【課題】 扇形状をスライス方向に連ねた形状のX線を照射する際に、断層面内のX線強度分布に偏りを生じさせないX線管装置を提供する。
【解決手段】 スライス方向と平行な中心軸を有する円柱形状部を有する陽極と、前記陽極に電子線を照射する陰極と、照射された前記電子線が衝突することで形成されるX線焦点から放射されたX線が透過するX線照射窓と、を備えたX線管装置であって、前記陰極は、前記中心軸と直交する面内において、前記X線照射窓の中心と前記中心軸とを通る直線である基準線に対し、線対称となる位置に設けられた陰極対を含むことを特徴とするX線管装置である。 （もっと読む）

【課題】有効利用する波長において、ＥＵＶ光源、特に、ＥＵＶプラズマ光源の光源パワー及び光源位置を十分な精度を持って測定することができる測定手段を備えたＥＵＶ照明システムを提供する。
【解決手段】少なくとも一つのＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光源（３）と、特に、有効利用する波長の範囲で、ＥＵＶ光源（３）の、又はＥＵＶ光源（３）の中間像の一つの強度変動及び／又は位置変化を測定する開口絞り及びセンサ装置（１）とを備えたＥＵＶ照明システムにおいて、開口絞り及びセンサ装置（１）は、開口絞り（２．１）とＥＵＶ位置センサ（２．３）とを有し、開口絞り及びセンサ装置（１）は、開口絞り（２．１）がＥＵＶ光源（３）から、又はその中間像（７）の一つから発せられる照射の所定の立体角範囲がＥＵＶ位置センサ（２．３）に当たるように配置される。 （もっと読む）

【課題】取り付け上及び作業上のコストを低減した、高効率なＸ線処理システムを提供する。
【解決手段】電子源、電子加速器、及び電子ターゲット媒体から構成された大面積フラットパネル源を利用し、ターゲット・ゾーン８２９内部のターゲット物質には、１つ又は２つ以上のフラットパネル源８２１、８２３，８２５、８２７からＸ線８３１、８３３、８３５，８３７が照射され、ターゲット物質中の汚染物質の生物学的作用を低減する。 （もっと読む）

【課題】アパーチャを通り抜ける調節された放射ビームの均一性を維持するための新しい技術を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射源装置からＥＵＶ放射ビームを受け、かつビームを調節してレチクルなどのパターニングデバイスのターゲット領域を照明するためのイルミネータを含む。レチクルは、パターン付き放射ビームを形成する。投影システムは、ＥＵＶリソグラフィによってパターンをパターニングデバイスから基板に転写する。センサは、ビームが特に非スキャン方向でレチクルに近づくにつれて調整されたビームにおける残留非対称性を検出するために設けられている。フィードバック制御信号は、検出された非対称性に応じて放射源のパラメータを調整するように生成される。フィードバックは、照明スリットの両端における２つのセンサによって測定された強度比率に基づいており、ＥＵＶ放出プラズマを生成するレーザパルスのタイミングを調整する。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光生成装置に用いた場合生成される極端紫外光の強度を安定化させる。
【解決手段】チャンバ装置は、少なくとも１つのレーザ装置と共に用いられるチャンバ装置であって、前記少なくとも１つのレーザ装置から出力される少なくとも１つのレーザ光を内部に導入するための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、前記少なくとも１つのレーザ光を前記所定の領域で集光させるためのレーザ集光光学系と、前記少なくとも１つのレーザ光の前記所定の領域におけるビーム断面の光強度分布を補正するための光学素子と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの位置安定性を改善する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、レーザ装置から出力されるレーザ光をターゲット物質に照射してターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成する。この装置は、（ｉ）電気伝導性を有する構造部材を含み、レーザ光を導入する貫通孔が形成されたチャンバ２と、（ii）液体ターゲット物質の帯電ターゲットを生成し、チャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて帯電ターゲットを供給するターゲット生成器２６であって、帯電ターゲットが通過する貫通孔が形成された電極と、電極を保持する電気絶縁部材と、少なくとも電気絶縁部材とプラズマ生成領域２５との間に配置され、帯電ターゲットが通過する貫通孔が形成された遮蔽部材とを含み、遮蔽部材が電気伝導性を有してチャンバ２の構造部材に電気的に接続されているターゲット生成器２６とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光生成装置に用いた場合生成される極端紫外光の強度を安定化させる。
【解決手段】チャンバ装置は、少なくとも１つのレーザビーム生成装置と共に用いられるチャンバ装置であって、前記少なくとも１つのレーザビーム生成装置から出力される少なくとも１つのレーザビームを内部に導入するための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記少なくとも１つのレーザビームを前記所定の領域で集光させるレーザ集光光学系と、前記少なくとも１つのレーザビームの前記所定の領域におけるビーム断面の光強度分布を補正する光学素子と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ピンチプラズマのパルス生成器を提供する。
【解決手段】パルス放電型極紫外線（ＥＵＶ）光源のための磁気的にシールドされた効率的なプラズマ生成構造であって、定常磁場に平行な軸に取り付けられる２つの対向する凸電極１０、２０を含む。電極間に配置されるリミッタ開口は、磁場線と共に、電極間をつなぐ中空プラズマシリンダ９０を画定する。高パルスの電圧および電流は、プラズマシリンダ９０およびその内部磁場を圧縮し、同時に各側面から電極チップ間の空間に向けて活動ガスを進めるような磁気絶縁層を形成する。プラズマは次いで径方向に３次元圧縮するように崩壊し、デバイスの軸上に、極紫外線の放出を伴う高密度プラズマを形成する。 （もっと読む）

【課題】透過形ターゲットから発生する後方散乱Ｘ線がＸ線発生装置から外部へ漏洩することを大幅に低減できる小形で軽量なＸ線発生装置とＸ線発生装置群を用いたＸ線照射装置を提供する。
【解決手段】透過形ターゲットの表面を囲むように筒状シールド管がターゲットホルダに固定された構成によって後方散乱Ｘ線を吸収する。これによって、シールド管を装着しない場合に比べて、後方散乱Ｘ線を１／２０以下に低減することができ、Ｘ線発生装置全体を覆う鉛板の量を大幅に低減することが可能となる。本発明によるＸ線発生装置複数台と他の装置とを組み合わせて、Ｘ線治療に好適な小形で軽量なＸ線照射装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】放電プラズマに基づいた極紫外（ＥＵＶ）放射線発生のソース位置を安定させるための方法および装置を提供する。
【解決手段】本発明は、放電プラズマに基づいたＥＵＶ放射線の発生中にソース位置を安定させるための方法および装置に関する。ソース位置の位置変化を放射線ソースの動作中に単純な方法で補償できるようにする、ＥＵＶ放射線の発生中にソース位置を安定させるための新規な可能性を見い出すという目的は、第１のビーム整列ユニット（７）、第２のビーム整列ユニット（４）、およびビーム集束ユニット（５）が、蒸発ビーム（３）に配置され、かつ第１〜第３の測定装置（８、９、１０）に接続され、かつ基準値に対する蒸発ビーム（３）の方向偏差および発散偏差を取得および補償するために調整可能であるという点で、本発明によって達成される。 （もっと読む）

【課題】中間集光点以降における照度分布測定を、露光装置側に照度分布を測定する手段を設けることなく、極端紫外光光源装置単体でも行うことができるようにすること。
【解決手段】ＥＵＶ光源装置において、集光鏡６と中間集光点ｆの間に、中間集光点ｆに集光するＥＵＶ光だけを抽出する多孔板２０１と蛍光板２０２と折り返しミラー２０３と受光検出器２０５を設ける。多孔板２０１には、中間集光点ｆに向かう光のみが通過するように配置された多数の貫通孔が設けられており、受光検出器２０５には中間集光点ｆに集光する光のみが受光される。受光検出器２０５で検出した点状の照度分布は画像処理部１０で補間処理され、中間集光点ｆに集光する光の照度分布が復元される。これにより、集光点ｆに集光するＥＵＶ光の照度分布の悪化を知ることができ、また、ＥＵＶ光の照度分布が良くなるように、集光鏡６を移動させ照度分布を改善することができる。 （もっと読む）

【課題】 制御性の優れたマルチＸ線ビームの形成を小型の装置により可能とする。
【解決手段】 マルチ電子ビーム発生部１２のマルチ電子放出素子１５から発生した電子ビームｅは、レンズ電極１９によるレンズ作用を受け、アノード電極２０の透過型ターゲット１３の部分で最終電位の高さに加速される。ターゲット１３で発生したマルチＸ線ビームｘは真空内Ｘ線遮蔽板２３、Ｘ線取出部２４を通り、更に壁部２５のＸ線取出窓２７から大気中に取り出される。 （もっと読む）

【課題】ノズルから噴射されたドロップレットターゲットを加速する場合に、加速後のドロップレットターゲットの速度を一定に維持することができるターゲット供給装置を提供する。
【解決手段】液滴状又は固体粒状のターゲット物質を噴射するターゲットノズル１と、該液滴状又は固体粒状のターゲット物質を帯電させる電荷供給装置３と、該電荷供給装置によって帯電させられたターゲット物質の帯電量を計測する帯電量モニタ４及び帯電量計測部７と、帯電量計測部７の計測結果に基づいて、上記電荷供給装置をフィードバック制御する帯電量制御部８と、帯電したターゲット物質を加速する加速器５とを含む。 （もっと読む）

【課題】実質的に円柱形または球形処理装置に特に適している収束または発散放射パターンを生成するＸ線照射装置の実現。
【解決手段】Ｘ線照射装置であって、放射の収束パターンを有するＸ線を生成するための、連続な、実質的に凹面の放射素子909は電子を放射し、加速フィールドは、適切な電圧を、放射された電子が目標材料905に向かって加速して衝突するように加えることにより、放射素子909と目標材料905の間に確立される。そのような衝突から生成されたＸ線は、内部チューブ911内の目標体積913に向かって導かれる。このようにして、目標体積の内容物が効率よく照射される。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光光源装置の中間集光点以降における照度分布特性が悪化したことをリアルタイムで検知すると共に、悪化した照度分布を修正できるようにすること。
【解決手段】ＥＵＶ光源装置において、中間集光点ｆに集光しないＥＵＶ光を検知する円筒形状の検知手段２０を設ける。中間集光点ｆに集光するＥＵＶ光は、検知手段２０の開口２０ａを通過するので、露光処理中あっても中間集光点ｆに集光しないＥＵＶ光を検知することができる。中間集光点ｆに集光されないＥＵＶ光の照度分布は、集光点ｆに集光して露光機内に入射するＥＵＶ光の照度分布と相関しているので、上記検知手段２０により得られたＥＵＶ光の照度分布の悪化から、集光点ｆに集光するＥＵＶ光の照度分布の悪化を知ることができる。また、上記ＥＵＶ光の照度分布が良くなるように、集光鏡６を移動させることにより、露光機内に入射するＥＵＶ光の照度分布を改善することができる。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光光源装置において、均一な角度分布特性を得るための集光鏡の位置調整を、短時間で行うことができるようにすること。
【解決手段】制御部１０の分布データベース１０ａに、不均一な角度分布特性画像データと、この不均一な角度分布特性を均一な角度分布特性にするための集光鏡の移動方向および移動量と登録しておく。角度分布特性測定器１２により、角度分布画像データを取得したら、この角度分布特性画像データを、分布データベース１０ａに登録された画像と比較し、角度分布特性画像データの中から、取得した現在の角度分布特性と最もよく一致する画像データを選ぶ。そして、選び出した画像データに対応づけて記憶されている、均一な角度分布特性にするための集光鏡６の移動方向および移動量のデータを読み出し、これに基づいて、集光鏡移動手段１１により、集光鏡６を移動させる。 （もっと読む）

【課題】画質、イメージング・システムの性能、及びＸ線源の耐久性を保存するように電子ビームの焦点及び位置を同じ時間尺度で制御する。また、走査要件に基づいて電子ビーム強度を制御して電子ビームを正確に配置するＸ線管の設計を開発する。
【解決手段】Ｘ線管（５０）用の入射器（５２）が提示される。入射器（５２）は、電子ビーム（６４）を放出する放出器（５８）と、放出器（５８）の周りに配設されて電子ビーム（６４）を集束させる少なくとも一つの集束電極（７０）と、放出器（５８）に関して正のバイアス電圧に保たれて電子ビーム（６４）の強度を制御する少なくとも一つの引出し電極（７４）とを含んでいる。 （もっと読む）

電子エミッタ(1)及び当該電子エミッタ(1)を有するX線管(100)が与えられている。当該電子エミッタ(1)はカソード(3)及びアノード(5)を有する。前記カソード(3)は、互いに離間した複数の局所領域からなる電子放出パターンを有する。各領域は、前記カソード(3)と前記アノード(5)との間に電界が印加される際の電界放出によって局所的に電子を放出するように構成されている。前記局所領域(11)から放出される電子ビーム(15)は、特定の幾何学パターンにおいて複数のX線源強度の最大を生成することができる。検出器上での画像の重なりによる空間分解能の明確な損失は、前記X線源(100)用の特定強度パターンを用い、かつ取得された前記画像に専用の復号アルゴリズム−たとえば符号化線源イメージング(CSI)−を適用することによって補正することができる。
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【課題】スループットを良好に維持できる光学素子、露光装置、及びこれらを用いたデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板と、前記基板上に各層の層厚の比率が一定になるように複数層積層され、極端紫外線及び軟Ｘ線の少なくとも一方を含む露光光を反射する反射領域を有し、当該反射領域で反射される前記露光光の入射角の分布に応じて前記反射領域内に前記層厚の分布が形成された多層膜とを備える。 （もっと読む）

本発明は、移動面（１０）上に合焦する、第１の波長（λ_１）の第１の光ビームを放射する一次光源（Ｆ_１）から二次源を発生させる装置に関し、前記第１のビームは、二次ビーム（Ｆ_２）を発生させるために本装置と相互作用し、本装置はさらに、前記移動面上の、前記二次源の放射点の向きおよび位置を測定するために前記移動面の向きおよび位置を制御する光学素子を備えることを特徴とし、干渉計型測定によって移動面（１０）の向きおよび位置を制御する上記光学素子は、
− ２つの分岐に分割される制御レーザビーム（１１）であって、一方の分岐は、固定された基準ビームであり、他方の分岐は、移動面から反射される移動解析ビーム（１２）である、制御レーザビーム（１１）と、
− 前記基準ビームと前記解析ビームとを干渉させて干渉縞を発生させる手段と、
− 前記移動面の向きおよび位置に関する情報を搬送する干渉縞を撮像するカメラ型手段（１６）と、
− 前記干渉画像を解析する手段（１７）と、
− 前記情報搬送信号の解析に基づいて前記移動面の向きおよび位置を制御するフィードバックループを発生させる手段（１８）と、を含むことを特徴とする。
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