【課題】プラズマから放射された高エネルギ放射線のビーム束における特性の調整用の方法および機構を提供する。
【解決手段】集光光学系によって合焦されるビーム束内において、放射線の強度分布が、中間焦点１６の前の光軸１３に垂直な測定面１５２における収束ビーム束１５の断面にわたって取得され、かつ強度値が、光軸１３と同心の異なる半径を備えて整列された測定装置２の複数の受信領域用の画定されたセクタにおいて記録され、かつ測定量および制御変数が、集光光学系１４を整列させるために、異なるセクタの強度値の比較から決定される。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源（２０）の内部部品（３０）を、プラズマ形成位置（２８）で生成され、最初は内部部品（３０）に向けられたイオン（２０６ａ、２０６ｂ）から保護するシステムを提供する。
【解決手段】内部部品（３０）とプラズマ形成位置（２８）との間に挿入され、プラズマ形成位置（２８）から内部部品（３０）へと延びる線に実質的に沿って位置合わせされた表面を有する少なくとも１つの箔板（１８０）と、イオン（２０６ａ、２０６ｂ）を箔板表面（２０８ａ、２０８ｂ）内へと偏向させる磁場（Ｂ２）を発生させる磁気源（２００ａ、２００ｂ）とを備える。 （もっと読む）

【課題】シンクロトロンの超高真空を破壊することなく低真空領域での軟Ｘ線照射実験を可能にすると共に、試料の操作性、視認性に優れた低真空軟Ｘ線実験装置を提供する。
【解決手段】低真空軟Ｘ線実験装置において、超高真空（Ｐｂｌ＜１×１０^-７Ｔｏｒｒ）の放射光ビームライン１と差動排気室（３、５）を介して接続された低真空（Ｐｅｘ＞１×１０^-２Ｔｏｒｒ）に保たれた実験槽８で、最終段のオレフィスが円錐管６の先端に設置されている。又、試料７が配置される実験槽８を透明部材で構成する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構造で不要な放射線の遮蔽とターゲットの冷却を可能とすると共に、軽量化を図った放射線発生装置を提供する。
【解決手段】放射線を透過する第一の窓２を有する外囲器１と、外囲器１内に収納され、第一の窓２と対向する位置に放射線を透過する第二の窓１５を有する放射線管１０と、第二の窓１５に連通する放射線通過孔２１を有し、第二の窓１５から第一の窓２側に突出した放射線遮蔽部材１６とを備え、しかも、放射線遮蔽部材１６よりも熱伝導率が高い熱伝導部材１７が、放射線遮蔽部材１６の前記突出した部分の外周側に接続されている放射線発生装置とする。 （もっと読む）

【課題】装置の小型化、外囲器と放射線発生管との間の耐電圧の向上、放射線の減衰量の低減を実現した放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置を提供する。
【解決手段】放射線を透過する第一の窓２７を有する外囲器１２と、外囲器１２内に収納され、第一の窓２７と対向する位置に放射線を透過する第二の窓１９を有する放射線発生管１４と、外囲器１２の内壁と放射線発生管１４との間に充填された絶縁性流体１３と、を備える放射線発生装置であって、第一の窓２７及びその周縁部と第二の窓１９及びその周縁部との間に、複数枚の絶縁性板材が隙間を空けて並んで配置され、絶縁性板材間の隙間は、第一の窓２７と第二の窓１９との間の耐電圧が、複数枚の絶縁性板材に換えて各絶縁性板材の厚さの合計と同じ厚さを持った絶縁性板材を配置した場合に比べて大きくなる隙間であることを特徴とする放射線発生装置。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光生成装置のＣＥを向上させる。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、レーザ光生成システムと、前記レーザ光生成システムから出力される少なくとも１つのレーザ光の光強度および出力タイミングの少なくともいずれか一方を制御するレーザ制御システムと、前記レーザ光生成システムから出力される前記少なくとも１つのレーザ光を内部に導入するための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】 光軸を画定する放射ビームを生成するための放射システムが提供される。
【解決手段】 放射システムは、ＥＵＶ放射を生成するためのプラズマ生成放電源を含む。放電源は、電圧差を提供する１対の電極と、電極間にプラズマ内の放電を提供するために１対の電極間にプラズマを発生させるためのシステムとを含む。また、放射システムは、電極からのデブリを捕捉するためのデブリ捕捉シールドを含む。デブリ捕捉シールドは光軸に対して所定の球面角で提供された見通し線から電極を遮蔽し、見通し線内の電極間の中央領域に開口を提供するように構成され配置されている。 （もっと読む）

【課題】中間集光点以降における照度分布測定を、露光装置側に照度分布を測定する手段を設けることなく、極端紫外光光源装置単体でも行うことができるようにすること。
【解決手段】ＥＵＶ光源装置において、集光鏡６と中間集光点ｆの間に、中間集光点ｆに集光するＥＵＶ光だけを抽出する多孔板２０１と蛍光板２０２と折り返しミラー２０３と受光検出器２０５を設ける。多孔板２０１には、中間集光点ｆに向かう光のみが通過するように配置された多数の貫通孔が設けられており、受光検出器２０５には中間集光点ｆに集光する光のみが受光される。受光検出器２０５で検出した点状の照度分布は画像処理部１０で補間処理され、中間集光点ｆに集光する光の照度分布が復元される。これにより、集光点ｆに集光するＥＵＶ光の照度分布の悪化を知ることができ、また、ＥＵＶ光の照度分布が良くなるように、集光鏡６を移動させ照度分布を改善することができる。 （もっと読む）

【課題】プラズマからＥＵＶ光を供給する極紫外線（ＥＵＶ）光発生器を提供する。
【解決手段】ＥＵＶ光源プラズマ生成チャンバ光学要素表面をプラズマ形成から生じるデブリから保護するためのシステム及び方法。本発明の実施形態の１つの態様では、光学要素とプラズマ形成部位の間に位置決めされた少なくとも１つの中空管を含むシールドを開示する。管は、光を比較的小さなグレージング入射角での反射を通じて管の内腔に通過させながらデブリを捕捉するように配向される。本発明の実施形態の別の態様では、シールド上に堆積したデブリ材料の１つ又はそれよりも多くの種を除去するのに十分な温度まで加熱されるシールドを開示する。本発明の実施形態の更に別の態様では、シールドが光源プラズマチャンバからシールドが洗浄される洗浄チャンバまで移動されるシステムを開示する。 （もっと読む）

【課題】遮蔽体を少なくし、あるいは無くすことができるとともにＳ／Ｎ比を改善することができるＸ線計測装置及びＸ線計測方法を提供する。
【解決手段】Ｘ線検出データのうち、衝突点９においてＸ線４が発生している時に対応する検出データを有効化し、その他のデータを無効化して、Ｘ線波形を生成する。例えば、レーザ光３がパルスレーザ光であり、電子ビーム１が連続状又はパルスレーザ光のパルス幅と同じかそれより長いパルス幅をもつパルス状の電子ビームである場合は、レーザ光３を検出し、Ｘ線検出データとレーザ光検出データとを、衝突点９に関して時間軸を一致させて乗算して、Ｘ線波形を生成する。 （もっと読む）

【課題】気体放電プラズマからＥＵＶ光を発生させる方法と装置の提供。
【解決手段】電極２間に位置付けられ、少なくともバッファガス７が収容された放電空間６内の発光材料３が、気化用ビーム５の高エネルギーパルス放射により照射されることによって気化され、電極間に発生するパルス放電電流によってＥＵＶ光を発生させる放電プラズマに変換される。チャネル生成用ビーム４が、少なくとも２つの部分的ビームで供給され、ビーム焦点が電極２間でパルス同期した状態で重畳されるように成形、集光され、放電空間６に向けられ、導電放電チャネルは、少なくとも放電空間内に存在するバッファガス７の電離によって重畳領域に沿って生成され、チャネル生成用ビーム４の高エネルギーパルス放射は、それぞれの場合においてパルス放射電流によって放電チャネルが生成された後に、放電電流パルスがその最大値に到達するような方法でトリガされる。 （もっと読む）

【課題】 蛍光Ｘ線の発生効率を向上させることができるＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線発生装置１は、Ｘ線を出射するＸ線管３と、Ｘ線の照射によって蛍光Ｘ線を放出するターゲットＴと、蛍光Ｘ線を一端５ａから他端５ｂに伝播するキャピラリー管５を複数含むキャピラリー管集合体４と、を備えている。キャピラリー管集合体４は、キャピラリー管５の一端５ａの集合によって形成された一端面４ａを有している。ターゲットＴは、キャピラリー管集合体４の一端面４ａに膜状に配置されている。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線撮像応用に望ましいＸ線ビームのスペクトル形状を有するファン形Ｘ線ビームを提供し得る反射性多層構成を提供する。
【解決手段】ファン形ビームを発生するＸ線イメージング・システムは、ターゲット焦点スポットを含み、Ｘ線を発生するターゲットと、ターゲットと光学的に連絡した勾配付き多層光学装置とを含んでいる。光学系は、線源Ｘ線を伝達してファン形ビームを発生する。勾配付き多層光学装置は、全反射を通じてＸ線を方向転換させて伝達する第一の勾配付き多層区画を含んでいる。勾配付き多層区画は、第一の複素屈折率ｎ₁を有する高屈折率物質層と、第二の複素屈折率ｎ₂を有する低屈折率物質層と、高屈折率物質層と低屈折率物質層との間に配設された勾配帯とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】 制御性の優れたマルチＸ線ビームの形成を小型の装置により可能とする。
【解決手段】 マルチ電子ビーム発生部１２のマルチ電子放出素子１５から発生した電子ビームｅは、レンズ電極１９によるレンズ作用を受け、アノード電極２０の透過型ターゲット１３の部分で最終電位の高さに加速される。ターゲット１３で発生したマルチＸ線ビームｘは真空内Ｘ線遮蔽板２３、Ｘ線取出部２４を通り、更に壁部２５のＸ線取出窓２７から大気中に取り出される。 （もっと読む）

【課題】紫外線レーザを用いるタイプのＸ線発生装置は内視鏡に組み込んで生体内へ挿入可能であり、かかる使用時において安全性を確保する。
【解決手段】紫外線レーザ発生装置から放出される紫外線レーザを電子線放出素子１０３の紫外線レーザ受光面に照射し、電子線放出素子において紫外線レーザ受光面と異なる電子線放出面から放出される電子線を金属片１０４へ照射し、該金属片からＸ線を発生させるＸ線発生方法において、紫外線レーザとして、単位パルス強度を１０００μジュール以下とし、単位パルスの幅を１００ｎｓ以下のものを使用し紫外線レーザ受光面の物質の変性を防止する。電子線放出素子をアースすることによりＸ線の発生を停止できる。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光光源装置において、均一な角度分布特性を得るための集光鏡の位置調整を、短時間で行うことができるようにすること。
【解決手段】制御部１０の分布データベース１０ａに、不均一な角度分布特性画像データと、この不均一な角度分布特性を均一な角度分布特性にするための集光鏡の移動方向および移動量と登録しておく。角度分布特性測定器１２により、角度分布画像データを取得したら、この角度分布特性画像データを、分布データベース１０ａに登録された画像と比較し、角度分布特性画像データの中から、取得した現在の角度分布特性と最もよく一致する画像データを選ぶ。そして、選び出した画像データに対応づけて記憶されている、均一な角度分布特性にするための集光鏡６の移動方向および移動量のデータを読み出し、これに基づいて、集光鏡移動手段１１により、集光鏡６を移動させる。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光光源装置の中間集光点以降における照度分布特性が悪化したことをリアルタイムで検知すると共に、悪化した照度分布を修正できるようにすること。
【解決手段】ＥＵＶ光源装置において、中間集光点ｆに集光しないＥＵＶ光を検知する円筒形状の検知手段２０を設ける。中間集光点ｆに集光するＥＵＶ光は、検知手段２０の開口２０ａを通過するので、露光処理中あっても中間集光点ｆに集光しないＥＵＶ光を検知することができる。中間集光点ｆに集光されないＥＵＶ光の照度分布は、集光点ｆに集光して露光機内に入射するＥＵＶ光の照度分布と相関しているので、上記検知手段２０により得られたＥＵＶ光の照度分布の悪化から、集光点ｆに集光するＥＵＶ光の照度分布の悪化を知ることができる。また、上記ＥＵＶ光の照度分布が良くなるように、集光鏡６を移動させることにより、露光機内に入射するＥＵＶ光の照度分布を改善することができる。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光光源装置において、集光鏡アッセンブリの熱変形による集光性能の悪化を防止すること。
【解決手段】極端紫外光光源装置に用いられる集光鏡アッセンブリは、径の異なる回転楕円面または回転双曲面形状の複数の反射シェル２１から構成され、この反射シェル２１が入れ子状に配置され、その端部が保持構造体２２で保持されている。反射シェル２１には冷媒を流す冷却チャネルが、反射面の裏面側の面上であって反射シェルの軸方向に取り付けられている。この冷却チャネルが補強材の働きをし、反射シェル２１の熱変形を抑制することができる。なお、反射シェル２１の材質としてモリブデンを用いことによりさらに熱変形を抑制することができ、保持構造体２２に冷却チャンネルを設けることにより、さらに効果的に集光鏡アッセンブリを冷却し、その熱変形を抑制することができる。 （もっと読む）

放射源は、低圧力水素環境が与えられているチャンバとして、リソグラフィ装置用の極端紫外線を生成する。微量の保護化合物（例えばＨ_２Ｏ、Ｈ_２Ｏ_２、Ｏ_２、ＮＨ_３、またはＮＯ_ｘ）がチャンバに供給されてチャンバ内の金属（例えばチタン）コンポーネント上の保護酸化物膜を維持することを助ける。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィシステムにＳＯＣＯＭＯシステムを組み込む場合に、より安価で、単純で堅牢なシステムを提供する。
【解決手段】ＬＰＰターゲットシステム４０は、Ｓｎペレット（液滴）源２０を備える。Ｓｎペレット（液滴）源２０は、上述のＳｎペレット（液滴）２２を吐出する。Ｓｎペレット（液滴）２２は、比較的低質量のペレットであって、レーザ光線１３が照射されると、略等方性のＥＵＶ３０を生成する。このため、ＬＰＰ２４と中間焦点ＩＦとの間に光学軸Ａ１に沿って多層シェル型ＧＩＣミラーＭＧを配置することができる。レンズ１７は、レーザ光線１３を焦点Ｆ１３に収束させる。 （もっと読む）