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流動性材料の適用方法、塗布方法 (146,046) | 処理方法 (13,909) | 放射線の照射(赤外線を除く) (2,434)

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本発明は、基材(S)および被覆物(A)を含有し、該被覆物(A)は複素屈折率の実数成分nが少なくとも1.70、複素屈折率の虚数成分kが0.016以下、Ra値としての表面粗さが20nm未満および耐引掻性が0.75μm以下の引掻深度であることを特徴とする(ここで、該屈折率の実数成分および虚数成分は400〜410nmの波長で(すなわち、青色レーザーの波長範囲において)測定し、該Ra値としての表面粗さはAFM(原子間力顕微鏡)を用いて測定したものであり、また、該耐引掻性を決定するために50μmの先端半径を有するダイヤモンド針を1.5cm/sの進行速度にて40gの加重で被覆物上を移動させ、生じる引掻深度を測定した)被覆生成物に関する。本発明はさらに、被覆生成物の製造方法および光データ記憶手段の製造におけるその使用ならびに被覆生成物を製造するために用いるキャスト用溶液に関する。 (もっと読む)


【課題】本発明のハードコートフィルムの製造方法は、耐光試験後の密着性、耐擦傷性、鉛筆硬度等の塗膜硬度、塗工時のレベリング性に優れ、且つ干渉ムラも少ないハードコートフィルムを提供できる。このような特性に優れたハードコートフィルムを用いた画像表示装置は、従来両立し難かった、信頼性と耐擦傷性、鉛筆硬度等の塗膜硬度に優れる。
【解決手段】トリアセチルセルロース透明基板上に、ハードコート層を有してなるヘイズ値が1以下のハードコートフィルムの製造方法であって、
前記ハードコート層が、
少なくとも3つ以上のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物(A)、
光重合開始剤(B)、および
1,3−ジオキソランを有機溶剤全体の20〜100重量%含む有機溶剤(C)を含んでなる電離放射線硬化型組成物を、
トリアセチルセルロース透明基板上に塗工後、電離放射線にて硬化したものであるハードコートフィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】基材表面に塗布された紫外線硬化樹脂を、効率よく硬化、乾燥させ、塗布膜内部の残留溶剤を極力排除できる塗布膜の塗布乾燥方法および塗布乾燥装置を提供すること。
【解決手段】基材5表面に水または溶剤に希釈された紫外線硬化樹脂層4を塗布して形成し、紫外線硬化樹脂層4を硬化、乾燥する硬化乾燥工程とを有する塗布膜の塗布乾燥方法において、前記硬化乾燥工程が紫外線ランプ1から紫外線を、高周波照射装置6から高周波を同時に照射することを特徴とする塗布膜の塗布乾燥方法および塗布乾燥装置。 (もっと読む)


【課題】耐汚染性、耐磨耗性、および透明性に優れる硬化塗膜を低コストで形成できる方法、および該硬化塗膜を有する物品を提供する。
【解決手段】基材12上に、放射線硬化性シリコーン化合物を含む放射線硬化性塗料を塗布して塗膜を形成する工程と、塗膜の表面を、シリコーン処理面16を有する剥離基材20で、シリコーン処理面16が塗膜に接するように覆う工程と、剥離基材20で覆われた塗膜に放射線を照射し、塗膜を硬化させて硬化塗膜22を形成する工程と、硬化塗膜22から剥離基材20を剥離する工程とを有する硬化塗膜22の形成方法;該硬化塗膜22を有する物品。 (もっと読む)


【課題】機能性材料からなる層のパターンが高い解像度で形成されたパターン形成基材を製造する方法の提供。
【解決手段】光照射によって分解して撥水性が低下する光分解性材料からなる撥水性の薄膜(A)を基材表面に形成し、ついで薄膜(A)に光照射し光照射部の光分解性材料を分解して、光照射部の機能性材料を含む液に対する親液性を調整し、ついで光照射部に機能性材料を含む液を塗布して、基材表面に機能性材料からなる層のパターンを形成することを特徴とするパターン形成基材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】無機微粒子の電気的特性などの諸特性、および、光学的特性と機械的特性に優れた塗膜を形成することができるとともに、溶媒の含有率が極めて低い塗膜形成用樹脂組成物とこれを含有する塗膜および塗膜形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の塗膜形成用樹脂組成物は、分散媒と、無機微粒子と、前記分散媒中にてエマルション粒子を形成する活性エネルギー線硬化型樹脂とを含み、前記分散媒の含有率が7重量%以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ビーズの数を正確に制御し安定させるためにビーズを含む液滴の塗布量を調整する液滴塗布量調整装置等を提供することを目的とする。
【解決手段】複数の位置に一定の塗布量の液滴が塗布された被検査媒体に光学系にて光を照射し、前記被検査媒体の画像を取得する画像取得手段と、前記取得した画像に表示された液滴のうち少なくともいずれか一つの液滴に含まれるビーズの数をそれぞれ取得する取得手段と、前記被検査媒体に塗布される一定の塗布量の液滴に含まれるビーズの数を予め設定しておき、前記取得手段によりビーズの数が取得された液滴のうち少なくともいずれか一つの液滴に含まれるビーズの数が、前記設定したビーズの数の範囲外であるか否かを判定する判定手段と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 機能性インクMの消費を抑えつつ、高アスペクト比を有する高解像度パターンを効率よく形成する方法を提供する。
【解決手段】 ドライフィルムレジスト30を基板10上に部分又は全面的に付着させた後、レーザ等の集束可能なエネルギービームを直接照射するか、マスク又は回折光学素子を介して特定波長帯の光を投射して露光した後、現像によりパターン状凹部40を有するパターン鋳型30’を形成し、機能性インクMをパターン状凹部40に充填し、乾燥後、パターン鋳型30’を除去することにより高解像度パターンを形成する方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、基材等に撥水性の薄膜が形成されてなる、撥水性基材を製造する方法の提供を目的とする。また、本発明は、比較的低エネルギーの光を用いた分解反応によって、コントラストの高い親水性領域と撥水性領域を表面に有する光処理基材を製造する方法の提供を目的とする。
【解決手段】基材の表面に下式(1)で表される化合物を塗布し、撥水性の薄膜を基材の表面に形成することを特徴とする撥水性基材の製造方法。
ただし、
1、R、R、およびRは、それぞれ独立して、水素原子または1価の基を示し、かつ、4つの基のうち少なくとも1つは、撥水性の1価有機基を示す。
は、水素原子または1価炭化水素基を示す。
【化1】
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化学線照射への暴露により重合する照射硬化性成分、熱への暴露により重合する熱硬化性バインダー成分、熱硬化性架橋成分、及びポリカーボネート基材をUV照射から保護するための少なくとも1種の添加剤を含む、少なくとも1種の紫外線遮断コーティングで被覆されたポリカーボネート基材を含む光学的に透明なポリカーボネート物品が開示されるUV遮断コーティングポリカーボネート物品の製造方法も開示される。 (もっと読む)


【課題】インクジェット法による膜パターンの形成方法を改善し、簡単な工程で効率よく厚膜化を達成し、細線化の要請も満たし、しかも、導電膜とした場合に断線や短絡等の問題を生じない膜パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】第1吐出工程では、液滴を配線形成領域全体に前記基板上に着弾した後の液滴の直径よりも大きいピッチで吐出する。第2吐出工程では、前記液滴を前記配線形成領域全体の前記第1吐出工程における吐出位置と異なる位置に前記第1吐出工程と同じピッチで吐出する。第3吐出工程では、前記液滴を配線形成領域全体に前記第1吐出工程におけるピッチよりも小さいピッチで吐出する。前記基板は、予め前記液滴との接触角が60[deg]以上となるように処理をしておく。 (もっと読む)


30℃未満のガラス転移温度TG及び(又は)溶融温度Tmを有する1種以上のカルボキシル官能性ポリエステル(a)と、(b1)1種以上の(メタ)アクリル化モノエポキシド並びに(又は)(b2)1種以上のポリエポキシド及び1種以上のα,β不飽和カルボン酸、との反応から得られる少なくとも1種の輻射線硬化性オリゴマーを含む、輻射線硬化性組成物。 (もっと読む)


【課題】優れた帯電防止機能と剥離機能を兼ね備えた剥離フィルムであって、フィルムの平滑性が損なわれることがない上、帯電防止層の厚さが比較的薄く、しかも安定した帯電防止性能を有する剥離フィルムを提供する。
【解決手段】基材フィルムの一方の面に剥離剤層を有し、かつ他方の面に、カーボンナノファイバーを含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物からなる帯電防止層を有する剥離フィルムである。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、微細な線幅制御性の良い矩形な材料パターンが得られるインクジェット方式による材料パターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、化学増幅型ノボラック樹脂組成物からレジストモールドパターンを形成し、該レジストモールドパターン内に金属材料または有機材料をインクジェット方式によって塗布する材料パターン形成方法を提供する。
本発明のインクジェット方式による材料パターン形成方法は、微細な線幅制御性の良い矩形な材料パターンが得られる。 (もっと読む)


【課題】ハードコートベースとの相溶性が高い帯電防止性コーティング組成物、及び、帯電防止性、透明性、耐擦傷性に優れ、硬くてプラスチック基材との密着性に優れた帯電防止被膜を提供する。
【解決手段】帯電防止性コーティング組成物は、エチレン基複数含有モノマーとエチレン基複数含有プレポリマーとの少なくとも何れかを含有するハードコートベースを100重量部、イオン対及びベタインの何れかの極性構造の繰返し単位とフルオロカーボン基とを含有する高分子化合物の0.5〜50重量部が含まれている。帯電防止被膜は、この組成物を硬化させたものである。 (もっと読む)


多光子硬化性光反応組成物を含んだ層をその上に有する基板を調製するステップと、光ビームを層の少なくとも1つの領域に作用させるステップであって、光ビームは、多光子硬化性光反応組成物を硬化させるか、又は多光子硬化性光反応組成物の硬化を引き起こすステップと、各領域での層と基板との境界面の検出信号を取得するために、基板から反射された光ビームの一部分を処理するステップと、を含む方法である。
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分散相として光子相関分光法により測定された80〜750nmの平均粒度(z平均)を有する、固体のおよび/または高粘性の、貯蔵条件および適用条件下で寸法安定性粒子(A)を含有する、ラジカル重合によって硬化可能な、揮発性有機化合物を完全にまたは実質的に含まない構造粘性の粉末水性分散液であって、その際、該粒子(A)は、−70℃〜+50℃のガラス転移温度、2〜10当量/kgのオレフィン系不飽和二重結合の含有量および0.05〜15当量/kgの酸基の含有量を有する少なくとも1つのラジカル架橋可能なバインダー(A1)を(A)に対して50〜100質量%の量で含有する、構造粘性の粉末水性分散液、その製造法およびその使用 (もっと読む)


【課題】支持体上に凹凸構造を有する塗布膜を安定して形成する塗布方法を提供すること。
【解決手段】版胴上に形成された凹及び凸部に塗布液を供給し、前記凹及び凸部に供給された塗布液を連続走行する支持体上に転写した後、活性光線又は熱線で硬化することを特徴とする塗布方法。 (もっと読む)


【課題】電気絶縁性と可撓性と優れた耐熱性を有し平坦化され高温に曝されても変質、劣化、変形することのないシリカ系ガラス薄層付き無機質基板、その製造方法、そのためのコーテイング剤および半導体装置を提供する。
【解決手段】無機質基板に環状ジハイドロジェンポリシロキサン(A)または特定の単位式を有するハイドロジェンポリシロキサン(B)を被覆し硬化させる、鉛筆硬度が2H〜9Hであるシリカ系ガラス薄層を有する無機質基板の製造方法。前記シリカ系ガラス薄層付き無機質基板。前記 (A)または(B)からなる無機質基板のコーテイング剤。前記シリカ系ガラス薄層付き無機質基板を有する半導体装置。 (もっと読む)


【課題】ガスバリア性に優れた単層または多層のフィルムを、簡単な方法により効率的に製造することができる製造方法、及び単層または多層のガスバリア性フィルムを提供すること。
【解決手段】α,β−不飽和カルボン酸単量体及びカルボキシル基と反応する少なくとも1つの官能基を有する架橋性有機化合物を、該α,β−不飽和カルボン酸単量体のカルボキシル基のモル数Aに対する該架橋性有機化合物の該官能基のモル数Bの比B/Aが0.15〜2.20の範囲内となる量比で含有する重合性単量体組成物を調製する工程1;基材上に該重合性単量体組成物を塗布して、塗膜を形成する工程2;及び該塗膜に電離放射線の照射及び/または加熱による処理を行って、架橋硬化塗膜を形成する工程3;を有する、架橋硬化塗膜を含むガスバリア性フィルムとその製造方法、並びに該重合性単量体組成物。 (もっと読む)


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