【課題】面状放電を１対の同軸状電極間の管状放電に繋ぎ換えてプラズマを封じ込める磁場（磁気ビン）を形成するプラズマ光源において、面状放電から管状放電への繋ぎ換えを容易にする。
【解決手段】対向配置された第１及び第２の同軸状電極１０、１０´と、第１及び第２の同軸状電極１０、１０´内のプラズマ媒体をプラズマ発生に適した温度及び圧力に保持するチャンバー２０と、第１及び第２の同軸状電極１０、１０´に極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置３０と、を備え、第１及び第２の同軸状電極１０、１０´間に管状放電４３を形成してプラズマ３を軸方向に封じ込めるプラズマ光源であって、対向するガイド電極の先端を互いに電気的に接続する接続部材１９を有し、該接続部材１９は、その中点Ｍにおいて、接地されるとともに、１対の同軸状電極１０に、それぞれ対応する電圧印加装置３０の経路を介して接続される。 （もっと読む）

【課題】プラズマから放射された高エネルギ放射線のビーム束における特性の調整用の方法および機構を提供する。
【解決手段】集光光学系によって合焦されるビーム束内において、放射線の強度分布が、中間焦点１６の前の光軸１３に垂直な測定面１５２における収束ビーム束１５の断面にわたって取得され、かつ強度値が、光軸１３と同心の異なる半径を備えて整列された測定装置２の複数の受信領域用の画定されたセクタにおいて記録され、かつ測定量および制御変数が、集光光学系１４を整列させるために、異なるセクタの強度値の比較から決定される。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光を放射するプラズマを生成するための理想的な面状放電を発生させることが可能なプラズマ光源を提供する。
【解決手段】プラズマ光源であって、互いに対向配置され、極端紫外光を放射するプラズマを発生すると共に前記プラズマを閉じ込める一対の同軸状電極１０と、各同軸状電極１０に対して極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置３０とを備え、各同軸状電極１０は、単一の軸線Ｚ−Ｚ上に延びる棒状の中心電極１２と、中心電極１２と一定の間隔を隔て、且つ中心電極１２の周方向に配置された複数の外部電極１４と、中心電極１２及び複数の外部電極１４を絶縁する絶縁体１６とを有する。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光を放射するプラズマを生成するための理想的な面状放電を発生させることが可能なプラズマ光源を提供する。
【解決手段】プラズマ光源であって、互いに対向配置され、極端紫外光を放射するプラズマを発生すると共に前記プラズマを閉じ込める一対の同軸状電極１０と、各同軸状電極１０に対して極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置３０とを備え、各同軸状電極１０は、単一の軸線Ｚ−Ｚ上に延びる棒状の中心電極１２と、中心電極１２の中心軸Ｚに対して軸対称な面上に設けられた複数の外部電極１４と、中心電極１２及び各外部電極１４の間を絶縁する絶縁体１６とを有し、中心電極１２と各外部電極１４との間隔Ｇは、相手の同軸状電極１０に面する側からその反対側に向かうに連れて増加している。 （もっと読む）

【課題】迅速かつ的確な診断を行うことが可能な極端紫外光発生装置の診断方法を提供する。
【解決手段】極端紫外光の光源部で生成された複数の光パルスの光強度値の時系列データを生成する工程Ｓ２と、時系列データから統計データを生成する工程Ｓ３と、統計データに基づいて光源部の発光状態を評価する工程Ｓ４とを備える。 （もっと読む）

【課題】２つの同軸状電極内に発生した面状放電を同軸状電極間の管状放電に繋ぎ変える電流路の繋ぎ変えの安定性を高め、プラズマ光源の出力、安定性、信頼性を高めることができるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】ガイド電極１４と真空チャンバー２２との間に絶縁板２６が挟持され、ガイド電極１４は真空チャンバー２２から絶縁されている。また１対のガイド電極１４の先端部を電気的に直接結合する連結導電体３２を備え、その中央部のみが接地されている。 （もっと読む）

【課題】２つの同軸状電極内に発生した面状放電を同軸状電極間の管状放電に繋ぎ変える電流路の繋ぎ変えの安定性を高め、プラズマ光源の出力、安定性、信頼性を高めることができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。
【解決手段】２つの同軸状電極a内の中心電極ｂとガイド電極ｃとの間に発生した面状放電２を同軸状電極間の管状放電４に繋ぎ変える「繋ぎ変え時点」が、同軸状電極aに対する放電電圧による放電電流のピーク時点より前に設定されている。 （もっと読む）

【課題】多孔体金属の表面において発光物質の浸み出しが均一化されたプラズマ光源の製造方法を提供する。
【解決手段】１対の同軸状電極１０間に管状放電を形成してプラズマを軸方向に封じ込めるプラズマ光源の製造方法であって、各同軸状電極１０は、棒状の中心電極１２と、中心電極１２を間隔を隔てて囲む管状のガイド電極１４と、中心電極１２とガイド電極１４の間に位置しその間を絶縁するリング状の絶縁体１６とからなり、絶縁体１６は、内側と外側の絶縁性緻密部分１６ａと、その間に挟持された導電性多孔部分１６ｂとからなり、導電性多孔部分は、導電性金属の微粒子を焼結して多孔体に成形し、多孔体の形状を機械加工し、多孔体におけるプラズマと対向する面及び反対面について、電解エッチングすることによって製造される。 （もっと読む）

【課題】望ましくない放出物（例えば、粒子、赤外線、および可視光線）を最低限に抑えたプラズマ光源を実現する。
【解決手段】光源１００は、プラズマ放電領域１１２を有し、イオン性媒体を含む室１０４、プラズマ放電領域１１２の一部を囲む磁気コア１０８、エネルギーの少なくとも１つのパルスを磁気コア１０８に供給し、プラズマ放電領域内に形成されるプラズマに電力を送るためのパルス電力システム１３６を備える。プラズマは、局所的高輝度ゾーン１４４を有する。 （もっと読む）

【課題】露光特性を向上させる。
【解決手段】陰極および陽極間に電圧を印加し、陰極と陽極との間において、所定の原子をプラズマ励起させることによりＥＵＶ光を生じさせ、このＥＵＶ光を、露光部に導き、露光部内において基板の上方に形成された感光膜を露光する工程を、冷却機構により、陰極１０３の先端部１０３ｂを構成する金属部の融点未満の温度に冷却しつつ行なう。例えば、陰極１０３は、支持部１０３ａと、先端部１０３ｂとを有し、冷却機構は、支持部内に冷却溶媒を循環させる機構である。また、支持部１０３ａは、銅よりなり、先端部１０３ｂを構成する金属部は、タングステンよりなり、冷却機構の支持部１０３ａ側の端部からタングステン端部までの距離（Ｄ１）を７ｍｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】ドロップレットの位置を検出する。
【解決手段】ドロップレット生成及び検出装置は、帯電ドロップレットを出力するドロップレット生成器と、帯電ドロップレットの軌道の近傍に配置された磁気回路であって、導電体のコイルを含む磁気回路と、コイルに流れる電流を検出して検出信号を出力する電流検出器と、を含む少なくとも一つのドロップレットセンサと、検出信号に基づいて帯電ドロップレットを検出する信号処理回路と、を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】発生するプラズマ光の出力を大幅に高めることができ、かつ熱負荷及び電極消耗を抑えて装置寿命を延ばすことができるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】所定の発光点１ａでプラズマ光８を周期的に発光する複数のプラズマ光源１０と、プラズマ光源の複数の発光点におけるプラズマ光を単一の集光点９に集光する集光装置４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィに応用される斜入射集光器（ＧＩＣ）を熱管理するためのシステム、アセンブリ、方法を提供する。
【解決手段】ＧＩＣ冷却アセンブリ１５０は、密閉チャンバ１８０を形成するようにジャケット１６０に接合されたＧＩＣミラーシェル１１０を有する。オープンセル型熱伝導性材料（ＯＣＨＴ材料）２０２は、金属チャンバ内に配置され、ＧＩＣミラーシェル１１０、及びジャケットに熱接着及び機械接着される。ＥＵＶ源からのＥＵＶを受光して集束ＥＵＶを形成するように構成されるＧＩＣミラーシステムにおいてＧＩＣ冷却アセンブリ１５０を採用する場合、冷却媒体１７０が入出力プレナム間のＯＣＨＴ材料２０２を方位角方向に対称に流される。その結果、冷却性が実現される。 （もっと読む）

【課題】本発明のＥＵＶ光源装置は、ＥＵＶ光以外の他の光を取り除き、ＥＵＶ光のみを露光機に供給することができる。
【解決手段】ＥＵＶ集光ミラー１３０の表面１３１には、Ｍｏ／Ｓｉの多層膜が設けられており、この多層膜にブレーズド溝１３３が形成される。プラズマ２０１から放射された光２０２は、ＥＵＶ集光ミラー１３０に入射し、反射または回折する。ＥＵＶ反射光２０３（ＥＵＶ回折光を含む）は、中間集光点ＩＦに向けて進む。他の波長の光は、反射角度または回折角度が異なるため、ＩＦから外れた位置に進む。ＩＦには、開口部１５１を有するＳＰＦ用アパーチャ１５０が設けられている。従って、ＥＵＶ光のみが開口部１５１を通過して露光機に供給され、他の光はアパーチャ１５０により遮光される。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の安定性と制御性とを向上する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザ装置３と共に用いられるチャンバ装置であって、前記レーザ装置３から出力されるレーザ光３１を内部に導入するための少なくとも１の入射口が設けられたチャンバ２と、前記レーザ装置３から出力される前記レーザ光３１のビーム断面を拡大する拡大光学系５０と、ビーム断面が拡大された前記レーザ光３１を集光する集光光学系２２と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置において、簡単な構成によりプラズマ発生室内の真空度や清浄度を高める。
【解決手段】液滴生成室１００と、該液滴生成室と開口部１０１ａを介して接続されているプラズマ発生室１１０と、プラズマ生成室内にターゲット物質を供給するノズル１０２と、ノズルから供給される溶融金属のターゲット物質に基づいて、繰り返し滴下する溶融金属の液滴１０８を生成するピエゾ素子１０３及びピエゾドライバ１０６と、生成されたターゲット物質の液滴１０８ａが、開口部を通過するのを妨げる液滴遮断ユニット１０７と、液滴遮断ユニットが所定のタイミングで動作するように制御する制御部１１５と、レーザ光を出射するレーザ光源１１１と、レーザ光源から出射したレーザ光を、液滴生成室において生成され、開口部を通過してプラズマ発生室に導入されたターゲット物質の液滴１０８ｂに照射させるレンズ１１２とを含む。 （もっと読む）

【課題】ピンチプラズマのパルス生成器を提供する。
【解決手段】パルス放電型極紫外線（ＥＵＶ）光源のための磁気的にシールドされた効率的なプラズマ生成構造であって、定常磁場に平行な軸に取り付けられる２つの対向する凸電極１０、２０を含む。電極間に配置されるリミッタ開口は、磁場線と共に、電極間をつなぐ中空プラズマシリンダ９０を画定する。高パルスの電圧および電流は、プラズマシリンダ９０およびその内部磁場を圧縮し、同時に各側面から電極チップ間の空間に向けて活動ガスを進めるような磁気絶縁層を形成する。プラズマは次いで径方向に３次元圧縮するように崩壊し、デバイスの軸上に、極紫外線の放出を伴う高密度プラズマを形成する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生ＥＵＶ光源発生器の環境において又は特に液体噴出ターゲット液滴発生器のターゲット液滴発生における圧電材料の利用に関連することができる問題に対処する。
【解決手段】磁歪材料又は電歪材料を含むターゲット液滴形成機構と出力オリフィスで終端する液体プラズマ源材料通路と液滴形成噴出流又は選択経路に沿って通路を出る個々の液滴に電荷を印加する帯電機構と出力オリフィスとプラズマ開始部位の中間にあって液滴を選択経路から定期的に偏向させる液滴偏向器と入力開口部と出力オリフィスとを有する液体ターゲット材料供給通路を含む液体ターゲット材料供給機構と液体ターゲット材料内で外乱力を発生させる外乱起電力発生機構と出力オリフィスを有する液体ターゲット供給液滴形成機構と及び／又は出力オリフィスの周辺の湿潤障壁とを含むことができるＥＵＶプラズマ形成ターゲット供給システム及び方法が開示される。 （もっと読む）

【課題】パルス周期に対して不十分なプラズマの放出期間が改善されたガス放電発生プラズマベースの放射線源によって、短波長放射線を発生する。
【解決手段】エミッタが、真空チャンバ１に配置された２つの電極２間のパルス状電流によってイオン化および圧縮され、放出プラズマ３を形成する。プラズマ３は、パルス状電流のパルス繰り返し周期が、プラズマ３の寿命より短く調整され、パルス状電流の高周波数シーケンスによって、プラズマ３が、放出圧縮プラズマ３１の高エネルギ状態と緩和プラズマ３２の低エネルギ状態との間で周期的に交替しながら維持される。圧縮プラズマ３１を発生するための緩和プラズマ３２の励起用に、パルス繰り返し周期と等しいパルス幅を備えた５０ｋＨｚ〜４ＭＨｚのパルス繰り返し周波数ｆがパルス状電流用に用いられ、励起エネルギが、緩和プラズマ３２に結合される。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ放射のためのプラズマ光を長時間（μｓｅｃオーダーで）安定して発生させることができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。
【解決手段】対向配置された１対の同軸状電極１１を有しその中間位置１１ａにプラズマ３を軸方向に閉じ込める複数の同軸電極対１０と、各同軸電極対１０にプラズマ媒体を供給しかつプラズマ発生に適した温度及び圧力に各同軸電極対内を保持する放電環境保持装置２０と、各同軸電極対の各同軸状電極に極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置３０とを備える。複数の同軸電極対１０は、中間位置１１ａで互いに交差して配置されており、電圧印加装置３０は、各同軸電極対１０の同軸状電極１１に位相がずれた放電電圧を印加する。 （もっと読む）