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Fターム[4D048AA17]の内容

触媒による排ガス処理 (103,343) | 被処理成分 (14,589) | 有機化合物 (3,078)

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【課題】 処理効率が高く、かつオゾン発生装置もしくは紫外線照射装置を停止した場合にも、一定の浄化機能を維持できる低コストの有機物除去装置を得る。
【解決手段】 本発明の有機物除去装置は、オゾン発生装置1と、オゾン混合装置11と、反応塔5と、紫外線照射装置6とからなり、反応塔5内に、三次元網目または多孔質構造状からなる触媒担持体9を、光触媒層と12オゾン反応触媒層13の性質の異なる二層の触媒で形成するとともに、除去対象物の濃度または強度を計測するセンサ16を設け、計測値によりオゾン発生装置と紫外線照射装置を同時あるいは一方だけの運転に切り替えて制御するものである。 (もっと読む)


【課題】調湿機能を維持しつつ、揮発性有害物質の除去機能を向上させた水熱固化体を提供する。
【解決手段】この水熱固化体10は、水熱固化用調合物を乾式プレス成形後、水熱処理することにより少なくともケイ酸カルシウム水和物を生じて固化した水熱固化体である。水熱処理による結晶間には、空隙を有して活性炭2及び揮発性有害物質を分解可能な触媒3が分散されている。 (もっと読む)


【課題】 水蒸気存在条件下においても高いVOC(揮発性有機化合物)分解率を発揮できるようにし、尚かつ貴金属担持触媒よりも低コストなVOC分解除去法および分解除去触媒を提供する。
【解決手段】 触媒としてセリア(CeO2)を用いることで、排ガス中の揮発性有機化合物を分解除去することが可能であり、さらに、排ガス中に水蒸気が存在している場合でも、揮発性有機化合物を十分に分解可能である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、廃熱回収装置内の1200℃〜600℃の範囲で排ガス中のダストを除去し、再合成温度領域でのダストをなくすことでダイオキシン類の再合成を無くすると共に、熱回収効率、コンパクト化を図ることができる排ガス処理装置、廃棄物処理装置、及び排ガス処理方法を提供すること。
【解決手段】燃焼炉又はガス化炉又は熱分解炉から排出されるガスから熱を回収する廃熱回収装置を具備する排ガス処理装置において、廃熱回収装置内にガス中のダストを集塵除去する集塵部を設け、該集塵部のケーシングを廃熱回収部として構築した。 (もっと読む)


【課題】環境に有害な弗化炭素ガスを簡単な処法で完全に且つ経済的に分解し無害化する。
【解決手段】パーフルオロカーボンまたはハイドロフルオロカーボンの気体を、炭素質固体材料とアルカリ土類金属化合物とからなる反応剤に、300℃以上の温度で且つ20vol.%以下(0%を含まず)の気体酸素の存在下で接触させることからなる弗化炭素類の分解法。 (もっと読む)


本発明は、金属酸化物を含むナノサイズの結晶に固定された金属触媒を含む触媒材料に関する。更に、本発明は、前記触媒材料の製造方法に関する。最後に、本発明は、汚染物質を除去し、所望の生成物を得るための、前記触媒材料の使用に関する。 (もっと読む)


【課題】本発明は高濃度の排気ガスと低濃度の排気ガスを小型で効率よく経済的に処理することができる酸化エチレンガス滅菌器用排気ガスの処理方法および処理装置を得るにある。
【解決手段】酸化エチレンガス滅菌器から最初に排出される高濃度の排気ガスは燃焼炉で処理する燃焼処理工程と、前記酸化エチレンガス滅菌器からエアレーション運転中に排出される低濃度の排気ガスは触媒燃焼装置で処理する触媒燃焼処理工程とで酸化エチレンガス滅菌器用排気ガス処理方法を構成している。 (もっと読む)


本発明によれば、粒子フィルターを備えるディーゼル自動車の排気ガス系からの多環式芳香族炭化水素(PAH)の排出を、最小限にするか又は防止することができる。粒子フィルターの再生中に、多環式芳香族炭化水素(PAH)は、初めに吸着層に固定され、その場で、高温分解される。好ましくは、分解生成物はその後、酸化工程において除去される。
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本発明は、炭素で変性された二酸化チタン(vlp−TiO2)を基礎とする、昼光で活性な高効率の光触媒およびその製造方法に関する。vlp−TiO2は微細粒のチタン化合物(BET≧50m2/g)と炭素含有物質とを混合し、続いて400℃までの温度で熱処理することによって製造される。炭素含有量は0.05〜4質量%、有利には0.4〜0.8質量%である。生成物は約2.003のgにおける1.97〜2.05のg値の範囲においてだけ有意なESR信号を示すことを特徴とする。本発明による光触媒は、液体および気体における汚染物質および有害物質の無機化(酸化)に適している。 (もっと読む)


新規な高酸化状態のメタロセン化合物、それらの化合物を調製するプロセスおよびそれらの化合物の使用であって、メタロセン化合物は、化学式(1)で表され、Mが4族〜10族(IUPAC、1990)から選択された遷移金属であり、Rが水素または選択的に置換されたC1〜C6アルキル基であり、yが1または2の整数であり、Rが水素、または、化学式(II)、化学式(IIA)若しくは化学式(IIB)で表されるビニル基であって、Rが水素若しくは選択的に置換されたC1〜C6アルキル基であり、RおよびRが選択的に置換されたC1〜C6アルキル基から別々に選択され、RおよびRが水素若しくは選択的に置換されたC1〜C6アルキル基から別々に選択され、nが2若しくは3の整数である。 (もっと読む)


この発明は、還元可能な酸化物ベースの支持体上の金ベースの組成物であって、ハロゲン/金モル比に関して、ハロゲン含量が0.05以下であり、金が、10nm以下のサイズの粒子形態で含まれ、組成物が還元処理に曝されることを特徴とする当該組成物に関係する。該組成物は、還元可能な酸化物ベースの化合物を金ハリドベースの化合物と接触させ、それにより、その懸濁液を形成し、こうして得られた媒質のpHを少なくとも8に固定し、その後、固体を反応媒質から分離して、該固体を塩基性溶液で洗浄することにある方法によって得ることができる。該方法は又、洗浄の前又はその後に行なう還元処理をも含む。この発明の組成物は、煙草の煙及び空気の処理のために、一酸化炭素酸化方法における触媒の形態で用いることができる。 (もっと読む)


層状光触媒/熱触媒被覆は、その被覆上に吸着する汚染物質を、水、二酸化炭素および他の物質に酸化する。層状被覆は、揮発性有機化合物を酸化する二酸化チタンの光触媒外層を含む。被覆はさらに、低極性有機分子を酸化するVIII族貴金属ドープ二酸化チタンの中間層を含む。二酸化チタン上の金の内層が一酸化炭素を二酸化炭素に酸化する。紫外光の光子が、被覆により吸収されると、反応性ヒドロキシルラジカルが形成される。汚染物質が被覆上に吸着されると、ヒドロキシルラジカルが汚染物質を酸化して、水、二酸化炭素および他の物質を生成する。
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光触媒/熱触媒被覆は、ハニカム上に付与された金属/二酸化チタンまたは金属酸化物/二酸化チタンの内層と、内層上に付与された二酸化チタンまたは金属酸化物ドープ二酸化チタンの外層とを含む。内層は、金/二酸化チタン、白金/二酸化チタンまたは酸化マンガン/二酸化チタンとすることができる。二酸化チタンまたは金属酸化物ドープ二酸化チタンの外層は、揮発性有機化合物を二酸化炭素、水および他の物質に酸化する。外層は、薄く、多孔質であるので、空気中の汚染物質は、外層を通って拡散し、内層上に吸着できる。紫外光の光子が、被覆により吸収されると、反応性ヒドロキシルラジカルが形成され、この反応性ヒドロキシルラジカルが汚染物質を酸化して、水、二酸化炭素および他の物質を生成する。
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【課題】 本発明は、好ましくはウォールパネル(1)の形態をとった、居住室の空気の連続式光触媒浄化装置であって、金属製の好ましくは鋼鉄製の外側構造体、ウォールの前部(10)の底部に配置された、処理すべき空気の取入れ開口(11)、直列の紫外線A電灯(3)が取り付けられている内部金属製フレーム(4)、光触媒の二酸化チタン(TiO)を含有する皮膜で被覆された支持体を含むフィルター(2)、ウォールの前部(10)の頂部に配置された、浄化された空気の出口開口(12)を備え、かつ装置内の空気流が、少なくとも一つのファン(5)による自然循環又は強制循環によって保証されてなるものに関し、紫外線A光が照射される光触媒の表面積を最大限にするため、主としてアナターゼ相の二酸化チタン(TiO)を含有する皮膜で被覆されたエキスパンドメタル製の格子(2)を少なくとも一つ備えていることを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、有害物質を含む廃気を浄化するための装置であって、光酸化原理に係る反応段を有するものに関する。この反応段は、管状紫外発光素子が廃気の流れ方向に沿って内側に配置された、少なくとも1つの空気路を含む。廃気路内における分解効率を簡単な方法で高めるために、前記少なくとも1つの空気路の断面が、少なくとも5つの辺を有する正多角形として具体化される。

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酸化タングステン/二酸化チタンの光触媒被覆は、その被覆上に吸着する空気中の汚染物質を、水、二酸化炭素および他の物質に酸化する。酸化タングステンは、二酸化チタン上に単分子層を形成する。紫外光の光子が酸化タングステン/二酸化チタンの光触媒被覆により吸収されると、電子は価電子帯から伝導帯へ上げられて、価電子帯に正孔が生成される。価電子帯内の正孔は、酸化タングステン/二酸化チタンの光触媒被覆上に付与される水と反応して、反応性ヒドロキシルラジカルを形成する。空気中の汚染物質が酸化タングステン/二酸化チタン光触媒上に吸着されると、ヒドロキシルラジカルは、汚染物質に作用して、水素原子を汚染物質から引抜く。ヒドロキシルラジカルは、汚染物質を酸化して、水、二酸化炭素および他の物質を生成する。酸化タングステン/二酸化チタンの光触媒被覆は、湿度変動に対する感受性が低い。 (もっと読む)


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