説明

Fターム[4C092AB19]の内容

X線技術 (5,537) | 目的 (965) | 性能・特性の維持、長寿命化 (246)

Fターム[4C092AB19]に分類される特許

1 - 20 / 246


【課題】中間電極と集束電極又は電子源との間で放電が発生した場合に、放電電流を低減することにより、この放電が引き金となって発生する2次放電を防止し、高耐圧化された放射線管及びそれを用いた放射線発生装置を提供する。
【解決手段】電子銃構造体5が接続された陰極2と、ターゲット12が設けられた陽極3と、の間に、絶縁性の管状側壁4が電子銃構造体5を囲んで配置された放射線管であって、管状側壁4には、管状側壁4の中心軸方向の中間部に電位規定部材13が設けられ、電位規定部材13は、電気抵抗部材14又はインダクタ15を介して電位規定手段と電気的に接続され、陰極2の電位よりも大きく、かつ陽極3の電位よりも小さい電位に規定されることを特徴とする放射線管。 (もっと読む)


【課題】本発明は、輸送時にタンク内の電気部品が電気絶縁油から露出するのを防止し、絶縁性能の低下を防止することを目的とするものである。
【解決手段】X線源用高電圧発生装置の輸送時には、タンク7に輸送補助装置が装着される。輸送補助装置は、輸送補助装置本体16を有している。輸送補助装置本体16は、通気管17と、通気管17の下端部に接続されている伸縮袋18と、通気管17の上端部に設けられているバルブコック19とを有している。通気管17の中間部には、通気管17の周囲の挿通孔9aを塞ぐ円板状のフランジ部17aが一体に設けられている。伸縮袋18は、タンク7内の電気絶縁油10内に配置されている。伸縮袋18は、空気の流入・流出により伸縮可能となっている。 (もっと読む)


【課題】チャンバ内を移動するデブリがEUV集光ミラー等の光学素子の反射率又は透過率を低下させることを防止して、長期間安定に極端紫外光を発生することができる極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、チャンバ内のプラズマ発光点に供給されたターゲットにレーザ光を照射して第1のプラズマを生成するドライバレーザと、チャンバ内にガスを供給するガス供給装置と、プラズマ発光点が中心となるように配置されたRFアンテナを含み、ガス及び電気的に中性のターゲット物質を励起して、電気的に中性のデブリを帯電させる第2のプラズマを生成する高周波励起装置と、帯電したデブリの移動方向を制限する磁場を発生する磁場発生装置と、チャンバ内を排気することにより、第1のプラズマから放出され第2のプラズマにおいてガス化されたデブリをチャンバ外に排出する排気装置とを具備する。 (もっと読む)


【課題】流体流を生成する機構、およびそのような機構内における汚染制御方法を提供する。
【解決手段】本発明の第一の態様によれば、放射源であって、所定の体積の燃料を保持するように構成されたリザーバと、リザーバに流体連通し、かつ燃料流を軌道に沿ってプラズマ形成位置に向けて誘導するように構成されたノズルと、プラズマ形成位置の燃料流にレーザ放射を誘導して使用中に放射生成プラズマを生成するように構成されたレーザと、磁界を生成する磁界生成エレメントおよび電界を生成する電界生成エレメントを備える燃料汚染制御機構と、を備え、汚染の移動を制御するために、磁界生成エレメントおよび電界生成エレメントは、使用中、磁界および電界が、燃料内の汚染の位置または潜在位置において確実に重なり合うように、かつ磁界および電界の線束が当該位置において確実に非平行になるように、ともに構成される、放射源が提供される。 (もっと読む)


【課題】極端紫外光生成装置において、EUV集光ミラーによってEUV光が集光される位置のずれを低減する。
【解決手段】この極端紫外光生成装置は、ターゲット物質に少なくとも1つのレーザ光を照射してターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置であって、ターゲット物質に照射される少なくとも1つのレーザ光が入射する開口部を有するチャンバと、チャンバが搭載された基準部材と、チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給装置と、ターゲット供給装置によって所定の領域に供給されるターゲット物質に少なくとも1つのレーザ光を集光してターゲット物質をプラズマ化するレーザ光集光光学系と、基準部材に固定され、プラズマから放射される極端紫外光を反射して集光する集光ミラーとを備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】ターゲット物質の出力位置の安定性が向上し、チャンバ外の異物がチャンバ内に侵入することを抑制し得るとともに、チャンバ内のターゲット物質がチャンバ外に放出されることを抑制し得るノズルのクリーニング機構を提供すること。
【解決手段】EUV光生成装置1のノズル712のクリーニング機構9は、EUV光252の生成が行われるチャンバ2内にターゲット物質271を出力するためのノズル712を、チャンバ2内で物理的にクリーニングしてもよい。 (もっと読む)


【課題】電源が遮断された状態でもX線管陽極の回転を速やかに減速させることが可能なX線高電圧装置を提供すること。
【解決手段】実施形態のX線高電圧装置は、回転陽極X線管と、前記回転陽極のステータコイルに電流を供給するスタータ用インバータと、交流電源を整流した脈流を平滑化し、前記スタータ用インバータに直流電圧を供給する平滑コンデンサと、前記交流電源の電源断を検出する電源断検出部と、前記電源断検出部で電源断を検出した場合、前記ステータ用インバータに所定のディーティ比でパルス幅変調されて入力されるインバータ駆動信号のパルス幅を前記平滑コンデンサ電圧の減少に応じて伸長するするとともに、前記インバータ駆動信号の回転周波数を前記回転陽極X線管の共振回転周波数以下に設定するスタータ制御回路と、を有する。 (もっと読む)


【課題】ターゲットの軌道を擾乱させることなく、ドロップレットターゲットをレーザ照射位置に高速に供給する機構と、プラズマから発生したイオン(帯電したデブリ)を磁場の作用によりトラップする機構とを両立させる。
【解決手段】極端紫外光源装置は、(i)内部で極端紫外光が生成されるチャンバと、(ii)チャンバ内にターゲット物質を噴射するターゲットノズルと(iii)ターゲットノズルから噴射されるターゲット物質を帯電させる電荷供給装置と(iv)電磁石、超伝導磁石、及び、永久磁石の内のいずれかを含み、チャンバ内にミラー磁場を形成する1組の磁石と、ターゲット物質の軌道において該ミラー磁場の磁束線が略直線状且つターゲット物質の進入方向に対して略平行となるように、補助的な磁場を形成する少なくとも1つの補助磁場形成装置とを含む磁場形成装置とを有する。 (もっと読む)


【課題】絶縁性液体を充填した外囲器内に放射線発生管を備える構成において、装置の小型化、外囲器と放射線発生管との間の耐圧の向上、放射線の減衰量の低減を実現した放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置を提供する。
【解決手段】放射線を透過する第一の窓27を有する外囲器12と、外囲器12内に収納され、第一の窓27と対向する位置に放射線を透過する第二の窓19を有する放射線発生管14と、外囲器12と放射線発生管14との間に充填された絶縁性液体13と、を備える放射線発生装置であって、第一の窓27及びその周縁部と第二の窓19及びその周縁部との間に、固体の絶縁部材28が配置されていることを特徴とする放射線発生装置。 (もっと読む)


【課題】 長期に亘って信頼性の高いX線発生装置を提供する。
【解決手段】 X線発生装置は、高電圧コネクタ2と、X線管1と、固定部材5と、スプリングと、を備えている。高電圧コネクタ2は、端面S22が形成された電気絶縁材と、高電圧出力端子23と、を有している。X線管1は、高電圧入力端子14と、端面S22に直接または間接的に密接される密接面S13が形成された高電圧絶縁部と、隙間形成面S11と、を有している。固定部材5は、隙間形成面S5を有し、高電圧コネクタ2に直接または間接的に固定される。スプリングは、隙間形成面S11及び隙間形成面S5に接している。 (もっと読む)


【課題】望ましくない放出物(例えば、粒子、赤外線、および可視光線)を最低限に抑えたプラズマ光源を実現する。
【解決手段】光源100は、プラズマ放電領域112を有し、イオン性媒体を含む室104、プラズマ放電領域112の一部を囲む磁気コア108、エネルギーの少なくとも1つのパルスを磁気コア108に供給し、プラズマ放電領域内に形成されるプラズマに電力を送るためのパルス電力システム136を備える。プラズマは、局所的高輝度ゾーン144を有する。 (もっと読む)


【課題】EUV光放射後に発生するデブリが光学要素に付着して性能劣化することを抑制する。
【解決手段】極端紫外光生成装置1は、レーザ光を内部に入射させるための少なくとも1つの入射口が設けられたチャンバ11と、チャンバに設けられ、チャンバ内の所定の領域にターゲット物質Dを供給するためのターゲット供給部14bと、チャンバに接続される排気ポンプ12と、チャンバ内に配置される少なくとも1つの光学要素M1〜M3と、チャンバに設けられ、チャンバ内でターゲット物質がレーザ光に照射される際に放出されて、少なくとも1つの光学要素に付着したターゲット物質のデブリを、エッチングするために導入されるエッチングガスが通過するエッチングガス導入部16a〜16cと、少なくとも1つの光学要素の温度を制御するための、少なくとも1つの温度調節機構C2,C4,C5と、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】大電流量の電子ビームの発生を抑制して電子源の損傷を防止できるX線源を提供する。
【解決手段】X線源10は、透過ターゲット17を備えた真空容器14内に、電子源22を収納する。電源回路12の高電圧電源29から電子源22に高電圧を印加し、電子源22から透過ターゲット17に照射する電子ビーム21を発生させる。高電圧電源29と電子源22との間に保護手段36を設置し、保護手段36により電子ビーム電流量を制限する。 (もっと読む)


【課題】冷却液による壊食を低減することができ、長期にわたって信頼性が高く、冷却性能に優れた熱移動システム及び熱移動システムの動作方法を提供する。
【解決手段】熱移動システムは、外部からの熱が伝導される冷却液Lを収容する冷却流路3と、冷却液を収容する循環流路30と、循環ポンプ100と、冷却液充満領域71と、脱気空間領域72と、導入口73と、排出口74と、排気口75とを有し、導入口73、排出口74及び排気口75を閉じた状態で気密性を保持可能である容器と、排気口75に気密に取付けられ、脱気空間領域72のガスを排気し、脱気空間領域72を減圧させるアスピレータ式の真空発生器10と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】絶縁性液体が充填された収納容器内に透過型X線管が保持部材で保持された構成において、ターゲットの熱を速やかに放熱でき、長時間安定してX線を発生可能な信頼性の高いX線発生装置及びそれを用いたX線撮影装置を提供する。
【解決手段】胴部内に配置された電子源に対向する一端に電子の照射によりX線を発生させるターゲットを備えて内部が密閉された筒形のX線管が、絶縁性液体が充填された収納容器内で、周囲に絶縁性液体の流路を残して胴部を保持部材によって保持されたX線発生装置であって、電子源とターゲットの前記対向方向における保持部材と前記一端の端面の外周との距離が、保持部材よりも前記一端側のX線管の外面に接する前記流路の最小幅の2倍以上であることを特徴とするX線発生装置。 (もっと読む)


【課題】発生するプラズマ光の出力を大幅に高めることができ、かつ熱負荷及び電極消耗を抑えて装置寿命を延ばすことができるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】所定の発光点1aでプラズマ光8を周期的に発光する複数のプラズマ光源10と、プラズマ光源の複数の発光点におけるプラズマ光を単一の集光点9に集光する集光装置40とを備える。 (もっと読む)


【課題】EUV放射源の集光ミラー上へのイオン、原子、分子及び粒状デブリなどの堆積率を減少させるための汚染バリアを有する放射源を提供する。
【解決手段】放射源は、燃料が放射ビームと接触してプラズマを形成するプラズマ形成部位を含む。ミラー付きコレクタは、第1焦点で生成されたEUV放射を集めて第2焦点に向かって反射させる。汚染バリアは、汚染バリアの周縁部が第2焦点においてミラーによって規定される立体角のうちの50%より多くを閉塞しないように位置決めされ、それによって、集光ミラーによって反射したEUV放射は汚染バリアを通り抜けることによって過度に減衰されない。汚染バリアは、プラズマからのイオン、原子、分子又はナノ小滴などの燃料材料をトラップする働きをし、集光ミラー上への堆積を防ぐ。ガス抽出口は、集光ミラーに向かう燃料デブリ及び汚染の拡散を抑制するためにプラズマ形成部位付近に設けられてよい。 (もっと読む)


【課題】発生するプラズマ光の出力を大幅に高めた場合でも熱負荷によるダメージを抑えて装置寿命を延ばすことができるプラズマ光源システムを提供する。
【解決手段】内部が真空排気される真空チャンバー21内で、中心軸7を中心とする円周上に設置された複数の発光点1aでプラズマ光8を周期的に発光する複数のプラズマ光源10と、各発光点1aにおけるプラズマ光8を中心軸7上に位置する集光点9に向けて反射するミラー回転体40と、ミラー回転体40を中心軸7まわりに回転駆動する回転駆動装置48と、ミラー回転体40の内部を冷却する冷却装置50とを備える。 (もっと読む)


【課題】チャンバ内に滞留及び蓄積したデブリがチャンバを汚染して集光ミラー等の重要光学コンポーネントの性能を低下させることを防止し、長期間安定に極端紫外光を発生することが可能な極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】極端紫外光源装置は、ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内の所定の位置に供給されるターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを生成するドライバレーザと、チャンバ内に設置され、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射する集光ミラーと、チャンバと連通し、排気装置と接続されてチャンバ内を一定の圧力に維持する排気経路と、排気経路に備えられ、プラズマから発生するデブリを捕集する捕集装置と、捕集されたデブリをチャンバ外に回収する回収装置とを具備する。 (もっと読む)


【課題】チャンバ内に配置された光学要素の性能劣化を防止する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、レーザ装置と共に用いられ、外部装置に極端紫外光を供給するよう接続される極端紫外光生成装置であって、レーザ光を内部に入射させるための少なくとも1つの入射口を有するチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内で前記ターゲット物質が前記レーザ光に照射される際に放出されて前記少なくとも1つの光学要素に付着した前記ターゲット物質のデブリをエッチングするために導入されるエッチングガスが通過するエッチングガス導入部と、前記チャンバに接続される排気ポンプと、前記チャンバ内に配置される少なくとも1つの光学要素と、前記少なくとも1つの光学要素の温度を制御する少なくとも1つの温度調節機構と、を備えてもよい。 (もっと読む)


1 - 20 / 246