【課題】従来より高い鏡面性を有する塗装物を得ることが可能な塗料組成物と、それを用いた塗装物と、塗膜の形成方法を提供する。
【解決手段】塗料組成物は、平均粒子径（Ｄ_５０）が１０μｍ以上１２．５μｍ以下かつ厚みが０．０２μｍ以上０．０５μｍ以下である蒸着金属箔と、樹脂と、溶媒とを含み、樹脂１００重量部に対し蒸着金属箔を１００重量部以上９００重量部以下含み、当該塗料組成物を被塗装物に塗装して形成される塗装物の塗膜の膜厚が０．５μｍ以上１．５μｍ以下である場合に、塗装物の２０°鏡面反射における鏡面光沢度が３００以上かつ可視光領域における正反射率が４０％以上である。 （もっと読む）

【課題】成膜装置の構成を複雑化させることなく、モフォロジーの良好な膜を形成可能で、かつ成膜装置の稼働効率を向上可能な成膜方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜原料堆積チャンバー１７内において、半導体基板２８の表面に、成膜原料を溶媒中に溶解させることで形成される液状の成膜原料液を供給し、成膜原料液に含まれる溶媒を液体から気体に相変化させることにより、溶媒中に溶解している成膜原料を半導体基板２８の表面に堆積させ、その後、成膜原料堆積チャンバー１７とは異なる反応チャンバー１８内において、加熱或いは反応試薬の添加により、半導体基板２８の表面に形成された成膜原料を反応させることで、半導体基板２８の表面に膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に対して相対移動するノズルからパターン形成材料を含む塗布液を塗布して、基板上に所定のパターンを形成するパターン形成技術において、パターン幅および端部位置の安定したパターンを形成する。
【解決手段】基板上に塗布液を塗布してライン状パターンを形成するのに際して、本来の始端位置Ｘ1よりも内側の位置Ｘ0から、しかもノズルと基板とのギャップ量をパターン高さよりも小さな値Ｇ0にして塗布液の吐出を開始する。その後、ノズルを基板から離間させながら基板外側に向けて移動させ、パターン始端位置Ｘ1で移動方向を反転させる。終端近傍においても、塗布液の吐出量を低下させながらノズルを基板に近接させてゆき、パターン終端位置Ｘ3においてノズルを離間させるとともに移動方向を反転させる。 （もっと読む）

【課題】ワークの姿勢を良好にアライメントできるアライメント装置、基板処理装置、およびアライメント方法を提供する。
【解決手段】注目マーク９４ａが初期位置Ｐ０から第１計測位置Ｐ１へ第１距離Ｄ１だけ移動した後、位置演算部は、対応撮像部にて撮像された第１撮像画像に基づいて、第１撮像画像の座標系における注目マーク９４ａの第１計測位置Ｐ１を演算する。また、位置演算部は、注目マーク９４ａが第１計測位置Ｐ１から第２計測位置Ｐ２に移動した後、対応撮像部により撮像された第２撮像画像に基づいて、第２撮像画像の座標系における第２計測位置Ｐ２を演算する。続いて、演算された第１および第２計測位置Ｐ１、Ｐ２と、第１角度θ１と、に基づいて、回転軸３５ａから見た注目マーク９４ａのマーク位置を演算する。そして、求められた各アライメントマークのマーク位置を通る直線を求めることによって、主走査方向に対する基板の傾きを求める。 （もっと読む）

【課題】優れた型カジリ性を有する冷延鋼板を得る。
【解決手段】鋼板の表面には、有機樹脂および結晶性層状物を含有する有機無機複合皮膜を有する。そして、前記有機無機複合皮膜は、平均膜厚が0.10〜2.0μmで、有機樹脂の固形分100重量部に対して、固形分として0.5重量部以上の結晶性層状物を含有する。結晶性層状物としては、例えば、[M²⁺_1-XM³⁺_X(OH)₂][A^n-]_x/n・zH₂Oで示される層状複水酸化物であり、前記M²⁺はMg²⁺、Ca²⁺、Fe²⁺、Ni²⁺、Zn²⁺の1種または2種以上であり、前記M³⁺はAl³⁺、Fe³⁺、Cr³⁺の1種または2種以上であり、前記A^n-はOH^-、 CO₃^2-、Cl^-、 (SO₄)^2-の1種または2種以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】塗布された塗布液の膜厚の均一性を改善する。
【解決手段】塗布液を吐出している吐出部を基板に対して相対移動させることによって該基板に塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布装置であって、基板に塗布液を吐出する吐出部と、前記吐出部を前記基板に対して相対移動させる移動機構と、前記吐出部と前記移動機構とを用いて試行的に形成された塗布膜の膜厚情報を取得する取得部と、速度変更部とを備える。そして、前記速度変更部は、前記基板に対して相対移動中の前記吐出部の移動速度を前記膜厚情報に応じて変更する。 （もっと読む）

【課題】基板Ｗ表面に形成された複数のパターンＦを跨いでライン状に塗布される塗布液Ａ3を各パターンＦ間に十分に流動させて、この塗布液Ａ3で構成されるパターンＣの断線を抑制可能とする。
【解決手段】パターンＣを構成する塗布液Ａ3は、パターンＦを構成する塗布液Ａ1よりも粘性が低く、換言すれば高い流動性を有する。そのため、この塗布液Ａ3を各パターンＦの間Ｉfに十分に流動させて塗布することができる。その結果、塗布液Ａ3で構成されるパターンＣを各パターンＦの間Ｉfで基板Ｗ表面に密接させて、パターンＣの断線を抑制することが可能となっている。 （もっと読む）

【課題】熱交換器のフィン材に使用した際、長期間に亘って優れた親水性および汚染物質除去性を維持し得る塗料組成物およびこれを用いたアルミニウムフィン材を提供する。
【解決手段】スルホン酸基含有モノマーおよびカルボキシル基含有モノマーを含むアクリル系高分子体と、イオン性界面活性剤とを含有する塗料組成物であって、前記アクリル系高分子体に含まれる前記スルホン酸基含有モノマーの比率が、１０〜５０ｍｏｌ％であり、前記イオン性界面活性剤の含有量が、前記アクリル系高分子体の１００重量部に対して０．０１〜１０重量部であり、前記塗料組成物のｐＨが、７未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】塗布された塗布液の膜厚の不均一性を改善し得る技術を提供する。
【解決手段】塗布装置は、塗布液を吐出するノズルと、基板に対して、ノズルを移動させるノズル移動機構と、ノズルに塗布液を供給する塗布液供給部と、塗布液をノズルに供給するためにノズルに接続され、ノズル移動機構によるノズルの移動に追従して変形する接続チューブと、塗布液供給部からノズルに向けて供給される塗布液の流量を測定する流量測定部と、塗布液供給部からノズルに通じる塗布液流路の開度を調節する開度調節部と、流量測定部の測定結果に基づいて、開度調節部を制御する開度調節制御部とを備える。開度調節制御部は、ノズルが移動して、基板の表面に塗布液を吐出する際、開度調節部を、ノズルの停止中に調節した開度を維持するように制御する。 （もっと読む）

【課題】プリント基板の製造に使用する中間板として、離型性および耐疵付き性に優れるプレコートアルミニウム板を提供する。
【解決手段】アルミニウム板１の表面に、膜厚０．２〜７μｍの硬質皮膜２を被覆したプレコートアルミニウム板１０であって、硬質皮膜２は、Ｓｉ，Ｆ，Ｃ，Ｏ，Ｎの元素の合計質量に対して、Ｆの割合が１〜２５％、Ｓｉの割合が１〜５０％である樹脂からなり、Ｓｉ，Ｆを含有する塗料をアルミニウム板１に塗布して２１０〜２８０℃で焼付処理して形成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板上に機能膜を形成することにより製造される素子の製造において、機能性インクを基板上に吐出配置し、減圧乾燥を施して機能性インクから機能膜を形成する際に、機能膜の膜厚形状を均一にすることのできる機能膜形成方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子１０の製造において、有機発光層形成用インクから有機発光層２２を形成する際に、減圧乾燥機内において一度に減圧乾燥を施す基板１２上に吐出配置する有機発光層形成用インクに含有される溶媒の量と当該基板１２上に吐出配置する塗工液に含有される溶媒の量とを合計した総溶媒量が所定量になるように、基板１２上に吐出配置する塗工液の量を設定する。 （もっと読む）

【課題】
省エネルギー化のために従来よりも低い温度で硬化プライマー塗膜を形成した場合においても、該プライマー塗膜を含む加工性及び加工部耐食性に優れた複層塗膜を形成することができる複層塗膜形成方法を提供すること。
【解決手段】
カルボニル基含有変性エポキシ樹脂（Ａ）、ヒドラジド化合物及び／又はセミカルバジド化合物を含む架橋剤（Ｂ）及び防錆顔料（Ｃ）を含む水性プライマー組成物を塗装し、従来よりも低い温度で乾燥し、硬化プライマー塗膜を形成する工程、及び該硬化プライマー塗膜上に上塗り塗料組成物を塗装し、加熱硬化する工程を含む複層塗膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】記録媒体上の光硬化型インクを確実に硬化させると共に、空走査の際にノズルの目詰り等を防止することができる記録装置の制御方法等を提供する。
【解決手段】ワークＷに対し、インクジェットヘッド５１および紫外線照射装置４５を相対的に移動させながら、インクジェットヘッド５１の複数の有効ノズル５６ａから光硬化型インクをワークＷ上に選択的に吐出着弾させて未硬化画像６０を形成すると共に、紫外線照射装置４５を駆動して未硬化画像６０を光硬化させる主画像形成工程Ｓ２と、その後、ワークＷに対し、インクジェットヘッド５１および紫外線照射装置４５を相対的に移動させながら、紫外線照射装置４５を駆動して未硬化画像６０を追補的に光硬化させる副画像形成工程Ｓ３と、副画像形成工程Ｓ３の中で、全有効ノズル５６ａのそれぞれについて、少なくとも１のインク滴を予備吐出する予備吐出工程Ｓ３２と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は吐出ノズル式塗布法に好適であって、塗布ムラがなく外観に優れ、また高度な平坦性（膜厚均一性）及び高速塗布を達成でき、かつ透明性、耐擦傷性に優れる保護膜及び層間絶縁膜としての硬化膜を形成可能なシロキサンポリマー組成物を提供することである。
【解決手段】［Ａ］ラジカル反応性官能基を有するシロキサンポリマー、［Ｂ］ラジカル重合開始剤、及び［Ｃ］有機溶媒を含有し、固形分濃度が５質量％以上３０質量％以下であり、２５℃における粘度が２．０ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ［Ｃ］有機溶媒として、少なくとも（Ｃ１）２０℃における蒸気圧が０．１ｍｍＨｇ以上１ｍｍＨｇ未満の有機溶媒を含むシロキサンポリマー組成物。 （もっと読む）

【課題】 塗膜硬化にかかる時間短縮、塗装設備等の縮小化、及び焼き付け時間短縮に伴うＣＯ_２削減等の環境対応を備えた、耐擦り傷性、耐候性、耐酸性及び仕上り性に優れる複層塗膜を形成する方法及び塗装物品を提供する。
【解決手段】
被塗物に、着色塗料（Ｂ）を塗装して着色塗膜を形成する工程、着色塗膜上に、クリヤ塗料（Ａ）を塗装してクリヤ塗膜を形成する工程、並びに活性エネルギー線を照射する工程を含む方法であって、クリヤ塗料（Ａ）が、重量平均分子量２５０〜１５００未満、水トレランス５以上で分子中に平均２個以上のアクリロイル基を有する化合物（ａ１）、重量平均分子量１，５００以上で分子中に平均２個以上のアクリロイル基を有する化合物（ａ２）、光重合開始剤（ａ３）を含み、かつ化合物（ａ１）と化合物（ａ２）の水トレランスの差が１．０〜１０．０であることを特徴とする複層塗膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】パターン形成材料を含む塗布液を基板表面に塗布するにあたって、塗布液の端を正確に規定することを可能とする。
【解決手段】先端ＥＤを塗布範囲Ｒpに向けた状態において、塗布範囲Ｒp側に向けてマスク辺部ＳＤの先端ＥＤにまで下るスロープＳＬを有しており、マスク辺部ＳＤと基板Ｗ表面の段差が小さく抑えられている。そのため、塗布液と基板Ｗ表面の間に隙間が生じたとしても、その隙間は小さいものに抑えることができる。よって、基板Ｗ表面からマスクＭＫ（マスク辺部ＳＤ）を取り外した際の塗布液の切断位置を安定させて、基板Ｗ表面における塗布液の端の位置を正確に規定することが可能になっている。 （もっと読む）

【課題】液状体の種類の変更にかかる時間を短縮する。
【解決手段】第２タンク１１７内の機能液５３を吐出ヘッド３３に導く第２供給管１１９と、第２供給管１１９の途中に設けられたフィルター１２４と、第２タンク１１７とフィルター１２４との間に設けられ、第２供給管１１９を開閉する第１バルブ１２７と、第２タンク１１７と第１バルブ１２７との間において第２供給管１１９から分岐し、フィルター１２４を迂回してからフィルター１２４と吐出ヘッド３３との間において第２供給管１１９に合流する迂回管１２０と、迂回管１２０を開閉する第２バルブ１２９と、第１バルブ１２７とフィルター１２４との間において第２供給管１１９から分岐し、機能液５３を第２供給管１１９外に排出する第１排出管１２１と、第１排出管１２１を開閉する第３バルブ１３１と、を有する、ことを特徴とする液滴吐出装置。 （もっと読む）

【課題】膜厚が均一な厚膜の塗布膜を形成する方法を含む半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】高粘度のレジスト３塗布によって形成された半導体ウェハ外周部分の盛り上がり部を有する第一の塗布膜上にダイナミックディスペンスにて低粘度のレジストを高回転で塗布し、盛り上がり部の膜厚を第一の塗布膜の膜厚と第二の塗布膜の膜厚の和と同程度にする。 （もっと読む）

【課題】プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減すること。
【解決手段】このプライミング処理法によれば、５回目のプライミング処理では、第１層の第１レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］をプライミングローラ１４の頂部に位置させて、スリットノズル７２の吐出口をプライミングローラ１４の頂部に対して平行に対向させ、プライミングローラ１４を静止させたままで、スリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させる。吐出されたレジスト液Ｒは、第１層の第１レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］上に着液してから周回方向で周囲に広がる。次に、プライミングローラ１４の回転を開始して、第１層の第１レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］上にレジスト液Ｒを巻き取る。 （もっと読む）

【目的】 塗布液微粒子の再付着を防止し塗布される膜厚を比較的簡単な構造で効果的に均一化することが可能な比較的小型なスピンコータを廉価に実現する。
【構成】 被塗布材である基板３を水平に保持して回転する回転テーブル１と、この回転テーブル１の周囲を覆うように構成され、基板３から飛散する塗布液を受け止めるカップ６とを備え、基板３の表面上に滴下される塗布液を基板３の表面上に遠心力で拡散させて塗布するスピンコータにおいて、カップ６の底部中心の開口部に接続されて排気を誘導する排気誘導ボックス７を設け、この排気誘導ボックス７を介してカップ６の内部の排気を行うことを特徴とする。 （もっと読む）