【課題】安定してＥＵＶ光を生成する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、ターゲット物質にレーザ光を照射して極端紫外光を生成する極端紫外光源装置であって、前記ターゲット物質に照射する前記レーザ光を出力するレーザ装置と、前記レーザ光の波面を調節する波面調節器と、前記ターゲット物質で反射された前記レーザ光を結像させる結像光学系と、結像された像を撮像する像検出器と、前記像に基づいて前記波面調節器を制御する制御部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】不要な放射線を除去するフィルタ材料を使用する透過型Ｘ線管及び反射型Ｘ線管を提供する。
【解決手段】透過型Ｘ線管は、ターゲット材料及びフィルタ材料を備える。ターゲットは、少なくとも一つの元素を有し、元素が励起されるとＸ線が発生する。Ｘ線は、元素の特性Ｋα放射線及びＫβ放射線のエネルギーを備え、これらがＸ線の衝突により物体の画像を形成するために用いられる。Ｘ線が通過するフィルタ材料はＫ吸収端エネルギーを有し、Ｋ吸収端エネルギーは、放射されるＫα放射線のエネルギーよりも高く、Ｋβ放射線のエネルギーよりも低い。フィルタ材料の厚みは、少なくとも10ミクロン3ミリメートル未満である。 （もっと読む）

【課題】ターゲット供給装置の性能を安定させる。
【解決手段】ノズル部８６の下方に設けられ、第１の開口領域が形成された電極８８と、ターゲット物質と電極８８との間に電圧を印加する電源と、を備える。電極８８の第１の開口領域は、ターゲット物質がノズル部８６から重力方向に滴下するときにターゲット物質が第１の導電部材とは離間して通過するように形成されている。 （もっと読む）

【課題】燃料が予期しないまたは意図的ではない障害または制限に遭うことなくノズルを通過することができる放射源を提供する。
【解決手段】放射源は、リザーバ、ノズル、レーザおよび正のレンズを含む。リザーバは、燃料の体積を保持するように構成される。リザーバと流体接続されたノズルは、燃料の流れを軌道に沿ってプラズマ形成配置に向かって誘導するように構成される。レーザは、レーザ放射をプラズマ形成配置における流れに誘導して、使用中、放射生成プラズマを生成するように構成される。正のレンズ構成は、燃料の流れの軌道の少なくとも潜在的な広がりをプラズマ形成配置に向かって合焦させるように構成され、レンズは電界生成要素および／または磁界生成要素を含む。 （もっと読む）

【課題】流体流を生成する機構、およびそのような機構内における汚染制御方法を提供する。
【解決手段】本発明の第一の態様によれば、放射源であって、所定の体積の燃料を保持するように構成されたリザーバと、リザーバに流体連通し、かつ燃料流を軌道に沿ってプラズマ形成位置に向けて誘導するように構成されたノズルと、プラズマ形成位置の燃料流にレーザ放射を誘導して使用中に放射生成プラズマを生成するように構成されたレーザと、磁界を生成する磁界生成エレメントおよび電界を生成する電界生成エレメントを備える燃料汚染制御機構と、を備え、汚染の移動を制御するために、磁界生成エレメントおよび電界生成エレメントは、使用中、磁界および電界が、燃料内の汚染の位置または潜在位置において確実に重なり合うように、かつ磁界および電界の線束が当該位置において確実に非平行になるように、ともに構成される、放射源が提供される。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光生成装置において、ターゲットの大きさやターゲットの位置の安定性を向上させる。
【解決手段】この極端紫外光生成装置は、ターゲット物質を貯蔵するターゲット貯蔵部と、ターゲット物質を出力するノズル部と、ターゲット物質との間に直流電圧が印加されたときにターゲット物質のターゲットを生成する電極と、ターゲットを検出して検出信号を出力するターゲット検出器と、内部で極端紫外光が生成されるチャンバと、ターゲット物質と電極との間に印加される直流電圧を調節する直流電圧調節器と、ターゲット貯蔵部に貯蔵されているターゲット物質に印加される圧力を調節する圧力調節器と、ターゲット検出器から出力される検出信号に基づいて、直流電圧調節器と圧力調節器との内の少なくとも１つを制御する制御装置とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】透過型ターゲットで反射した電子を有効利用することでＸ線発生効率を向上させることができる透過型Ｘ線発生装置及びそれを用いたＸ線撮影装置を提供する。
【解決手段】周囲を電子通過路形成部材３で囲むことにより形成された電子通過路４を有し、電子通過路４を介して電子を透過型ターゲット１に照射してＸ線を発生させる透過型Ｘ線発生装置であって、電子通過路４内に電子の照射によりＸ線を生じる副Ｘ線発生面５を有し、副Ｘ線発生面５が、透過型ターゲット１の電子が照射される側の上方を覆うように張り出していることを特徴とする透過型Ｘ線発生装置。 （もっと読む）

【課題】ターゲット物質の出力位置の安定性が向上し、チャンバ外の異物がチャンバ内に侵入することを抑制し得るとともに、チャンバ内のターゲット物質がチャンバ外に放出されることを抑制し得るノズルのクリーニング機構を提供すること。
【解決手段】ＥＵＶ光生成装置１のノズル７１２のクリーニング機構９は、ＥＵＶ光２５２の生成が行われるチャンバ２内にターゲット物質２７１を出力するためのノズル７１２を、チャンバ２内で物理的にクリーニングしてもよい。 （もっと読む）

【課題】小型で取り扱いが簡単なステレオＸ線放射装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線管装置は、アノード４の後端よりも更に外側には配置した電磁石７に通電すると瞬時にアノード４の後端を吸着する機構を備える。これにより左右のアノード４,４は軸方向外方に移動する。その結果２つのＸ線発生源間の距離が瞬時に拡大したことになる。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの軌道を擾乱させることなく、ドロップレットターゲットをレーザ照射位置に高速に供給する機構と、プラズマから発生したイオン（帯電したデブリ）を磁場の作用によりトラップする機構とを両立させる。
【解決手段】極端紫外光源装置は、（ｉ）内部で極端紫外光が生成されるチャンバと、（ii）チャンバ内にターゲット物質を噴射するターゲットノズルと、（iii）ターゲットノズルから噴射されるターゲット物質を帯電させる電荷供給装置と、（iv）電磁石、超伝導磁石、及び、永久磁石の内のいずれかを含み、チャンバ内にミラー磁場を形成する１組の磁石と、ターゲット物質の軌道において該ミラー磁場の磁束線が略直線状且つターゲット物質の進入方向に対して略平行となるように、補助的な磁場を形成する少なくとも１つの補助磁場形成装置とを含む磁場形成装置とを有する。 （もっと読む）

【課題】アパーチャを通り抜ける調節された放射ビームの均一性を維持するための新しい技術を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射源装置からＥＵＶ放射ビームを受け、かつビームを調節してレチクルなどのパターニングデバイスのターゲット領域を照明するためのイルミネータを含む。レチクルは、パターン付き放射ビームを形成する。投影システムは、ＥＵＶリソグラフィによってパターンをパターニングデバイスから基板に転写する。センサは、ビームが特に非スキャン方向でレチクルに近づくにつれて調整されたビームにおける残留非対称性を検出するために設けられている。フィードバック制御信号は、検出された非対称性に応じて放射源のパラメータを調整するように生成される。フィードバックは、照明スリットの両端における２つのセンサによって測定された強度比率に基づいており、ＥＵＶ放出プラズマを生成するレーザパルスのタイミングを調整する。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光生成装置に用いた場合生成される極端紫外光の強度を安定化させる。
【解決手段】チャンバ装置は、少なくとも１つのレーザ装置と共に用いられるチャンバ装置であって、前記少なくとも１つのレーザ装置から出力される少なくとも１つのレーザ光を内部に導入するための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、前記少なくとも１つのレーザ光を前記所定の領域で集光させるためのレーザ集光光学系と、前記少なくとも１つのレーザ光の前記所定の領域におけるビーム断面の光強度分布を補正するための光学素子と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】安定した極端紫外光を得る。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、第１レーザ光と第２レーザ光との光軸を実質的に一致させるビーム調節器と、前記第１および第２レーザ光を導入するウィンドウを含むチャンバと、前記チャンバ内の所定位置付近にターゲット物質を供給するターゲット供給装置と、前記所定位置付近に前記第１レーザ光を集光し前記ターゲット物質に前記第１レーザ光を照射するレーザ光集光光学系と、前記第２レーザ光と、前記ターゲット物質から生成されたプラズマから放射された放射光とを検出する光検出ユニットと、前記レーザ光集光光学系が前記第１レーザ光を集光する位置を補正する集光位置補正機構と、前記ターゲット供給装置が前記ターゲット物質を供給する位置を補正するターゲット供給位置補正機構と、前記第２レーザ光と前記放射光との検出結果に基づいて、集光位置補正機構およびターゲット供給位置補正機構を制御するコントローラと、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】複数のＸ線エミッタを有する位相コントラスト・イメージング・システム及び方法を提供する。
【解決手段】イメージング対象物を通って検出器へＸ線を送出する複数のＸ線エミッタを含む。隣り合うＸ線エミッタは、相異なる時間に作動して、検出器に衝突するＸ線の混同を避けることができる。各Ｘ線エミッタは独立に動作させて、全体の患者線量を減じるために異なる線束出力を供給させることができる。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置のプラズマ発生室にターゲット物質を供給するターゲット物質供給装置において、ターゲット物質の温度を安定させる。
【解決手段】このターゲット物質供給装置は、外部から供給されるターゲット物質を冷却して液化するための液化室１０８と、液化室１０８において液化されたターゲット物質を噴出するためのノズル１０２と、液化室１０８内においてターゲット物質の温度を制御するためのロッド１０９、冷却装置１１０、ヒータ１１１、温度センサ１１２、及び、温度制御部１１３と、ノズル１０２内においてターゲット物質の温度を制御するためのロッド１１４、冷却装置１１５、ヒータ１１６、温度センサ１１７、及び、温度制御部１１８とを含む。 （もっと読む）

【課題】絶縁性液体が充填された収納容器内に透過型Ｘ線管が保持部材で保持された構成において、ターゲットの熱を速やかに放熱でき、長時間安定してＸ線を発生可能な信頼性の高いＸ線発生装置及びそれを用いたＸ線撮影装置を提供する。
【解決手段】胴部内に配置された電子源に対向する一端に電子の照射によりＸ線を発生させるターゲットを備えて内部が密閉された筒形のＸ線管が、絶縁性液体が充填された収納容器内で、周囲に絶縁性液体の流路を残して胴部を保持部材によって保持されたＸ線発生装置であって、電子源とターゲットの前記対向方向における保持部材と前記一端の端面の外周との距離が、保持部材よりも前記一端側のＸ線管の外面に接する前記流路の最小幅の２倍以上であることを特徴とするＸ線発生装置。 （もっと読む）

【課題】ターゲット物質の帯電ターゲットを供給するターゲット供給装置の絶縁破壊を抑制する。
【解決手段】このターゲット供給装置は、ターゲット物質を内部に貯蔵するターゲット貯蔵部と、ターゲット貯蔵部に貯蔵されたターゲット物質を出力するための貫通孔が形成されたターゲット出力部と、ターゲット出力部に対向して配置され、ターゲット物質が通過する貫通孔が形成された電極であって、ターゲット出力部に対向する面の一部に電気絶縁材料がコートされた電極と、ターゲット物質と電極との間に電圧を印加する電圧生成器とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ式ＥＵＶ光生成装置のＣＥを向上させる。
【解決手段】チャンバ内にターゲット物質のドロップレットを供給するステップ（ａ）と、ドロップレットにプリパルスレーザ光を照射することによりドロップレットを拡散させて所望の拡散ターゲットを形成させるステップ（ｂ）と、拡散ターゲットの照射位置において、メインパルスレーザ光のレーザ光軸に垂直な断面の形状を、レーザ光軸の方向から見た拡散ターゲットの形状と実質的に一致させて、メインパルスレーザ光を、所望の拡散ターゲットに照射することによりプラズマを生成して極端紫外光を生成するステップ（ｃ）と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】発生するプラズマ光の出力を大幅に高めることができ、かつ熱負荷及び電極消耗を抑えて装置寿命を延ばすことができるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】所定の発光点１ａでプラズマ光８を周期的に発光する複数のプラズマ光源１０と、プラズマ光源の複数の発光点におけるプラズマ光を単一の集光点９に集光する集光装置４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの位置安定性を改善する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、レーザ装置から出力されるレーザ光をターゲット物質に照射してターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成する。この装置は、（ｉ）電気伝導性を有する構造部材を含み、レーザ光を導入する貫通孔が形成されたチャンバ２と、（ii）液体ターゲット物質の帯電ターゲットを生成し、チャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて帯電ターゲットを供給するターゲット生成器２６であって、帯電ターゲットが通過する貫通孔が形成された電極と、電極を保持する電気絶縁部材と、少なくとも電気絶縁部材とプラズマ生成領域２５との間に配置され、帯電ターゲットが通過する貫通孔が形成された遮蔽部材とを含み、遮蔽部材が電気伝導性を有してチャンバ２の構造部材に電気的に接続されているターゲット生成器２６とを備えてもよい。 （もっと読む）