【課題】二重窓枠型電磁石において、一様磁場領域を広く取ることにより、ビーム走査範囲を確保する。
【解決手段】コイル１０１，１０８，１１１，１１８は、Ｙ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域とＹ方向磁場励磁電流通過第２サブ領域の間に配置され、Ｘ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域を、コイル１０９，１１０，１１９，１２０は、Ｙ方向磁場励磁電流通過メイン領域２２１，２２２とＹ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域の間に配置され、Ｘ方向磁場励磁電流通過第２サブ領域を構成し、コイル２０１，２０８，２１１，２１８は、Ｘ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域とＸ方向磁場励磁電流通過第２サブ領域の間に配置され、Ｙ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域を、コイル２０９，２１０，２１９，２２０は、Ｘ方向磁場励磁電流通過メイン領域１２１，１２２とＸ方向磁場励磁電流通過第１サブ領域の間に配置され、Ｙ方向磁場励磁電流通過第２サブ領域を構成する。 （もっと読む）

【課題】四極電磁石の調整時間短縮を図ることのできる調整方法を提供する。
【解決手段】ビームライン上にビーム整形板２およびビームモニタ４を設置する。イオンビームを照射し、ビーム整形孔に通過させ、格子状に整形する。四極電磁石が励磁されていない場合、ビームモニタ４により、格子状配列形状のビーム形状が計測される。Ｘ方向においてイオンビームが集束するように、磁石３Ａを励磁する。励磁電流が増すごとに、格子状配列のＸ方向間隔は狭くなり、Ｘ方向配列の５つの格子点は一つの略長円となり、Ｙ方向に1つの点列（1×５）が形成される。点列形成を確認すると、Ｘ方向長さを計測する。励磁電流が増すごとに、Ｘ方向長さは短くなる。励磁電流を漸増し、各点（５点）の平均が基準サイズ以下になると、適切にビーム集束されたと判断し、端末７を介して、Ｘ方向集束調整完了指令を行ない、そのときの励磁電流値を記憶する。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成で筒体に対する不活性ガスの供給量を管理することができる荷電粒子線照射装置を提供する。
【解決手段】本発明の荷電粒子線照射装置１は、荷電粒子を加速して荷電粒子線Ｐを出射するサイクロトロン３と、サイクロトロン３から出射された荷電粒子線Ｐを照射ノズル５へ輸送する真空ダクト７と、照射ノズル５内で荷電粒子線の進路上に配置され、内部に不活性ガスが充填されると共に、荷電粒子線Ｐを透過させるカプトンフィルム１３，１４を入口及び出口に有する延長ダクト１０と、延長ダクト１０内にヘリウムガスを供給するガス供給部２０と、延長ダクト１０の周囲に配置され、荷電粒子線Ｐを走査する走査磁石１２と、延長ダクト１０の内部圧力が設定圧以上のときに延長ダクト１０内のヘリウムガスを外部にリークするリーク弁３６と、を備え、ガス供給部２０は、ヘリウムガスの供給量が各々異なる供給ラインＡ〜Ｃを有する。 （もっと読む）

【課題】運動量分散関数を簡易に測定できるとともに所定値に補正を行う。
【解決手段】本発明のビーム測定装置は、荷電粒子を加速する加速器１から取り出した荷電粒子ビームｂを、照射対象に照射する照射装置まで、輸送するビーム輸送ライン２における荷電粒子ビームｂの位置の差分を運動量差で表す運動量分散関数Ｄｘ、Ｄｚの測定を行うビーム測定装置であって、ビーム輸送ライン２の荷電粒子ビームｂの軌道に入出可能であり、荷電粒子ビームｂの軌道に入った際に荷電粒子ビームｂを通過させて荷電粒子ビームｂのエネルギを変更する微小エネルギ吸収体１１と、微小エネルギ吸収体１１による荷電粒子ビームｂのエネルギの変更に基づき、ビーム輸送ライン２における荷電粒子ビームｂの運動量分散関数Ｄｘ、Ｄｚの測定を行う運動量分散関数測定手段８Ｂ、Ｓとを備える。 （もっと読む）

【課題】照射装置が設置される建屋の小型化を図ることができ、設備コストの低減を図ることが可能な加速粒子照射設備を提供すること。
【解決手段】本発明の加速粒子照射設備１は、回転軸Ｐ周りに回転可能な回転部３４を有すると共に粒子加速器で生成された加速粒子を照射する照射装置３と、照射装置３を収納する収納室８と、を備え、照射装置３の回転部は、回転部本体３４から径方向の外側に張り出す張出部３３ｂ，３８を有する構成とする。そして、収納室８の放射線遮蔽壁８６，８７は、照射装置３の回転部の周縁部分となる張出部３３ｂ，３８を収容可能な収容凹部９２，９１を有する構成とする。これにより、照射装置３の形状に対応した収納室８を実現することができ、収納室８の寸法を抑えることが可能となり、建屋６の小型化を図る。 （もっと読む）

【課題】スキャニング照射方式におけるビーム遮断の際の過渡線量を抑制し、照射線量精度を向上させることを目的とする。
【解決手段】荷電粒子ビーム１の進行方向を電場により変更し、照射対象１６へのビーム１の出射及び遮断を行うビーム偏向器２と、電圧パルス３１をビーム偏向器２に出力するビーム偏向器制御装置７を備え、ビーム偏向器２は、ビーム１の進行方向に短手方向を並べた複数の導体板２７ａ〜２７ｈが配置されたライン電極板２４と、ライン電極板２４に平行に配置された電極板２６を有し、導体板２７ａ〜２７ｈは、長手方向に直列に接続され、インピーダンス整合がされており、ビーム偏向器制御装置７は、ビーム１が導体板２７ａ〜２７ｈの短手方向を通過する粒子移動基本時間ＴＰ０に、導体板２７ａ〜２７ｈの長手方向を伝送する伝送基本時間ＴＶ０を同期させた電圧パルス３１を出力する。 （もっと読む）

【課題】照射自由度が高く、正常組織への照射量を低減できる粒子線治療装置を得ることを目的とする。
【解決手段】供給された荷電粒子ビームＢ_ｅｃを治療計画に基づく３次元の照射形状に整形するよう荷電粒子ビームＢ_ｅｃをそれぞれ異なる方向に走査制御する２つのスキャニング電磁石２ａ、２ｂを備えた走査電磁石２と、走査電磁石２の下流に設置され、走査電磁石２により走査された荷電粒子ビームＢ_ｅｃが、走査電磁石２から複数のアイソセンタＣａ〜Ｃｃのそれぞれに向かうように設定されたビーム軌道５７ａ〜５７ｃのうち、選択されたひとつのアイソセンタに向かうビーム軌道を通るように、荷電粒子ビームＢ_ｅｃの軌道を切り替える偏向電磁石５４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、小型かつ調整容易なビーム輸送装置を備える粒子線治療装置を提供することにある。
【解決手段】粒子線治療装置１００はシンクロトロン３００と固定ビーム輸送装置４００と回転ガントリー５００と照射装置５２０を備え、固定ビーム輸送装置４００に偏向電磁石４３０が設置され、固定ビーム輸送装置４００は偏向電磁石４３０によって分割された二つの直線部４１０，４２０を持つ。上流の第一直線部４１０には３台の四極電磁石４４１〜４４３とプロファイルモニタ４５１、下流の第二直線部４２０には４台の四極電磁石４４４〜４４７と２台のプロファイルモニタ４５２，４５３、２台のステアリング電磁石４６３，４６４が設置され、これらの電磁石の励磁量を調整しビームのＴwissパラメータと分散関数を回転ガントリー５００との接続点５３０においてビームの進行方向を軸とした回転に対して不変となるように調整する。 （もっと読む）

【課題】取り出される荷電粒子ビームの線量を一定に保つことが可能な粒子線照射システムを提供する。
【解決手段】粒子線照射システム１Ａにおいて、シンクロトロン４０を駆動制御する加速器制御部７１及びＲＦ−ＫＯ電極駆動装置８０Ａは、ＲＦ−ＫＯ電極４５の駆動を停止したまま、シンクロトロン４０を駆動し、続いて、ＲＦ−ＫＯ電極４５に対して、第一のＲＦ−ＫＯ信号をＲＦ−ＫＯ電圧として印加し、続いて、ＲＦ−ＫＯ電極４５に対して、第一のＲＦ−ＫＯ信号と、第二のＲＦ−ＫＯ信号と、をＲＦ−ＫＯ電圧として印加するとともに、シンクロトロン４０から取り出された荷電粒子ビームの線量に基づくＲＦ−ＫＯ電圧に関するフィードバック制御を開始し、当該フィードバック制御のゲインをゼロから所定値まで連続的に上昇させ、続いて、ＲＦ−ＫＯ電圧に関するフィードバック制御を、当該フィードバック制御のゲインを所定値としたまま行う。 （もっと読む）

【課題】ビームサイズを簡単かつ素早く高精度に調整できる荷電粒子ビーム輸送装置を提供する。
【解決手段】ビーム輸送装置２０内の四極電磁石２１の励磁量の変化に対する照射装置３０に設置されたプロファイルモニタ３１で測定されるビームサイズの変化（感度）を予め測定し、その感度から、調整者が調整者用端末７０で入力したビームサイズの所望値とプロファイルモニタ３１での測定値の差分を補正する四極電磁石２１を選択し、ビームサイズを所望値に近づけるように選択した四極電磁石２１の励磁量を補正することによって、上記課題を解決することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、信号にノイズが入力された場合、測定した線量値が変化して差動増幅器に治療計画に適うビーム強度値との正確な差分値を出力することができないという問題を解消できるフィードバックシステムを提供することを課題とする。
【解決手段】本発明のフィードバックシステム１は、イオンビーム照射装置１００から照射されるイオンビームの線量を測定する線量測定部１０と、線量測定部１０から出力される信号が入力され、線量の値に対応する周波数に変換して出力する周波数変換部２０と、周波数変換部２０から入力される所定時間あたりの周波数をカウントし、そのカウントされた所定時間あたりの周波数に対応するカウント値を出力するカウンタ部３０と、ビーム強度値と指令値との差分値を求めて、差分値をＲＦ―ＫＯ電極間の印加電圧を制御するＲＦ―ＫＯ電極コントローラに出力する差動増幅部４０と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】照射装置が設置される建屋の小型化を図ることができ、設備コストの低減を図ることが可能な加速粒子照射設備を提供すること。
【解決手段】本発明の加速粒子照射設備１は、回転軸Ｐ周りに回転可能な回転部３４を有すると共に粒子加速器で生成された加速粒子を照射する照射装置３と、照射装置３を収納する収納室８と、を備え、照射装置３の回転部は、回転部本体３４から径方向の外側に張り出す張出部３３ｂ，３８を有する構成とする。そして、収納室８の放射線遮蔽壁８６，８７は、照射装置３の回転部の周縁部分となる張出部３３ｂ，３８を収容可能な収容凹部９２，９１を有する構成とする。これにより、照射装置３の形状に対応した収納室８を実現することができ、収納室８の寸法を抑えることが可能となり、建屋６の小型化を図る。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビームの最大利用可能飛程の減少を抑えながら、ビームスポットの線量分布を拡大する粒子線照射装置を得る。
【解決手段】照射制御手段１４は、複数の小領域のうち照射対象とする小領域を荷電粒子ビームが走査するように第一走査手段３を制御し、照射対象とする小領域を複数の小領域のうち別の小領域に変更するように第二走査手段４を制御し、かつ、第二走査手段４による標的領域における荷電粒子ビームの走査速度よりも、第一走査手段３による標的領域における荷電粒子ビームの走査速度の方が高速であるように制御する。 （もっと読む）

【課題】１台の回転照射型の粒子線照射装置において、２つの照射を行うことができる粒子線照射装置を得る。
【解決手段】入射される粒子線を照射する照射装置が照射基準点を回転中心として回転自在に駆動される粒子線照射装置において、入射される粒子線を第１照射系統１４と第２照射系統２３に切り替える照射系統切り替え手段３１と、前記第１照射系統１４に配置された第１の照射装置１５と、前記第２照射系統２３に配置された第２の照射装置２４とを備え、種々の照射形態を選択できるようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】回転ガントリを用いないで安価な粒子線ビームのスキャニング照射装置を得る。
【解決手段】粒子線ビームの偏向面が同一であり、水平方向に対して略４５度の入射ビーム軸角度を有する粒子線ビームを互いに逆方向に曲げる第一のスキャニング電磁石と第二のスキャニング電磁石、第一及び第二のスキャニング電磁石を一体にして前記入射ビーム軸の周りで回転させる電磁石回転駆動機構、治療台を備え、第一及び第二のスキャニング電磁石によって偏向された粒子線ビームは入射ビーム軸方向からの偏向角度が−４５度〜＋４５度の範囲で得られるようにした。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、スポットスキャニング法による粒子線治療に好適な照射ビームが得られ、小型で安価かつ調整容易な粒子線治療システムを提供することにある。
【解決手段】
粒子線治療システム１００は、シンクロトロン２００と、ビーム輸送系３００と、照射装置５００から構成され、ビーム輸送系３００に設置され照射装置５００への荷電粒子ビームの供給を遮断するビーム遮断装置７００が、ビーム輸送系３００を構成する偏向電磁石３１の入口側に設置された遮断電磁石３４とその励磁電源３４Ａ、および出口側に設置されたビームダンプ３５から構成される。制御装置６００は励磁電源３４Ａを制御して遮断電磁石３４の動作タイミングを調整する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線の線量分布における辺縁部のむらや低下を簡易に抑制することができる荷電粒子線照射装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線照射装置１は、荷電粒子線Ｒを走査するための走査電磁石５ａ，５ｂと、走査電磁石５ａ，５ｂの動作を制御する制御装置６と、を備えている。荷電粒子線照射装置１では、制御装置６が、照射ラインに沿って荷電粒子線Ｒを照射するときの走査速度を、荷電粒子線Ｒの線量分布における辺縁部が補正されるように変更する。つまり、線量分布の辺縁部が補正されるように荷電粒子線Ｒの照射時間が長く又は短くされることになる。よって、荷電粒子線Ｒの強度を制御することなく線量分布の辺縁部が制御され、線量分布の辺縁部のむらや低下が簡易に抑制される。 （もっと読む）

【課題】占有空間を少なくできるとともに、被検者の位置を高くすることなく治療を施すことのできる放射線治療装置の提供。
【解決手段】床面に載置される電子加速器マイクロトロンと治療台を備え、
前記電子加速器マイクロトロンは、その放射線ビームの出力側を前記治療台側に傾斜させて配置され、
前記治療台は、その天板が前記床面と水平な面内で前記マイクロトロン電子加速器と干渉することなく回転するように構成され、
前記放射線ビームは、前記天板の回転軸に交差するように照射される。 （もっと読む）

【課題】粒子線治療装置を構成するいずれかの装置が故障しても、照射室を使用可能とする冗長化粒子線治療装置を得る。
【解決手段】 粒子線を発生させる入射器を制御する入射器制御装置１には、粒子線を加速させる加速器を制御する加速器制御装置２が接続され、加速器制御装置２には患者へ粒子線を照射する照射室を制御する複数の照射室制御装置３、４、５が接続され、さらに複数の照射室制御装置３、４、５には、それぞれ照射室制御装置を制御する制御ＰＣ６、７、８が接続され、いずれかの制御ＰＣが故障したとき、その制御ＰＣが接続されていた照射室制御装置は他の制御ＰＣに接続されるように、各制御ＰＣは、接続先の照射室制御装置を切替える指示を行う切替スイッチと、全ての照射室制御装置への接続パラメータとを有するものである。 （もっと読む）

【課題】
スポットスキャニング法などの高精度な粒子線治療に好適な照射ビームを実現する。
【解決手段】
上記課題を達成するための粒子線治療システムは、荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速し、安定限界を越えた前記荷電粒子ビームを出射するシンクロトロンと、前記荷電粒子ビームを照射対象に照射する照射装置と、前記シンクロトロンから出射した前記荷電粒子ビームを前記照射装置に輸送するビーム輸送系と、前記シンクロトロンを周回する前記荷電粒子ビームの一部を除去した後、周回する他の前記荷電粒子ビームを前記シンクロトロンから出射して前記照射装置に輸送するように制御する制御装置を有する。 （もっと読む）