【課題】
３次元の画像又はマップ内で関心構造を描写する方法及び装置を提供する。
【解決手段】
関心構造を描写する装置は、３次元の画像又はマップ（８０）内で選択可能な方向の輪郭描写平面を選択するための平面選択インタフェース（３２、７０）、選択された輪郭描写平面内で輪郭を定めるための輪郭描写インタフェース（３２、７２）、及び３次元の画像又はマップ内で関心構造を描写する３次元多角形メッシュ（９０）を構築するように構成されたメッシュ構築部（７４、７６）を含む。メッシュ構築部は、輪郭描写インタフェースを用いて定められた複数の、同一平面内にない描写輪郭（８４、Ｃｃｏｒ、Ｃｏｂｌ）の上又は付近に制約頂点（１０２、Ｖｃ）を位置付ける。 （もっと読む）

【課題】スポットの集合の照射中における異常発生時のビーム出射処理（中断、再開）を適切に行うことにより、照射精度を上げて、安全かつ効率的に照射する。
【解決手段】シンクロトロン１２と、走査電磁石５Ａ，５Ｂを有し、シンクロトロン１２から出射されたイオンビームを走査するスキャニング照射装置１５と、シンクロトロン１２からのイオンビームの出射をビーム出射停止指令に基づいて停止させ、この状態で走査電磁石５Ａ，５Ｂを制御することによりイオンビームの照射位置（スポット）を変更させ、この変更後にシンクロトロン１２からのイオンビームの出射を開始させる。ある照射スポットへのビームの照射中に、照射継続可能な比較的軽度な異常が発生した場合に、直ちにビーム出射を停止せず、その照射スポットを含む予め定義されたスポットの集合に属する全スポットについての照射を完了させた時点でビーム出射を停止する。 （もっと読む）

【課題】放射線治療の患者位置決めの際に、３次元現在画像の断層画像数が３次元基準画像よりも少ない場合であっても、精度の高い２段階パターンマッチング（２段階照合）を実現することを目的にする。
【解決手段】３次元基準画像と３次元現在画像とを照合し、現在画像における患部の位置姿勢を基準画像における患部の位置姿勢に合うように体位補正量を計算する照合処理部２２と、を備える。照合処理部２２は、基準画像から現在画像に対して１次照合を行う１次照合部１６と、基準画像又は現在画像の一方から１次照合の結果に基づいて生成された所定のテンプレート領域から、所定のテンプレート領域の生成元とは異なる基準画像又は現在画像の他方から１次照合の結果に基づいて生成された所定の検索対象領域に対して、２次照合を行う２次照合部１７と、を有する。 （もっと読む）

【課題】治療計画時の患部基準位置と、治療時の患部位置とを、３次元照合することによって、正確に変化量を求められる位置決め装置を提供する。
【解決手段】治療時に、Ｘ線画像取得部４、５にて、治療台上での患部の２次元Ｘ線画像を複数の方向から撮像し、複数の２次元Ｘ線画像データを取得し、シルエット抽出部７にて、複数の２次元Ｘ線画像のそれぞれから患部の２次元シルエットを抽出し、視体積交差構成部８にて、複数の２次元シルエットの視体積交差部分から患部の３次元表面形状を復元し、変化量算出部９にて、治療計画時の患部の基準位置に対する、治療時の患部の位置の変化量を、治療計画時に取得した患部の３次元ＣＴデータと３次元表面形状との照合によって算出する。 （もっと読む）

【課題】線量分割パターン及び実行パターンを含む照射分割パターンを適切に設定することができる治療計画システムを得ることを目的とする。
【解決手段】放射線の総照射線量ｄａ１３を分割照射する照射回数ｄａ１４と、分割された線量を照射する照射間隔区分を含むパターンである実行パターンｄａ１５とを含む照射分割パターンｄａ１６を、患部の部位を分類する治療部位ｄａ１２及び総照射線量ｄａ１３に対応させて管理する照射分割パターン管理装置２と、患部に照射する総照射線量ｄａ１３及び患部の治療部位ｄａ１２に基づいて、照射分割パターン管理装置２に管理された照射分割パターンｄａ１６を取得し、患部に対する照射条件に照射分割パターンｄａ１６を設定した治療計画ｄａｔａ４を作成する照射分割パターン設定装置１と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】治療制御コンピュータによって制御される放射線治療装置を提供する。
【解決手段】線源であって、治療用の放射線のビームをビーム軸線に沿って放出することができ且つビーム軸線と実質的に一致する回転軸線を中心として回転することができ、これによって前記軸線を中心として弧を描く、線源と、ビームを所望の形状にコリメートするように構成された多分割コリメータと、線源の線量の率、線源の回転、および、前記多分割コリメータを制御することができる制御手段と、を有するタイプの放射線治療装置用の治療計画装置である。 （もっと読む）

【課題】放射線治療計画装置において線量分布計算を高速化する。
【解決手段】第一の演算装置と第二の演算装置を備え、照射対象となる標的のサイズや計算解像度の情報から、どちらの演算装置が計算を行った方が高速に行えるかを判断し、その演算装置が計算を実行する。また、どちらの演算装置が使用されているのかを画面に表示する。 （もっと読む）

【課題】業務スケジュールの変更がなされる場合において、変更の前後の状態を画面で確認できる重粒子線治療のスケジュール管理技術を提供する。
【解決手段】重粒子線治療のスケジュール管理装置１０は、患者ＩＤ３１に複数ある工程の各々の日程を関連付けた第１情報３３を登録するデータベース３０と、ネットワークＮから日程の変更要求ａを受信する送受信部１１と、変更要求ａとともに受信される変更後の第１情報を保持する新情報保持部１９と、この新情報保持部１９に保持されている前記変更後の第１情報及びデータベース３０に登録されている変更前の第１情報３３をネットワークＮに送信する送受信部１１と、ネットワークＮから更新要求ｂが送受信部１１で受信されるとデータベース３０の登録内容を前記変更後の第１情報に更新するデータ管理部２１と、を備えている。 （もっと読む）

放射線量は、正規化された形態のビーム群のモデルおよび標的線量を提供することにより、最適化される。グラム行列がモデルから決定される。標的線量がサブサンプリングされて、ビーム群の初期強度値が決定される。次に、以下のステップが、収束するまで繰り返される。非常に小さな正の値０＜ε＜＜１を各強度値に加算して、強度値がゼロよりも大きいことを保証する。各強度値にグラム行列を乗算して、積を求め、積を要素毎に除算して正規化された標的線量にし、対応する比率を求める。比率が、数値許容誤差内ですべて１に近い場合、ビーム群の初期値を出力する。そうでない場合、次の反復前に、強度値に比率を乗算される。
（もっと読む）

【課題】この発明は、時間や患者の体位の変化により患者体内の腫瘍患部が変形しても、周囲正常組織への影響を低減し、精度良く位置合わせできる患者位置決めシステムを得ることを目的とする。
【解決手段】治療計画時の患者のデータである治療計画時患者データを取得する治療計画時データ取得工程と、この治療計画時患者データを用いて治療計画を行う治療計画工程と、治療時の患者のデータである治療時患者データを取得する治療時データ取得工程と、治療計画時患者データと治療時患者データとにより治療計画時の患者の形状と治療時の患者の形状を比較して解析する形状解析工程と、この形状解析工程において治療計画時の患者の形状と治療時の患者の形状を比較して解析した結果を基に治療台の移動量を演算して治療台を移動させる治療台位置決め処理工程とを備えた。 （もっと読む）

【課題】増殖性の組織異常によって引き起こされる疾病の治療において、患者へと投与される高度に原体照射的な電離放射線の線量を直接測定して制御するため、強度変調放射線治療（ＩＭＲＴ）の最中に患者の体構造について、高い時間および空間分解能でのＭＲ画像化を実行するための装置およびプロセスを提供すること。
【解決手段】本発明は、オープンＭＲＩ（００１５）、マルチリーフ・コリメータ（１２５）または補償フィルタをベースとするＩＭＲＴ（０２０）投与、およびコバルト遠隔治療の技術を、位置合わせされてガントリー（０２５）へと取り付けられた単一のシステムへと組み合わせている。 （もっと読む）

【課題】粒子線治療のスケジュールを高い信頼性のもとで立案すること。
【解決手段】本発明では、粒子線治療の治療室スケジュールとして決定し提示する粒子線治療スケジューリングシステムにおいて、患者個別の位置決め回数の指標となる情報及び１日当たりの照射時間とを記憶する記憶手段３と、位置決め回数に位置決め１回あたりの所要時間を乗じて位置決め時間を算出し、１日当たりの照射時間に前記位置決め時間を加えた時間を患者一人当たりの治療室使用時間とする治療室使用時間推定手段６と、治療室使用時間を用いて、治療室スケジュールを立案する治療室スケジュール立案手段８とを備えるようにした。 （もっと読む）

【課題】粒子線ビーム形状の劣化を低く抑えつつ、簡素な構成でスキャン時の線量２次元分布を測定し表示することができる粒子線ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る粒子線ビーム照射装置は、粒子線ビームを生成するビーム生成部と、粒子線ビームの出射を制御するビーム出射制御部と、粒子線ビームを２次元走査するビーム走査部と、複数の第１の線状電極が第１の方向に並列配置され、複数の第２の線状電極が第１の方向と直交する第２の方向に並列配置されるセンサ部と、各第１の線状電極から出力される第１の信号と、各第２の線状電極から出力される第２の信号とから粒子線ビームの重心位置を算出し、重心位置の周辺の粒子線ビームの２次元ビーム形状を求めるビーム形状算出部と、２次元ビーム形状を累積記憶する記憶部と、２次元ビーム形状を線量の２次元分布として表示する表示部と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

陽子コンピュータ断層撮影に関連するシステムと、デバイスと、方法とが開示される。幾つかの実施態様では、陽子の検出は、各陽子についてオブジェクトの前及び後のトラック情報をもたらすことができ、それによってオブジェクト内での各陽子の、可能性が高い経路を求めることが可能になる。さらに、各陽子が受けるエネルギー損失の測定によって、所与の可能性の高い経路が所与のエネルギー損失をもたらすという判定が可能になる。こうしたデータの集合によって、オブジェクトの特徴付けが可能になる。エネルギー損失に関して、こうした特徴付けは、オブジェクトの相対阻止能の画像マップを含むことができる。限定はしないが、総変動等のメリット関数の優秀化を含むこうした画像を取得するための種々の再構成方法が開示される。幾つかの実施態様では、種々の形態の総変動優秀化方法は、計算的に効率的であり、かつ、計算時間を低減しながら、優れた結果をもたらすことができる。幾つかの実施態様では、こうした方法は、比較的低い陽子線量を使用して、高品質陽子ＣＴ画像をもたらすことができる。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い最新の治療データに基づき治療計画の立案を補助できる放射線治療支援システムを得ることを目的とする。
【解決手段】診断情報と治療計画情報を含む患者ごとの医療情報を記録する医療情報記録部２と、あらかじめ定めた評価項目にもとづいて前記記録された患者ごとの医療情報に重みづけ評価を行う医療情報評価部３と、前記重みづけ評価を行った患者ごとの医療情報を統計処理し、疾患ごとの診断情報の各項目と治療計画情報の各項目との関連性情報を生成する関連性情報生成部５と、入力された疾患ごとの診断情報と前記関連性情報に基づいて、対応する患者ごとの医療情報を前記記録された医療情報の中から検索する医療情報検索部７と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】標準的な治療方針や手順を患者の状態に合わせてカスタマイズして提示する。
【解決手段】定義テーブル読み込み部３３は、各種記憶部２１乃至２３からそれぞれ、疾患毎の治療方針・手順定義テーブル、疾患禁忌処置定義テーブルおよび疾患−参照画像定義テーブルを読み込む。検査結果データ読み込み部３４は、各種記憶部２４乃至２６からそれぞれ、CAD結果データと医用画像のデータ、生化学検査データおよび問診データを読み込む。チェックリスト作成部３５は、システム制御部３２からの、疾患毎の治療方針・手順定義テーブル、疾患禁忌処置定義テーブルおよび疾患−参照画像定義テーブルや、CAD結果データ、生化学検査データおよび問診データに基づいて、患者の状態に合わせてカスタマイズした、疾患毎の治療方針や手順および医用画像データを含むチェックリストを作成する。作成されたチェックリストは表示部３６に表示される。 （もっと読む）

【課題】被検体の位置をより高精度に調整すること。
【解決手段】異なる２つの計画時断面画像６２、６３から２つのテンプレート画像７２、７３をそれぞれ算出するテンプレート算出部と、複数の治療時断面画像から複数のテンプレート画像７２、７３にそれぞれ最も類似する２つの検出領域を検出するマッチング部と、その複数の検出領域が検出される位置に基づいて被検体を位置合わせするカウチ制御部とを備えている。このような放射線治療装置制御装置は、その複数の治療時断面画像が映す断面に平行な回転軸ｘ、ｙを中心に回転する回転ずれをより高精度に算出することができ、被検体を高精度に位置合わせすることができる。 （もっと読む）

【課題】内部マーカーを使用せずに医療処置をゲーティングするための装置及び方法を提供する。
【解決手段】医療処置を実行する方法は、複数のテンプレートを与える工程であって、その各々がひとつの画像及び治療データを有するところの工程と、取得した入力画像をひとつのテンプレートに記録する工程と、入力画像が記録されたひとつのテンプレートの治療データに基づいて医療処置を実行する工程と、から成る。医療処置を実行するための装置は、複数のテンプレートを与えるための手段であって、各テンプレートはひとつの画像及び治療データを有するところの手段と、入力画像を取得するための手段と、入力画像をテンプレートのひとつに記録するための手段と、入力画像が記録されたひとつのテンプレートの治療データに基づいて医療処置を実行するための手段と、から成る。 （もっと読む）

本発明は、ビームのライン制御の分野、特に、イオン化ビームおよび前記ビームの磁場によって堆積する線量の測定を可能にする複数の電離箱を備える装置に関する。少なくとも１つの電離箱が、厚さが１００ｎｍ以下の支持フィルムから形成される。
（もっと読む）