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Fターム[4C092BD13]の内容

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Fターム[4C092BD13]に分類される特許

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【課題】プラズマから放射された高エネルギ放射線のビーム束における特性の調整用の方法および機構を提供する。
【解決手段】集光光学系によって合焦されるビーム束内において、放射線の強度分布が、中間焦点16の前の光軸13に垂直な測定面152における収束ビーム束15の断面にわたって取得され、かつ強度値が、光軸13と同心の異なる半径を備えて整列された測定装置2の複数の受信領域用の画定されたセクタにおいて記録され、かつ測定量および制御変数が、集光光学系14を整列させるために、異なるセクタの強度値の比較から決定される。 (もっと読む)


【課題】大規模な施設を要することなくMRT用のX線ビームを生成することができる。
【解決手段】子ビームが照射されると制動X線をX線ビームXとして出射する金属ターゲット5と、スリット状のX線透過部6aを有し、X線ビームXの一部分がX線透過部6aを透過し、X線透過部6a以外の領域に入射したX線ビームXを遮蔽するように、金属ターゲット5のX線ビームXの出射方向下流側に配置されたX線遮蔽体6と、出射されるX線ビームXの発生点の径がX線透過部6aの入口部の長手方向に沿った長さより短い電子ビームを金属ターゲット5に照射する電子ビーム発生装置と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】アパーチャを通り抜ける調節された放射ビームの均一性を維持するための新しい技術を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射源装置からEUV放射ビームを受け、かつビームを調節してレチクルなどのパターニングデバイスのターゲット領域を照明するためのイルミネータを含む。レチクルは、パターン付き放射ビームを形成する。投影システムは、EUVリソグラフィによってパターンをパターニングデバイスから基板に転写する。センサは、ビームが特に非スキャン方向でレチクルに近づくにつれて調整されたビームにおける残留非対称性を検出するために設けられている。フィードバック制御信号は、検出された非対称性に応じて放射源のパラメータを調整するように生成される。フィードバックは、照明スリットの両端における2つのセンサによって測定された強度比率に基づいており、EUV放出プラズマを生成するレーザパルスのタイミングを調整する。 (もっと読む)


【課題】極端紫外光光源装置の光出射口から露光機側に汚染物質が流出するのを防ぐこと。
【解決手段】高温プラズマPから放射されたEUV光は、EUV集光鏡6により集光点fに集められ、EUV光出射口7から出射し、露光機30に入射する。集光鏡6と光出射口7の間に、モータ9によりEUV光の光軸と交差するように回転する回転翼(プロペラ)8が配置され、その回転軸9aは極端紫外光の光路外に配置される。極端紫外光が発光していないとき、回転翼8を集光鏡6と光出射口7の間を通過させる。極端紫外光が発光していないとき光出射口7が回転翼によって実質的に遮蔽され、また、光出射口に向かって進んできた汚染物質が回転翼と衝突し、その進行方向が曲げられることによって汚染物質の流出が抑制される。 (もっと読む)


【課題】レーザ光を安定させる。
【解決手段】レーザ装置は、外部装置と共に用いられるレーザ装置であって、パルスレーザ光を出力するマスターオシレータと、前記マスターオシレータに接続される第1の電源と、前記マスターオシレータから出力される前記パルスレーザ光の光路上に配置される少なくとも1つの増幅器と、前記少なくとも1つの増幅器に高周波電圧を印加する少なくとも1つの第2の電源と、前記マスターオシレータと前記少なくとも1つの増幅器との間の光路上に配置される少なくとも1つの光シャッタと、前記外部装置からの信号に基づいて、前記レーザ装置を制御するレーザコントローラと、を備えてもよい。 (もっと読む)


【課題】EUVリソグラフィに応用される斜入射集光器(GIC)を熱管理するためのシステム、アセンブリ、方法を提供する。
【解決手段】GIC冷却アセンブリ150は、密閉チャンバ180を形成するようにジャケット160に接合されたGICミラーシェル110を有する。オープンセル型熱伝導性材料(OCHT材料)202は、金属チャンバ内に配置され、GICミラーシェル110、及びジャケットに熱接着及び機械接着される。EUV源からのEUVを受光して集束EUVを形成するように構成されるGICミラーシステムにおいてGIC冷却アセンブリ150を採用する場合、冷却媒体170が入出力プレナム間のOCHT材料202を方位角方向に対称に流される。その結果、冷却性が実現される。 (もっと読む)


【課題】X線発生装置において、X線管からコリメータが離れていることによる問題を解消する。
【解決手段】筐体36の内部には封入体40が設けられ、その封入体40はX線発生管42、遮蔽容器44および絶縁スペーサ46を有する。筐体36には開口部36Cが形成され、そこには絶縁カップ52が配置されている。絶縁カップ52の内部にはコリメータ54が配置されている。コリメータ54が有するスリット54Aにより、ファンビーム形状を持ったX線ビーム48が形成される。コリメータ54がX線発生管42に近づけられているので、筐体36の内部においてビーム成形を行え、また散乱X線の発生源を筐体36の内部にすることが可能である。封入体40により絶縁カップ52の位置決め保持も行える。 (もっと読む)


【課題】透過形ターゲットから発生する後方散乱X線がX線発生装置から外部へ漏洩することを大幅に低減できる小形で軽量なX線発生装置とX線発生装置群を用いたX線照射装置を提供する。
【解決手段】透過形ターゲットの表面を囲むように筒状シールド管がターゲットホルダに固定された構成によって後方散乱X線を吸収する。これによって、シールド管を装着しない場合に比べて、後方散乱X線を1/20以下に低減することができ、X線発生装置全体を覆う鉛板の量を大幅に低減することが可能となる。本発明によるX線発生装置複数台と他の装置とを組み合わせて、X線治療に好適な小形で軽量なX線照射装置を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】高エネルギーの電子蓄積リングのような大がかりな装置を用いることなく、所定値以上のエネルギー領域において特性X線の無い連続X線を発生することのできるX線放射装置を提供する。
【解決手段】X線放射装置は、炭素系冷陰極電子源、チタンよりも原子番号の小さい導電性軽元素ターゲットからなり、冷陰極電子源から放出された電子を入射するターゲット、及び、該ターゲットで発生したX線以外のX線を遮蔽する遮蔽部材を具備し、電子の入射方向に対して前方に放出するX線を利用することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 蛍光X線の発生効率を向上させることができるX線発生装置を提供する。
【解決手段】 X線発生装置1は、X線を出射するX線管3と、X線の照射によって蛍光X線を放出するターゲットTと、蛍光X線を一端5aから他端5bに伝播するキャピラリー管5を複数含むキャピラリー管集合体4と、を備えている。キャピラリー管集合体4は、キャピラリー管5の一端5aの集合によって形成された一端面4aを有している。ターゲットTは、キャピラリー管集合体4の一端面4aに膜状に配置されている。 (もっと読む)


【課題】光軸合わせ作業を簡単且つ迅速に行うことができるX線発生装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係るX線発生装置は、電子ビームを発生する電子源1、電子源1に対向配置され電子ビームの衝突によりX線を発生するターゲット4、前記電子源1と前記ターゲット4との間に配置され電子ビームの通過範囲を制限する絞り孔7aを有する絞り手段7、前記電子源1と前記絞り手段7との間に配置され電子ビームを偏向する複数の偏向手段2、前記ターゲット4で発生されたX線量を検出するX線検出手段20、前記X線検出手段20で得られたX線検出データに基づいて前記偏向手段2を制御する制御手段21を備える。制御手段21は偏向信号にスキャン信号を重畳して各偏向手段2を走査制御し、そのとき表示手段には前記X線検出手段20で得られたX線検出データに基づいて電子ビームプロファイル、例えばエミッションパターンが表示される。 (もっと読む)



【課題】異なる処理装置の仕様に対してEUVチャンバの仕様変更を少なくすることができるEUV光源装置を提供する。
【解決手段】極端紫外光を用いて処理を行う処理装置に極端紫外光を供給する極端紫外光源装置であって、処理装置に供給するための極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内において生成された極端紫外光を集光して前記処理装置に出射する集光ミラーと、チャンバと処理装置との間において極端紫外光の経路を画定するとともに、極端紫外光の経路を外部から隔離する光路接続モジュールとを具備する。 (もっと読む)


【課題】逆コンプトン散乱現象を利用して硬X線を生成するX線射出装置において、安定して硬X線を射出する。
【解決手段】第1導光部4及び第2導光部5が、平行レーザ光L1の分岐手段2への基準入射条件からのズレ量に起因する変化が対称面Aに対して対称となるように電子加速用レーザ光L2及び衝突用レーザ光L3を導光する。 (もっと読む)


【課題】本発明の極端紫外光源装置は、溶融状態のターゲット物質に接触する面が、ターゲット物質によって侵食され、ターゲット物質と反応したり、削られたりするのを抑制する。
【解決手段】ターゲット発生部120は、ドロップレット状の溶融した錫をターゲット201として、チャンバ101内に噴射する。ノズル部121及びタンク部122の各面のうち、溶融状態の錫に接触する箇所には、錫に対する耐侵食性を有する保護膜が形成される。あるいは、溶融状態の錫に接触する部分は、耐侵食性及び耐熱性等を備える材料から形成される。 (もっと読む)


【課題】極端紫外光光源装置の集光点以降における角度分布特性が悪化して非対称になったことを検知できるようにすること。
【解決手段】レーザービームを照射して固体の原料Mを気化させ、放電電極2aと2bの間にパルス電力供給部3からパルス電力を供給し、放電電極2a.2b間で放電を発生させる。これにより高温プラズマが発生し、EUV光が放射される。集光反射鏡6の光軸を中心とする円環上に、検知手段20が配置され、検知手段20内には、ピンホールを有する2つの絞り部材が配置され、ピンホールは、集光点Pと集光反射鏡6の光反射面6aにおける任意の点とを結ぶ仮想線上に並ぶように配置される。このピンホールを通過した光は、受光素子に入射する。この受光素子で検知した照度データに基いて集光点Pに集光されたEUV光の角度分布変動を求めることができる。 (もっと読む)


【課題】1次X線の混入がほとんどない単色X線を発生させることができ、しかも放熱性に優れているため、大強度のX線を発生することができるX線発生装置を提供する。
【解決手段】放熱性に優れた回転陽極のエッジ付近1次ターゲット層と2次ターゲット層を重ねて設置する。2次ターゲットで発生した特性X線は、回転陽極に近接したスリット20より、ベリリウム層30を介して電子ビームに対して垂直方向に取り出す。1次X線は、1次ターゲット層と、遮蔽材によって吸収されスリット20からは、射出されない。 (もっと読む)


【課題】PXR現象を利用したX線発生装置であってX線放射方向を一定に維持したままX線波長を変化させることができるX線発生装置を提供する。
【解決手段】光源10から出力されたレーザ光91は、レーザ光入射窓31を通過して容器30の内部へ入力され、第1反射鏡33および第2反射鏡35により反射され、XYステージ37上の結晶90の表面に形成された金属薄膜ターゲット80に集光照射される。ターゲット80においてプラズマが発生し、ターゲット80から放出された電子92は結晶90に入射され、結晶90においてPXR現象によりX線93が放射される。ゴニオステージ38およびゴニオステージ39により、結晶90の格子面と電子92の入射方向との角度θおよび結晶90の格子面間隔dは、或る次数nに対してブラッグ条件と同様の条件を満たすよう調整される。 (もっと読む)


大きな検出器アレイを持つコーンビームCTスキャナは、増加された散乱放射線に苦しむ。この放射線は、激しい画像アーチファクトをもたらす場合がある。本発明の例示的な実施形態によれば、散乱放射線を直接測定する検査装置が提供される。この測定は、アノードディスクの5つの標的領域512に配置されるスリット510を有するアノードディスク500に含まれるX線管を用いて実行される。スリット開口部は、第2のアノード550からX線555の第2の源を交互に作成するためにX線管のカソードから電子ビーム580により少なくとも部分的に透過されるよう構成される。これにより、第2の源はX線検出器の散乱防止グリッドの焦点領域の外側に配置される。コーンビームCTスキャナは、コーンビームアーチファクトに苦しむ場合もある。スキャンデータの追加的なセットを測定するのに役立つあるX線管が説明される。
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【課題】充分に大きなサイズの1次焦点を使用し得るとともに、2次焦点として微小孔を使用することにより、ボケの発生を極力小さくし解像度の高い撮影像を得るようにした微小孔焦点X線管および装置を提供する。
【解決手段】フィラメントを有する陰極、該陰極にある距離離間して対向配置されその対向面にある角度を持って設けられたターゲットを有する陽極、これら陰極および陽極を真空密封するガラス円筒管を備えるX線管を用意し、このX線管の外部に前記ガラス円筒管を囲んで絶縁体層を設け、該絶縁体層を囲んでX線遮蔽層を設け、前記X線管のX線照射部前面に位置する前記X線遮蔽層の位置に微小孔を設ける。 (もっと読む)


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