説明

Fターム[4D075DA06]の内容

Fターム[4D075DA06]の下位に属するFターム

Fターム[4D075DA06]に分類される特許

201 - 220 / 4,060


【課題】露光量が小さくても薄膜を形成することができる薄膜形成用組成物、塗布液、及び薄膜形成方法を提供すること。
【解決手段】金属化合物粒子と、前記金属化合物粒子の表面を修飾する化学式1〜4のいずれかで表される、エチルマルトール等の配位子と、を含む薄膜形成用組成物。その薄膜形成用組成物と、前記薄膜形成用組成物を分散させる分散媒と、を含むことを特徴とする塗布液。その塗布液を、基体の表面に塗布して、塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、前記塗布膜に、前記配位子の光吸収帯、又は前記配位子で表面を修飾された前記金属化合物粒子の光吸収帯に属する波長の電磁波を照射する露光工程と、を備えることを特徴とする薄膜形成方法。 (もっと読む)


【課題】スリット状の吐出口から被処理基板に対して処理液を吐出し、塗布膜を形成する塗布膜形成方法において、ノズル吐出口のビード量およびノズル吐出口からの吐出圧力の変化に拘わらず、現場オペレータの熟練度に依存することなく、安定した膜厚形成を行うことができ、基板に形成される塗布膜の有効面積を広範囲なものとする。
【解決手段】経過時間Tsにおける推定膜厚Thは、式(1)により規定され、前記式(1)の推定膜厚Thに目標膜厚を代入し、基板Gの相対的移動速度Vを変数とすることにより、時間Tsごとに前記基板の相対的移動速度Vを求めるステップと、前記時間Tsごとに求められた前記基板の相対的移動速度Vに従い、ノズル吐出口に対する前記基板の相対的移動速度を制御するステップとを含む。
Th=(ΔB+Q)・β/(Ts・V・L) ・・・(1) (もっと読む)


【課題】液状体が配置された被描画媒体の適切な位置に適切な量の硬化光を照射できるインクジェット描画装置、及びインクジェット描画装置の制御方法を提供する。
【解決手段】インクジェット描画装置は、媒体保持手段に保持された被描画媒体に向けて、液状体を吐出する吐出ヘッドと、液状体の硬化光を被描画媒体に照射する硬化光照射手段と、吐出ヘッドと硬化光照射手段とを保持するヘッド保持手段と、被描画媒体と吐出ヘッドとを相対移動させるとともに、吐出ヘッドから液状体を吐出して被描画媒体に着弾させる吐出走査における吐出走査方向に、ヘッド保持手段と媒体保持手段とを相対移動させる相対走査手段と、相対走査手段を制御する相対走査制御手段と、硬化光照射手段を制御する硬化光照射制御手段と、を備え、硬化光照射制御手段は、相対走査制御手段が発信する走査制御信号に基づいて、硬化光照射手段を制御する。 (もっと読む)


【課題】生産性が高く微細な電界効果トランジスタとその製造方法ならびに製造装置を提供すること。
【解決手段】以下の工程(1)から(3)よりなる印刷工程により前記基板上へラインもしくはスペース最小幅が1から50μmであり、印刷位置精度が100ppm以下の機能性膜の形成を行うことを特徴とする電界効果トランジスタの製造方法としたもの。
工程(1) 版の画線部に相当する溝構造部にドクターブレードを用いたインキング法で、機能性材料が溶媒へ溶解もしくは分散した薬液を充填する工程。
工程(2) 転写シリンダーと前記版を接触させ、前記溝構造部の薬液を前記転写シリンダーへ転移させる工程。
工程(3) 前記転写シリンダー上の薬液を前記基板の所定の位置へ転写し、機能性膜の形成を行う工程。 (もっと読む)


【課題】薄膜成膜装置および薄膜成膜方法において、塗布液の蒸発を抑制する設備を設けなくても、高精度な膜厚を有する薄膜を形成できるようにする。
【解決手段】塗布液8を被成膜体4に供給する塗布液供給部6と、被成膜体4を保持する保持部2と、塗布液8を薄膜化する回転駆動部3と、薄膜化された塗布液8の膜厚を測定する膜厚測定部6と、膜厚の変化から薄膜化された塗布液8の粘度および密度を算出する塗布液特性算出部と、回転駆動部3の回転制御を行う回転制御部と、を備え、回転制御部は、回転を開始し塗布液8が有効塗布領域Eまで拡がったことを検出してから、塗布液8の拡がりが停止する第1の回転速度に回転駆動部3の回転速度を制御し、塗布液8の粘度および密度が算出された後に、これに基づいて目標塗布膜厚を得るための第2の回転速度を算出して、回転駆動部の回転速度を第2の回転速度に切り換える構成とする。 (もっと読む)


【課題】 流量計の校正作業を容易かつ正確に実行することが可能な塗布装置およびこの塗布装置を使用した塗布液塗布方法を提供する。
【解決手段】 塗布液が予め貯留された容器53は、電子天秤54上に載置されている。容器53の上部には、蓋体56が配置されている。この蓋体56は、連結部材58を介してチャンバー55と連結されており、容器53の上端からわずかな距離だけ離隔した位置に配置される。校正用支管の先端部は、金属製の細管57と連結されている。この金属製の細管57は、容器53内に浸入し、容器53に貯留された塗布液中に浸漬している。電子天秤54は、容器53およびそこに貯留された塗布液の重量を計測する。 (もっと読む)


【課題】ノズル毎のインク吐出量のバラツキによって発生する濃度ムラ、かつ視覚的なざらつき感による品質低下がなく、高品質な有機機能性素子を製造できるインクジェットパターン形成装置を提供する。
【解決手段】複数のマトリクス状の隔壁に囲まれた吐出領域が設けられた基板上に、複数のノズルを有するインクジェットヘッドを少なくとも1個用い、吐出パターンデータにより前記ノズルからインクを吐出して濃度ムラを解消した機能層を少なくとも1層形成するインクジェットパターン形成装置において、機能層を形成する際に、吐出パターンデータは、所定の面積からなる任意の領域に存在する開口部のインクの平均量を均一にするための基準データと前記基準データを調整する調整テーブルと多値誤差拡散法によって算出する工程とを備えている。 (もっと読む)


【課題】コンクリートから発生するアンモニアガスを抑制する有効な方法を提供する。
【解決手段】コンクリートからなる基材の表面に下塗層、及びアクリル系樹脂層を順次配設するコンクリートからのアンモニアガス放散の抑制方法であって、前記アクリル系樹脂層は、アクリル系樹脂と、架橋剤と、水膨潤性合成無機層状珪酸塩とを含有するアクリル系樹脂組成物を用いて形成され、前記水膨潤性合成無機層状珪酸塩の含有量は、前記アクリル系樹脂の質量を100質量部としたときに、1〜50質量部であることを特徴とするコンクリートからのアンモニアガス放散の抑制方法。 (もっと読む)


【課題】各吐出ノズルの吐出量を正確に把握し、精度良く全ノズルの吐出量を調整することができる塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】吐出ノズルから液滴を吐出し、基板へ塗布を行う吐出工程と、吐出ノズルから吐出した液滴の着弾面積を測定する測定工程と、前記吐出工程における各吐出ノズルの制御量を調節する調節工程と、を有する塗布方法において、前記調節工程では、前記吐出工程が行われる前に実施された前記測定工程の過去データの蓄積から得られる統計データにもとづいて、この吐出工程における各吐出ノズルの制御量の調節を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】前処理時に媒体にダメージを与えることを防止するとともに良好な印刷品質が得られる印刷方法及び印刷装置を提供する。
【解決手段】樹脂でモールドされた半導体装置3に対し、低圧水銀ランプの光を照射して表面処理を行う表面処理部9と、半導体装置3の表面に活性光線で硬化する液体の液滴を吐出するノズルを有する吐出ヘッドと、半導体装置3上の液滴に活性光線を照射する照射部と、を備える印刷装置に関する。 (もっと読む)


【課題】ダイコータによる塗布の直前に吐出口を複数の清掃部材で拭取るのは、安定した塗布膜を得るために効果的な方法であるが、ノズルを交換する毎に、清掃部材を取り替えて、個々に吐出口にフィットするように調整するのは、時間がかかっていた。
【解決手段】塗布装置は、支持部材上に支持された清掃部材による清掃ユニットと、前記清掃ユニットを前記拭取り方向に複数個載置可能で、上面に垂直な回転軸を有するθステージと、前記θステージを支持する台座を含む拭取りユニットを有し、前記清掃ユニットの前記支持部材と前記θステージには、高さ調節部材を挟持するための高さ調節面が形成されている清掃手段を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
防曇性能に優れ、高硬度かつ高付着性のシリカ膜を得る。
【解決手段】
本発明は、JIS K5600−5−4に基づき測定される鉛筆硬度が3H以上の硬度を有し、IUPACの分類においてミクロ孔に分類される細孔であってBET測定値に基づく平均直径2nm以下の細孔で構成される多孔質膜表面の親水性領域中に、Si−CH結合を有する疎水性領域を分散して成るシリカ膜に関する。 (もっと読む)


【課題】基板表面に光硬化性材料を含む塗布液を塗布して光照射することで基板上にパターンを形成するパターン形成技術において、ノズル周辺での塗布液の固着を防止し、しかも、塗布された塗布液に確実に光を照射して硬化させることのできる技術を提供する。
【解決手段】基板Wの表面Wfに沿って走査移動方向Dsに移動するノズルNから、光硬化性材料を含む塗布液を吐出させるとともに、ノズルNに追随するように移動させた光出射部Eから光(例えばUV光)を塗布液に照射する。塗布終了位置に到達するとノズルNからの塗布液の吐出を停止するとともにノズルNを基板表面Wfから離間する方向に退避させる。一方、光照射部Eについては走査移動方向Dsへの移動を継続することにより、塗布液の終端部にまで確実に光照射を行う。 (もっと読む)


【課題】 均一な濃度分布の処理層を形成可能な処理層形成方法、および光学物品を提供する。
【解決手段】 本発明のハードコート層の形成方法では、処理液体を構成する組成液が導入される超音波ノズル、超音波ノズルに設けられて組成液を噴射するノズル穴と、超音波を出力して超音波ノズルに導入された組成液を微粒化させるスプレーコート装置を用い、超音波振動子から出力される超音波により組成液を微粒化し、微粒化した組成液をノズル孔から噴射するスプレーコート方式で、当該組成液を順次レンズ基材の表面上に滴下する塗布工程と、前記塗布工程の後、前記基材の表面に滴下された前記組成液を焼成して前記処理層を形成する処理層形成工程と、を備え、前記塗布工程は、少なくとも第1次塗布工程の後に、滴下された前記組成液の層厚を前記基材の表面に亘って均一化する第1次レベリング工程を備える。 (もっと読む)


【課題】粉末噴射コーティング法又は蒸着法が用いられる積層構造体の製造方法において、誘電体層の誘電特性を向上させる。
【解決手段】本発明に係る製造方法は、積層構造体を製造する方法であって、工程(a)、工程(b)、及び工程(c)を有している。製造される積層構造体は、金属製の基材1と、該基材1の表面上に形成された誘電体層とを備えている。工程(a)では、粉末噴射コーティング法又は蒸着法を用いて、基材1の表面上に、誘電体層となる成膜層6を形成する。工程(b)では、成膜層6の表面に焼結助剤を付着させる。工程(c)は、工程(b)の後に実行される。工程(c)では、成膜層6に対して熱処理を施すことにより、誘電体層を形成する。 (もっと読む)


【課題】揮発性溶剤を含む塗布液の塗布において、塗布液の濃度の変動を抑制可能とし、安定した濃度の塗布液をワークに塗布することを可能とする塗布装置、塗布方法および太陽光発電モジュールの製造方法を得ること。
【解決手段】塗布液4を貯留する貯留槽5と、貯留槽5の塗布液4に外縁部の一部を浸漬させて支持され、回転駆動により、外縁部で保持した塗布液4をワークの表面に転写する塗工回転体である第2ローラ2aと、第2ローラ2aと対をなし、回転駆動により、外縁部で保持した塗布液4をワークの表面に転写する塗工回転体である第1ローラ1aと、貯留槽5および塗工回転体を内部に収納するカバー部6と、を有し、揮発性溶剤を含む塗布液の塗布において、カバー部6は、揮発性溶剤の蒸気8を内部に充満させる。 (もっと読む)


【課題】良好な厚さを有して光透過率及び導電性が共に優れた透明導電膜を、液相法にて容易に製造することのできる透明導電膜の製造法の提供。
【解決手段】基板10の表面にITOのナノ粒子を含むInSn粒子分散液11を塗布し(A)、乾燥させることによって前記ITOナノ粒子を含むInSn粒子塗膜13を形成する(B)。更に、In及びSnを含む錯体が溶解したInSn錯体溶液21を塗布し(C)、乾燥させることによってInSn錯体塗膜23をInSn粒子塗膜13の上に形成する(D)。これを酸素濃度0.01〜10%の低酸素雰囲気で焼成し、続いて、還元雰囲気でアニールすると、ITOからなり光透過率及び導電性が共に優れた透明導電膜30が、基板10上に形成される(E)。 (もっと読む)


【課題】耐キズ付き性に優れ、かつせん断加工を行っても塗膜の浮きおよび剥離が発生しにくい塗装ステンレス鋼板を提供すること。
【解決手段】本発明の塗装ステンレス鋼板は、ステンレス鋼板と、メラミン化合物およびイソシアネート化合物により架橋されたポリエステル樹脂を含む塗膜とを有する。ポリエステル樹脂に対するメラミン化合物およびイソシアネート化合物の合計量の割合は、10〜40質量%の範囲内である。また、メラミン化合物およびイソシアネート化合物の合計量に対するイソシアネート化合物の割合は、20〜80質量%の範囲内である。 (もっと読む)


【課題】基板に塗布液を塗布して所定のパターンを形成するパターン形成技術において、異形基板に効率よくパターン形成を行うことのできる技術を提供する。
【解決手段】基板に対する走査移動方向に直交する方向(Y方向)に沿って、塗布液を吐出する吐出ノズル523を列状に並べた第1ノズル体52と、ボールねじ機構740によりY方向位置を変更可能な1対の吐出ノズル723を有する第2ノズル体72とを有する。第1ノズル体52からの塗布液の吐出により互いに平行で同一長さの複数のパターンを形成する一方、これとは長さの異なるパターンについては、第1ノズル体52とは独立したタイミングで塗布制御される第2ノズル体72により行う。 (もっと読む)



201 - 220 / 4,060