説明

Fターム[4D075AC78]の内容

Fターム[4D075AC78]の下位に属するFターム

Fターム[4D075AC78]に分類される特許

1 - 20 / 287



【課題】無駄になる液剤の量を少なく抑えつつ、液剤流路内に混入した空気を確実に外気に放出させることができる液剤吐出装置及び液剤吐出装置における空気抜き方法を提供することを目的とする。
【解決手段】液剤流路27から分岐して延びて接続部材25のシリンジ26とケーシング21の間の外表面に開口した空気抜き管路28と、空気抜き管路28を閉塞し、液剤流路27内に混入した空気を外部に放出する空気抜きが行われる際に空気抜き管路28から取り外されて空気抜き管路28を外気に開放するめくら栓29を備える。 (もっと読む)


【課題】無駄になる液剤の量を少なく抑えつつ、液剤流路内に混入した空気を確実に外気に放出させることができる液剤吐出装置及び液剤吐出装置における空気抜き方法を提供することを目的とする。
【解決手段】液剤流路27から分岐して延びて接続部材25のシリンジ26とケーシング21の間の外表面に開口した空気抜き管路28と、空気抜き管路28を閉塞し、液剤流路27内に混入した空気を外部に放出する空気抜きが行われる際に空気抜き管路28から取り外されて空気抜き管路28を外気に開放するめくら栓29を備える。 (もっと読む)


【課題】フォトレジストの消耗量が節減されるノズルユニット、基板処理装置、及び基板処理方法が提供される。
【解決手段】本発明による基板処理装置は、基板を支持するプレートと、前記プレートに支持された前記基板に薬液を塗布するノズルユニットと、前記プレートに置かれる基板と前記ノズルユニットとの間の相対位置が変更されるように前記基板又は前記ノズルユニットを移動させる駆動ユニットと、を含む。前記ノズルユニットは、横方向が第1方向に沿って形成され、前記基板に第1薬液を吐出する第1吐出部と、横方向が前記第1方向に沿って形成され、前記基板に第2薬液を吐出する第2吐出部と、を含む。 (もっと読む)


【課題】 インクジェット方式によって形成した塗布液の薄膜の膜厚均一性を向上させる。
【解決手段】 塗布液供給機構12の進行方向前側に溶剤供給機構18を、進行方向後側に気体噴射機構14を、それぞれ連結して塗布ヘッド10が構成されている。塗布ヘッド10を基板Wに対して相対移動させながら、溶剤供給機構18から基板W上に溶剤を供給し、続いて塗布液供給機構12から溶剤の被膜上に塗布液を供給し、最後に、気体噴射機構14から塗布液の凹凸表面に気体を噴射して溶剤の薄膜表面を平滑化する。 (もっと読む)


【課題】従来の描画装置では、コストを軽減することが困難である。
【解決手段】ワークに向けて液状体を吐出する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドに対する前記ワークの相対位置を変位させる変位装置と、前記相対位置の変位方向に沿って並ぶ複数の目盛り75が設けられたリニアスケール71と、前記相対位置の変位にともなって目盛り75を検出し、目盛り75を検出するごとに検出信号を出力するエンコーダー73と、リニアスケール71の一端78a側を支持するビス82と、リニアスケール71の他端78b側からリニアスケール71に張力を付与する引張りばね83と、リニアスケール71から独立した状態で、ビス82から距離Dを隔てた位置に設けられ、他端78b側において、複数の目盛り75のうちの一部の目盛り75をエンコーダー73から隠す隠し部材91と、を有する、ことを特徴とする描画装置。 (もっと読む)


【課題】塗布液が乾燥する前に撓みが生じる状態で持ち上げられる操作が行なわれる基板に対して塗布液を塗布する際に、出来上がった塗布膜の厚さ分布の均一性の悪化を抑制できる塗布方法及び塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明の塗布方法は、表面fに塗布されたレジスト液rが乾燥する前に撓みが生じる状態で持ち上げられる操作が行なわれる基板Sに対して塗布液を塗布する塗布方法であって、前記操作で生じ得る基板(S)の撓みが大きい箇所が小さい箇所に比べてレジスト液rの厚さが薄くなるように基板Sの表面fにレジスト液rを塗布する工程を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】所定量の塗布液をシートに効率良く安定的に塗布し得る塗布方法を提供すること。
【解決手段】塗布装置として、搬送中の帯状のシートSの一面Saに非接触で塗布液を塗布する塗布手段3と、塗布手段3よりシート搬送方向Vの下流側に位置し、外周面5aをシートSの一面Saに接触させつつ回転するロール5とを備え、且つ搬送中のシートSにおける塗布手段3とロール5との間に位置する特定部分S1、下記状態A〜Cの何れか1つの状態となる塗布装置2を用いる。また、ロール5として、外周面5aが加熱された加熱ロールを用いる。状態A:水平状態。状態B:特定部分S1のロール5側が塗布手段3側より下方に位置する垂直状態。状態C:特定部分S1のロール5側が塗布手段3側の斜め下方に位置する斜行状態。 (もっと読む)


【課題】作業効率を高く維持しつつ、ガラスカレットが機能膜に付着することを確実に防止することが可能なフラットパネルディスプレイ用機能膜付ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フラットパネルディスプレイ用機能膜付ガラス基板の製造方法は、ガラス基板10に対して導電材料の液滴を吐出することによって導電膜を形成する。このフラットパネルディスプレイ用導電膜付ガラス基板の製造方法は、所望のサイズのパネル状に切断された複数のガラス基板10を単一のシート状に配列するステップと、複数のガラス基板10の配列状態に応じた所定パターンで導電材料の液滴を吐出するステップと、を含む。 (もっと読む)


【課題】移動するノズルから吐出される処理液の流量の変動を抑えられる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置20は、基板200を略水平に保持する基板保持部30と、基板200に対して略平行な主走査方向に沿って延びる主走査機構ガイド部42と、主走査機構ガイド部42により主走査方向に沿って移動可能に支持されたスライダ44と、を有する主走査機構40と、スライダ44により主走査方向に沿って移動可能に支持され、基板200に塗布液を吐出する吐出部50と、吐出部50に接続されるとともに吐出部50に塗布液を導く可撓性の塗布液配管80bと、塗布液配管80bの途中の部分を支持するとともに、主走査の繰返しによるスライダ44の周期的な動きに追随してその向きが周期的に変化する可動配管支持部100と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 基板の周辺領域にレジスト等の樹脂膜を効率良く形成することができ、半導体素子製造におけるスループット向上に寄与する。
【解決手段】 素子形成に供される基板10上の周辺部に樹脂膜を塗布する塗布装置であって、基板10が載置され、少なくとも180度回転可能な回転テーブル32と、基板10の中心を通る第1の方向(X方向)軸で2分割された第1の基板周辺領域及び第2の基板周辺領域の一方に相当する円弧に沿って樹脂を吐出するための複数のノズルを配置してなり、該ノズルが基板10の周辺領域に対向するように設置される樹脂膜形成ヘッド部50と、基板10と樹脂膜形成ヘッド部50を相対的に、第1の方向とは直交する第2の方向(Y方向)に移動させる移動機構45とを備えた。 (もっと読む)


【課題】マガジンの移動機構を簡単化して製造コストを低減することができる液剤塗布装置及び液剤塗布方法を提供することを目的とする。
【解決手段】液剤塗布前の基板4を収容した基板供給用のマガジン5が設置される基板供給部R1、基板供給部R1に設置された基板供給用のマガジン5から取り出されて作業位置に移送された基板4に液剤Qを塗布する塗布ヘッド14、液剤塗布後の基板4を収容する基板回収用のマガジン5が設置された基板回収部R2を備えた液剤塗布装置1において、基板供給部R1に設置された基板供給用のマガジン5を新たな基板供給用のマガジン5に交換する場合に、基板回収部R2から基板回収用のマガジン5を取り除いてその基板回収部R2にそれまで基板供給部R1に設置されていた基板供給用のマガジン5を次に使用する基板回収用のマガジン5として移動させた後、基板供給部R1に新たな基板供給用のマガジン5を設置する。 (もっと読む)


【課題】 光学シートの背面にドットパターン印刷を施す際に、印刷面におけるスジの発生を抑制することにより、光学シートを用いた製品の品質向上を図ることができる光学シートの製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】 導光板を製造する際のドットパターン印刷において、インクジェットノズル51から導光板の原板60に対してインクを噴射する。このとき、原板60の非印刷面を吸引吸着して反りを排除し、ジェットノズル51と原板60との距離であるギャップ距離Dが2.8mm以下に調整されている。 (もっと読む)


【課題】従来の処理装置では、処理効率を向上させることが困難である。
【解決手段】ワークWを支持する2つのワークテーブル25と、ワークテーブル25のそれぞれを、2つのワークテーブル25間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイドレール23及びガイドレール24と、前記共通経路において、ワークテーブル25のそれぞれに支持されたワークWに対向した状態で、対向するワークWに対して描画処理を施す吐出ヘッド19と、前記共通経路においてワークテーブル25のそれぞれが吐出ヘッド19に対向し得る領域である処理領域73の外側に設けられ、ワークテーブル25に支持されたワークWの高さ位置を、処理領域73の外側で検出する第1検出装置14及び第2検出装置15と、吐出ヘッド19とワークWとの間の隙間量を調整する昇降モーター18と、を有する、ことを特徴とする処理装置。 (もっと読む)


【課題】薄膜成膜方法および光学素子の製造方法において、被成膜体の外縁部における薄膜形成材料の滞留による膜厚ばらつきを容易に低減することができるようにする。
【解決手段】被成膜体10上の凸面部10aに液状の薄膜形成材料9を供給し、被成膜体10を回転することにより凸面部10a、コバ平坦面10b上で薄膜形成材料9を塗り拡げて成膜する薄膜成膜方法であって、被成膜体10を回転する前に、薄膜形成材料9をコバ平坦面10bの外縁部から、より外方に案内する塗布案内面10cを設けておく方法とする。 (もっと読む)


【課題】基板の浮上量の変動を抑制することが可能な塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】第一気体供給経路及び第一吸引経路のうち少なくとも一方の経路の一部分には大気開放が可能な大気開放部が設けられているので、噴出される気体の流量及び吸引される気体の流量のうち少なくとも一方の変化を緩和することが可能となる。これにより、基板の浮上量の変動を抑制することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】ダイコータによる塗布の直前に吐出口を複数の清掃部材で拭取るのは、安定した塗布膜を得るために効果的な方法であるが、ノズルを交換する毎に、清掃部材を取り替えて、個々に吐出口にフィットするように調整するのは、時間がかかっていた。
【解決手段】塗布装置は、支持部材上に支持された清掃部材による清掃ユニットと、前記清掃ユニットを前記拭取り方向に複数個載置可能で、上面に垂直な回転軸を有するθステージと、前記θステージを支持する台座を含む拭取りユニットを有し、前記清掃ユニットの前記支持部材と前記θステージには、高さ調節部材を挟持するための高さ調節面が形成されている清掃手段を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ダイコータで、ガラス基板とダイ間のクリアランスを全幅に渡って略均一に非常に小さくすることで、ガラス基板に非常に薄い塗布膜を形成できる塗布装置および塗布方法、並びにディスプレイ用部材の製造方法を提供する
【解決手段】スリット状の吐出口を有する塗布器から、塗布液を被塗布部材上に吐出して塗布膜を形成する塗布方法で、被塗布部材表面が高さHだけエアー浮上されて保持されている被塗布部材に、塗布器の吐出口面がH−60μm〜H+50μmの高さに位置するよう塗布器を近接させ、吐出口より塗布液を吐出しながら、塗布器および被塗布部材の少なくとも一方を相対的に移動させて、被塗布部材上に塗布膜の形成を行う塗布方法。 (もっと読む)


【課題】ノズルのメンテナンス性を向上させること。
【解決手段】基板を保持する基板保持部と、前記基板との間で相対的に移動可能に設けられ、前記基板に対して先端部から液状体を吐出するノズルを有する塗布部と、前記ノズルの前記先端部の画像を取得する画像取得部とを備える。 (もっと読む)


【課題】塗布膜の膜厚のバラつきを抑えること。
【解決手段】第一浮上量で基板を浮上させる第一浮上部、及び、第一浮上量よりも小さい第二浮上量で基板を浮上させる第二浮上部、を有し、第一浮上部と第二浮上部との間で基板を連続的に搬送する基板搬送部と、第二浮上部において第二浮上量で浮上する基板に液状体を塗布する塗布部と、第一浮上部と第二浮上部との間を移動する基板の浮上量を調整する浮上量調整部とを備える。浮上量緩和領域RCは、塗布浮上領域TCの上流側に設けられた上流側緩和領域(上流側調整部)RAと、塗布浮上領域TCの下流側に設けられた下流側緩和領域RBとを有している。浮上量緩和領域RCは、第一浮上部である基板搬入領域と第二浮上部である塗布浮上領域TCとの間、及び、第二浮上部である塗布浮上領域TCと第一浮上部である基板搬出領域との間、でそれぞれ基板の浮上量が急激に変化するのを緩和する部分である。 (もっと読む)


1 - 20 / 287