し、適切な位置に被照射体51を位置決めすることができる。 (もっと読む)


【課題】走査電磁石のヒステリシスの影響を低減し、高精度なビーム照射を実現する粒子線治療装置を得ることを目的とする。
【解決手段】荷電粒子ビーム1bの目標照射位置座標Piに基づいて走査電磁石3を制御する照射管理装置32と、荷電粒子ビーム1bの測定位置座標Psを測定する位置モニタ7とを備え、照射管理装置32は、走査電磁石の励磁パターンが本照射の計画と同一である事前照射において位置モニタ7により測定された測定位置座標Ps及び目標照射位置座標Piに基づいて生成された補正データIaと、補正データIaを保存するメモリと、メモリに保存された補正データIaと目標照射位置座標Piとに基づいて走査電磁石3への制御入力Io(Ir)を出力する指令値生成器25を有する。 (もっと読む)


【課題】マーカーを用いることなく、治療対象部位を高精度で監視できるようにする。
【解決手段】数種類のエネルギーを治療対象(患者10)に照射する放射線源(監視用X線装置20)と、治療対象を透過した複数のエネルギー領域のフォトン数を、各エネルギー領域毎に弁別して計数する複数のフォトンカウントセンサー22と、該複数のフォトンカウントセンサーの出力に基づいて、治療対象部位(患部10B)とそれ以外(正常部10A)を識別する画像識別手段(患部位置モニター24)と、を備える。 (もっと読む)


【課題】
スポットの集合の照射中における異常発生時のビーム出射処理(中断、再開)を適切に行うことにより、照射精度を上げて、安全かつ効率的に照射する。
【解決手段】
シンクロトロン12と、走査電磁石5A,5Bを有し、シンクロトロン12から出射されたイオンビームを走査するスキャニング照射装置15と、シンクロトロン12からのイオンビームの出射をビーム出射停止指令に基づいて停止させ、この状態で走査電磁石5A,5Bを制御することによりイオンビームの照射位置(スポット)を変更させ、この変更後にシンクロトロン12からのイオ
ンビームの出射を開始させる。ある照射スポットへのビームの照射中に、照射継続可能な比較的軽度な異常が発生した場合に、直ちにビーム出射を停止せず、その照射スポットを含む予め定義されたスポットの集合に属する全スポットについての照射を完了させた時点でビーム出射を停止する。 (もっと読む)


本発明は、ビームのライン制御の分野、特に、イオン化ビームおよび前記ビームの磁場によって堆積する線量の測定を可能にする複数の電離箱を備える装置に関する。少なくとも1つの電離箱が、厚さが100nm以下の支持フィルムから形成される。
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本発明は、粒子放射線治療用に使用可能なパルス化ビーム粒子加速器に関する。特に、ビームパルス内の粒子数を制御するデバイス及び方法が提供される。粒子加速器は、ビーム制御パラメータの値の関数として、最小値から最大値の間で、そのパルス化イオンビームの各ビームパルス内の粒子数を変更する手段を備える。各粒子照射に対して、各ビームパルスに対する所要の粒子数は、較正データに基づいてビーム制御パラメータに対する値を定めることによって、制御される。
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【課題】照射対象の移動に起因して生じる有限幅の呼吸位相領域でのイオン線照射の偏在を解消し、照射対象に対して計画にあった線量分布の放射線を照射システムを提供する。
【解決手段】放射線を生成する放射線生成装置1と、放射線生成装置から出射された放射線の線量を計測する線量計測装置と、照射対象の位置を計測する変動計測装置212と、放射線生成装置1からの放射線の出射開始及び出射停止を制御する制御装置を備え、この照射装置が、目標照射位置情報,線量計測装置からの線量情報及び変動計測装置からの照射対象の位置情報に基づいて、照射対象の照射位置を複数に分割した分割領域ごとに目標線量に達したかを判定し、目標線量に達していない層領域に対して放射線を照射するように出射開始及び出射停止を制御する。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子照射システムにおいて、ビーム走査とエネルギースタッキングにより動く照射対象を照射し、一様な線量分布を形成したいニーズがある。
【解決手段】目標ビーム電流値を設定してイオンビームを出射する荷電粒子ビーム発生装置1と、走査電磁石23,24及びエネルギーフィルタ26を有し、イオンビームを出射する照射装置21と、照射対象の位置を測定し、照射対象の移動によって時間変化する信号を出力する監視装置66を備え、監視装置から出力される信号に基づいて、イオンビームの出射タイミングを決定し、イオンビームのエネルギーを順次変更して各エネルギーでリペイント照射することで、上記課題を解決する。 (もっと読む)


この発明は、少なくとも部分的に照射されているか、または照射されることになっている物質に対する粒子ビーム(34a)の効果を決定するための方法であって、前記粒子ビーム(34a)を特徴付ける少なくとも1つのパラメータおよび物質の少なくとも1つの特性から、前記物質内の前記粒子ビームの前記効果が微視的ダメージ相関を基礎として少なくとも部分的に決定される方法に関する。さらにこの発明は、目標ボリュームについての照射プラン、及び粒子ビーム(34a)用いて目標ボリュームを照射する方法に関する。また本発明は、本発明による方法(200)を実行するために構成された特に能動的ビーム修正装置、および/または受動ビーム修正装置を備えた少なくとも1つのビーム修正装置(32,70)を有する照射装置(30,66)に関する。 (もっと読む)


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