【課題】 電子線のスポット径を精密に制御可能なＸ線源を提供することを目的とする。
【解決手段】 このＸ線源は、カソードからの収束電極を経てＸ線発生用のターゲット体に至る電子線を偏向する偏向手段とを備えたＸ線源において、収束電極とターゲット体との間の主管電圧ＶＴとし、カソードと収束電極との間のフォーカス電圧Ｖｋ、偏向手段による電子線偏向量を決定する偏向パラメータＩｃ、及び、電子線の電流Ｉｋを制御する。この制御装置はフォーカス電圧Ｖｋと偏向パラメータＩｃを連動させて制御する。 （もっと読む）

【課題】冷却式放射線放出デバイスを提供する。
【解決手段】冷却式放射線放出デバイスはその内部でＸ線を発生させる筐体を有している。この筐体内には、陰極と、この陰極と対面すると共にシャフト（７）上で回転するように配置させた陽極と、固定の陽極シャフト支持体（１１）と、が存在している。この支持体は、陽極のシャフトをその内部に保持している保持用チェンバ（１２）を含んでいる。この管球の冷却では、陽極シャフトを通過するガリウム−インジウム−すず液体合金の流れを利用する。この合金は熱及び電気に対する伝導体である。これによって、ベアリングの潤滑及び陽極の電力供給と同時に陽極の冷却が提供される。 （もっと読む）

【課題】 搬送管を用い作動排気構造、高圧力ジェットを利用した微粒子搬送方法においては、加速放出された微粒子は、指向性を有して放出され放出方向に対する垂直方向では拡散は小さい。しかし、微粒子径による搬送管内の加速長の違い、微粒子を搬送する気体の搬送管内壁との摩擦による径方向分布の速度差等により加速放出される微粒子は、放出方向に主として拡散してしまう。
【解決手段】 本願発明においては、レーザー生成プラズマ光源となるターゲットの密度を効果的に上昇させ、吸収の効率をあげることが出来る。これにより、レーザーアブレーションを利用した気体搬送方式では達成できなかった高密度状態が得られる。同時に高効率なプラズマ光源発生が達成される。 （もっと読む）

照射量変調照射システムは電子ビームを方向付けるためのグリッド電極（１１０、１１２）を有する静電グリッドを有するＸ線管（２０）を有する。グリッドバイアスは、電子ビーム（９４）の第１時間変化強度変調を生成するグリッド電極（１１０、１１２）に時間変化電気バイアスを加えるために備えられている。フィラメントの電流（８０）は、電子ビーム（９４）の第２時間変化強度変調を生成するように変調される。制御器（５２）は、結合された時間変化強度変調を生成するように第１及び第２時間変化強度変調の強調的な結合を制御する。
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【課題】 従来Ｘ線管で発生させることにより利用されてきた特性Ｘ線をレーザープラズマＸ線発生装置で発生させることにより、レーザープラズマＸ線の短パルス高輝度点光源の特徴を併せ持つＸ線発生装置を実現する。
【解決手段】 遠赤外パルスレーザー光を低原子番号物質からなるターゲットに入射させることにより共鳴吸収現象に起因する高速電子を発生させ、該高速電子を高原子番号物質に衝突させることにより、短パルス高輝度点光源の特性Ｘ線を発生させる。 （もっと読む）

【課題】
X線取り出し方向で解像度に偏りのない実効焦点を有し、かつ許容負荷の大きいマイクロフォーカスX線管を得る。
【解決手段】
X線管の陰極の電子集束系14はカソード電極12と4個のグリッド電極、G1電極20、G2電極22、G3電極24、G4電極26で構成され、それぞれのグリッド電極はカソード電極12の電子放射面12aから放射された電子線が通過する開口20a、22a、24a、26aを有する。G4電極26の開口26aのみ楕円形にする。G1電極20〜G3電極24にはカソード電極12の電位に対し正のグリッド電位を、G4電極26には負のグリッド電位を印加することにより、G1電極20〜G3電極24にて電子線を細いビームに集束し、G4電極26にて電子線のビームの断面形状を楕円形にする。この電子線を陽極のターゲットの傾斜面に衝突させることにより、ほぼ円形の実効焦点が得られる。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生に基づく放射光をより効率的に取り出すことが可能なプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】コイル６Ａ，６Ｂによって、初期プラズマＰ１が生成される以前から、Ｚ軸方向に沿って磁場Ｂｚを印加する。また、磁場調整部７によって、この印加磁場Ｂｚの強度を調整する。プラズマの収縮速度が緩和されると共に、その緩和の度合いが調整可能となる。よって、プラズマの最大収縮持続時間が長くなる度合いも、任意に調整可能となる。 （もっと読む）

【課題】パラメトリックＸ線発生装置において、１つの高エネルギー電子ビームから複数のＸ線を取り出す。
【解決手段】高エネルギー電子線加速器１で、高エネルギー電子ビームを発生する。高エネルギー電子ビームを当ててパラメトリックＸ線を発生するための複数個のＸ線発生用の薄板単結晶２、４、６、８を、高エネルギー電子ビームの方向に沿って直線状に並べる。１つのＸ線発生用単結晶から、１つまたは複数のパラメトリックＸ線を発生する。それぞれのパラメトリックＸ線を、Ｘ線選択用の反射単結晶３、５、７、９、10で選択的に反射させて取り出す。このようにして、小型でＸ線エネルギーを変えることができるとともに、単色でコヒーレントなＸ線を発生できるパラメトリックＸ線発生装置において、１つの高エネルギー電子ビーム１から複数のＸ線を取り出せる。 （もっと読む）

【課題】 高輝度化及び小型化できるＸ線発生器を提供する。
【解決手段】 電子を発生する電子発生手段（カーボンナノチューブ２０、引き出し電極２４）及び支持部材１４に支持されたＸ線ターゲット１２を真空管１８内に備え、前記電子発生手段から前記Ｘ線ターゲット１２へ電子を照射することにより生じるＸ線を所定位置へ導く管状のＸ線ガイド手段（Ｘ線ガイドチューブ）３０を真空管１８外に備えるＸ線発生器において、真空管１８に設けた凹部２８にＸ線ガイド手段３０を挿入した構成とする。 （もっと読む）

エッチング化合物を形成することになる材料を含み、選択中心波長付近の帯域内でＥＵＶ光を生成するＥＵＶプラズマ源材料を用いたＥＵＶ光生成装置であって、ＥＵＶプラズマ発生チャンバと、該チャンバ内に収容され、少なくとも１つの層を含む反射表面を有するＥＵＶ光集束器であって、少なくとも１つの層は、エッチング化合物を形成せず、及び／又は帯域内で反射表面の反射性を有意に低減しない化合物層を形成する材料を含むＥＵＶ光集束器と、チャンバ内に収容され、エッチャント供給源材料を含むエッチャント供給源ガスであって、プラズマ源材料がエッチャント供給源材料と共にエッチング化合物を形成し、該エッチング化合物が反射表面からのエッチング化合物のエッチングを可能にする蒸気圧を有するエッチャント供給源ガスと、を含むＥＵＶ光生成装置を含むことができる方法及び装置。エッチャント供給源材料はハロゲン又はハロゲン化合物を含むことができる。エッチャント供給源材料は、ＥＵＶ光、ＤＵＶ光、及び／又はプラズマ源材料のエッチングを促進するのに十分なエネルギーを伴うあらゆる励起エネルギーフォトンの存在下で、エッチングが促進されることに基づいて選択することができる。本装置は、反射表面の動作近傍においてエッチング促進プラズマをもたらすエッチング促進プラズマ発生器を更に含み、エッチャント供給源材料は、エッチングがエッチング促進プラズマによって促進されることに基づいて選択することができる。また、反射表面に向けてイオンを加速するイオン加速器があってもよい。イオンは、エッチャント供給源材料を含むことができる。この装置及び方法は、プラズマ源材料がエッチングされることになる光学素子を伴うＥＵＶ生成サブシステムの一部を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】 未知の被検体に対しても、管電圧と管電流を容易に設定できるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線管と、このＸ線管の管電圧と管電流とを制御するＸ線制御部と、被検体を透過したＸ線を検出するＸ線検出器とを有し、このＸ線検出器で得られた被検体の透過データから透過画像を作成するＸ線検査装置において、Ｘ線管の管電圧と管電流を設定する管電圧管電流設定部と、管電圧または管電流の設定を変えたときに表示部にリアルタイムで動画表示される透過画像の階調をリアルタイムで略一定に保ち表示させるようにする階調保持手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】 高出力化を可能にするＸ線源を提供する。
【解決手段】 Ｘ線源１は、高圧電源部１７と、Ｘ線管２７と、高圧電源部１７から突出して設けられＸ線管２７を包囲する金属筒２９と、この高圧電源部１７及び金属筒２９を格納する筐体３と、を備えている。筐体３には、冷却ファン５５ａが設けられており、筐体３の内部において金属筒２９の周囲で冷却風を流動させることで、高温となるＸ線管２７を収容する金属筒２９を効率的に冷却することができる。 （もっと読む）

【課題】 駆動電源部を効率よく冷却することを可能にするＸ線源を提供する。
【解決手段】 Ｘ線源１は、Ｘ線管を有してＸ線を外部に照射するＸ線発生部を備えており、筐体３内に収容されて回路基板３５，３７を支持する回路基板ホルダー４９を備えている。そして、回路基板３５，３７が支持された第１平板部４６と第２平板部４８との間には、Ｘ線発生部に駆動電力を供給する駆動電源部３９が収容されており、筐体３には、第１平板部４６と第２平板部４８との間で冷却風を流動させる冷却ファンが設けられている。 （もっと読む）

短Ｘ線パルスを発生するＸ線装置であって、熱陰極（１２）および陽極（１６）を有するＸ線管（１０）と、Ｘ線パルスを発生するために陽極（１６）に印加される高圧パルスを発生する第１の回路（２２，２０，１８）とを備えたＸ線発生器である。Ｘ線発生器は、Ｘ線放射（３０）の発生には不十分な程度の、Ｘ線管（１０）を余熱する低電圧を陽極（１６）に永続的に印加する第２の回路（２６）を含む。第１の回路は、高圧スイッチ（１８）を介して陽極（１６）に印加され得る高圧コンデンサ（２０）を充電させる高圧電源装置（２２）を有する。第２の回路はマルクス発生器で、永続的に低電圧を発生するとともに、高電圧を発生するマルクス発生器を駆動する電源が１つだけ存在する。このＸ線発生装置は、Ｘ線（３０）によって物体の像を生成する撮像装置（４４，４６）を有する物体検査装置の一部を構成する。
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【課題】 大型の設備が必要なく、小型、低コストの設備で軽元素の特性Ｘ線を効率良く発生させることが可能な新規な軽元素特性Ｘ線発生方法を提供する。
【解決手段】
２から１００ｋｅＶの低エネルギーを有する正イオンを、軽元素を含む絶縁体材料ターゲットへ照射することにより、絶縁体材料ターゲットに含まれる軽元素の特性Ｘ線を発生させることを特徴とする軽元素特性Ｘ線発生方法。 （もっと読む）

光を発生する装置は、プラズマ放電領域（１１２）を有し、イオン性媒体を含む室（１０４）を備える。この装置は、さらに、プラズマ放電領域（１１２）の一部を囲む磁気コア（１０８）も備える。この装置は、さらに、エネルギーの少なくとも１つのパルスを磁気コア（１０８）に供給し、プラズマ放電領域（１１２）内に形成されるプラズマに電力を送るためのパルス電力システム（１３６）も備える。プラズマは、局所的高輝度ゾーン（１４４）を有する。
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【課題】シャッター関連の複数の確認ランプを一箇所にまとめて配置することで，シャッターの開閉指令の内容と実際のシャッター開閉状態とを容易に確認できるようにする。
【解決手段】Ｘ線管２２のＸ線取り出し窓はシャッター２４で開閉される。シャッター開閉スイッチ１８による開閉指令は開閉駆動機構３４に送られ，その開閉指令の内容は第１のシャッター指令ランプ２０と第２のシャッター指令ランプ３０で表示される。シャッター２４の開閉状態は開閉検出装置３６で検出され，その検出内容は第１のシャッター検出ランプ２６と第２のシャッター検出ランプ３２で表示される。第２のシャッター指令ランプ３０と第２のシャッター検出ランプ３２は作業テーブル１２上のシャッター表示ユニット２８にまとめて配置されていて，オペレータは両者を容易にかつ同時に確認できる。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線の線量を維持しつつ、電子ビームがターゲットに衝突する焦点を容易に変更することができるＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】 陰極１とターゲット３とを結ぶ軸Ａに沿って２段に第１偏向コイル１１と第２偏向コイル１３とが設けられている。衝突位置変更制御部２１は、これら偏向コイル１１、１３を連動操作することで、電子ビームｅの中心軌道Ｅが絞り孔８を通過しつつ、絞り孔８へ入射する電子ビームｅの中心軌道Ｅの方向を変える。これにより、絞り孔８を通過しターゲット３に到達する電子の量が減少することがないので、発生するＸ線の線量も低下することがない。さらに、絞り孔８へ入射する電子ビームｅの中心軌道Ｅの方向を変えるようにすることで、焦点Ｆの位置を容易にかつ自在に変えることができる。したがって、焦点が損傷しても、容易に焦点Ｆの位置を変更することができる。 （もっと読む）

【課題】 金属外囲器１２と陰極１との絶縁距離を確保とＸ線管の小型化を達成する。
【解決手段】 所定の電源が供給されたフィラメントからの熱電子ビームを放射する陰極１と、この陰極部によって放射された熱電子ビームを衝突させるターゲットを有する陽極２と、この陽極２と陰極１に所定の電界を印加し、前記印加された電界によって陰極１により放出された熱電子を加速して陽極２のターゲット７に衝突させることでターゲット７よりＸ線を発生させるＸ線発生用高圧電源１９と、このＸ線発生用高圧電源１９、陽極２及び陰極１を真空気密して収容する外囲器３及び金属外囲器１２と、を備え、Ｘ線発生用高圧電源１９は、陽極２に印加される直流の正電位の充電部分の位置と金属外囲器１２との間の絶縁距離と陰極１に印加される直流の負電位の充電部分の位置と金属外囲器１２との間の絶縁距離に応じて陽極２又は陰極１のそれぞれに印加される電圧を設定する。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線を正確に制御することができるＸ線発生装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 Ｘ線発生装置は、テーブルを備えている。このテーブルは、点灯条件に関連した物理量である点灯時間、および電子ビーム量（エミッション電流）の相関関係を予め記憶している。このエミッション電流のうち最適エミッション電流は、電子ビーム特性を最適にする値であって、例えば仮想光源径が最小となる条件である。点灯時間が長くなるのにしたがって最適エミッション電流Ｉは低くなる。上述した相関関係をテーブルから読み出すことで現時点での点灯時間に応じた電子ビーム量を設定する。その結果、点灯条件の状況に関わらず電子ビーム量を常に正確に最適に設定することができ、Ｘ線を正確に制御することができる。 （もっと読む）