【課題】凹凸のあるウエハ表面にレジストを均一にむらなく形成する。
【解決手段】レジスト形成方法は、ウエハＷの中心部にレジストＲを滴下した後、またはウエハＷの中心部にレジストＲを滴下しながら、ウエハＷをウエハＷの中心軸Ｃのまわりで回転させることによって、ウエハＷの外周部に、滴下されたレジストＲの盛り上がり部を形成する第１の塗布ステップ（図（ｂ））と、第１の塗布ステップに続いて、ウエハＷを中心軸Ｃのまわりで回転させながら、レジストＲの滴下位置を中心部からウエハＷの外周部に向けて変化させて、ウエハＷにレジストＲを滴下する第２の塗布ステップ（図（ｃ））と、を有している。 （もっと読む）

【課題】 工程の簡略化とレジスト膜の膜厚分布の均一化とを両立させるとともに、ウェーハの大口径化にも対応できる塗布膜コーティング装置を提供する。
【解決手段】 音速ノズルより、ウェーハの裏面に向かってガスを噴出させる。ウェーハの裏面に沿って外周側へと流れるガスの流速が、ウェーハの裏面と第２カップとの間で速められ、ベルヌーイ効果により保持される。これによって、ウェーハのバタツキが抑えられる。また、裏面へレジスト液が回り込むのを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】一般に有機系の液体が適用されて環境への影響が懸念される酸化防止液を、廃液量を極力少なく抑えた上でウェハ表面の全面に均一に塗り、各処理工程中に待機状態にあるウェハの表面酸化を抑制し、さらには処理後の製品ウェハを、表面を保護した状態で格納する表面劣化を防止する塗布装置、塗布方法、研磨洗浄装置及び研磨洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は上記目的を達成するために、酸化防止液供給部材３８をウェハＷに近接又は接触させて相対的に移動させるとともに酸化防止液供給部材３８の上部に供給された酸化防止液を、酸化防止液供給部材３８に沿ってウェハＷに塗る酸化防止液供給手段６Ｃを有し、酸化防止液供給部材３８と酸化防止液との界面張力又は毛細管現象を利用することによりウェハＷに酸化防止液を塗る表面劣化を防止する塗布装置、塗布方法、研磨洗浄装置及び研磨洗浄方法を提供するものである。 （もっと読む）

【課題】塗布領域に塗布液を精度良く塗布する。
【解決手段】ノズルを保持するノズルホルダ５をＸ方向に往復移動させながらノズルから塗布液を吐出させて往動塗布軌跡と復動塗布軌跡とを基板１の非塗布領域に形成し、これらの塗布軌跡をＣＣＤカメラ６１，６２で撮像する。制御部３は、その撮像に基づき往動塗布軌跡と復動塗布軌跡とのＹ方向におけるズレ量を算出し、このズレ量に基づき補正移動量を算出し、記憶部６４に書き込む。そして、制御部３はテーブル移動機構２１を制御して、往動吐出と復動吐出との切換ごとに、基板１をＹ方向に補正移動量ずつ移動する。 （もっと読む）

【課題】 ウエハ基板（１０）の両面に感光剤を同時に塗布することができるようにするとともに、ウエハ基板（１０）の凹凸または貫通穴に対しても感光剤を薄く均一に形成することができる感光剤塗布方法を提供する。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト塗布方法は、表面を有するウエハ基板（１０）を塗布チャンバ（６０、７０，１０５）内で保持する保持ステップと、基板を表面に平行な軸（６２、７２，１１４）を中心に回転させる回転ステップと、塗布チャンバ内のウエハ基板（１０）に感光剤（ＰＲ）を塗布する感光剤塗布ステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】撥水性、非粘着性及び耐久性に優れた皮膜を有する部材及び該皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】合金鋼、炭素鋼、鋳鉄、アルミニウム、アルミニウム合金等の金属基材又はセラミックス基材表面に、アミノ基含有シラノール誘導体を０．１ー１０容量含む溶液をはけ塗り法、カーテンコート法、遠心塗布法、ディピング法、スプレー法等で塗布することにより形成された皮膜を有するプレス金型用部材、インジェクション金型用部材、ゴム成形用金型部材、樹脂成形用金型部材等の部材。 （もっと読む）

【課題】 比誘電率が３．０以下と小さく、しかもヤング弾性率が３．０ GPa以上の被膜強度を有する低誘電率非晶質シリカ系被膜を基板上に安定的に形成する方法に関する。
【解決手段】 （ａ）テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（TAAOH）の存在下で加水分解して得られる有機ケイ素化合物の加水分解物を含む液状組成物を基板上に塗布する工程、（ｂ）前記基板を装置内に収納し、該基板上に形成された被膜を２５〜３４０℃の温度条件下で乾燥する工程、（ｃ）前記装置内に水蒸気を導入し、前記被膜を１０５〜４５０℃の温度条件下で加熱して加熱処理する工程、および（ｄ）前記装置内に窒素ガスを導入して、前記被膜を３５０〜４５０℃の温度条件下で焼成する工程を含む各工程で少なくとも処理することを特徴とする低誘電率非晶質シリカ系被膜の形成方法。 （もっと読む）

再循環スピンコーターシステムは、スピンコーティングボウルを備え、このスピンコーティングボウルは、再循環排液口、およびこのスピンコーティングボウルの内側壁の上端に付随する湿潤流体チャンバを備える。この湿潤流体チャンバは、側壁湿潤流体を、このスピンコーティングボウルの内側壁に分配するように構成されている。映像システムは、品質管理および加工片の位置決めのために、スピンコーティングボウル内の加工片の画像を捕捉するように構成されている。光源の環状アレイが、スピンコーティングボウルの面を囲み、そして光学制御のためにスピンコーティングボウルの内部を照射するように構成されている。映像システムは、品質管理と加工片位置決めとの両方のために利用され得る。コーティングノズルは、加工片と垂直に整列した第一のコーティング位置と、再循環排液口と垂直に整列した第二のパージ位置との間で移動するように構成されている。
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【課題】ウェハの表面にレジスト液を塗布する塗布処理において、塗布液の省液化を図る。
【解決手段】先ず、ウェハがスピンチャックに保持される（Ｓ１）。その後、ウェハＷが回転され（Ｓ２）、その回転されたウェハの表面に液体窒素が供給される（Ｓ３）。この液体窒素の供給は、冷却用ノズルから液体窒素を吐出した状態で、冷却用ノズルをウェハの表面の外周部上から中央部上まで移動させることにより行われる。この液体窒素の供給により、ウェハを周辺エアの露点温度以下に冷却し、ウェハの表面に水分を結露させることができる。その後、ウェハの表面にレジスト液が塗布される（Ｓ４）。 （もっと読む）

【課題】ウエーハの表面に樹脂による保護被膜を均一な厚さに被覆することができる保護被膜の被覆方法を提供する。
【解決手段】ウエーハの加工面に樹脂による保護被膜を被覆する保護被膜の被覆方法であって、ウエーハをスピンナーテーブルに加工面を上側にして保持する工程と、ウエーハの加工面の中央領域に所定量の液状樹脂を滴下しスピンナーテーブルを第１の回転速度で回転させて滴下された液状樹脂をウエーハの加工面の全面に拡散させ被膜を形成する下塗り工程と、液状樹脂下塗り工程が実施されウエーハの加工面に形成された被膜の中央領域に所定量の液状樹脂を滴下しスピンナーテーブルを第１の回転速度より低速の第３の回転速度で回転せしめる上塗り工程と、液状樹脂上塗り工程を実施した後にスピンナーテーブルを第３の回転速度より高速の第２の回転速度で回転させてウエーハの加工面に被覆される被膜の厚さを調整する仕上げ工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】被処理基板上に付着するパーティクルを減少させることができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】溶媒を含む膜を塗布したウエハ（被処理基板）１５を枚葉で加熱処理する基板処理方法であり、ウエハ１５上に所定流量の気体を流しながら、加熱された熱板１６とウエハ１５を近接して配置することにより所定時間、ウエハ１５を加熱する。この加熱処理後、ウエハ１５上に塗布された前記溶媒を含む膜に含まれる物質の昇華温度以上に加熱した気体をウエハ１５上に流しながら、前記溶媒を含む膜に含まれる物質の昇華温度より低い温度にウエハ１５を冷却する。 （もっと読む）

【課題】 装置構成を大幅に複雑化させることなく、塗布膜形成装置で溶剤を使用する全ての用途において、最適な特性を有する溶剤を供給できる溶剤供給機構を提供する。
【解決手段】 レジスト塗布処理装置１００は、レジストに対して高い溶解性を示す高溶解性の溶剤Ａ、高揮発性の溶剤Ｂ、低揮発性の溶剤Ｃ、低表面張力性の溶剤Ｄを貯留する溶剤タンク５５ａ〜５５ｄを備えている。２つ以上の溶剤タンク５５ａ〜５５ｄから所定の比率で供給された溶剤は、スタティックミキサー５４で十分に混合された状態となって、プリウエットノズル５０等の目的の溶剤使用部へ向けて送液される。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントを行うために、基板表面に極めて薄く、均一な厚みの樹脂膜を効率的に形成する。
【解決手段】基板Ｓをスピンドル１にインクジェット手段１０を対向配設し、インクジェット手段１０は、軸部１１の下端部に装着され、水平方向に配設され、基板Ｓの直径以上の長さを有する杆状のノズル本体１２を有し、このノズル本体１２に多数の噴射口１３が形成され、各噴射口１３は樹脂液通路１４に通じており、スピンドル１により基板Ｓを回転させる間に、圧電素子１６をアクチュエータとして可撓膜部１５を押圧することによって樹脂液滴を表面に噴射させる。圧電素子１６は制御回路１７により樹脂液滴の噴射間隔が制御され、基板Ｓの内周側に位置する噴射口１３からの樹脂液滴の噴射間隔は長く、外周側に向かうに応じて噴射間隔を短くするように制御する。 （もっと読む）

【課題】基板に処理液を吐出するノズルを洗浄するノズル洗浄装置において、基板処理に不具合が生じないようノズル先端を効率的に洗浄し、且つ装置コストを低減することのできるノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、ノズル洗浄プログラム、及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。
【解決手段】ノズル３０を収容し、少なくともノズル３０先端周囲の内周面が漏斗状に形成された洗浄室１と、洗浄室１の漏斗状の内周面に沿って周方向に洗浄液としての溶剤Ｔを流入する洗浄液供給手段とを備え、ノズル３０が洗浄室１内に収容された際、洗浄液供給手段２１が洗浄室１内に溶剤Ｔを所定量供給し、ノズル３０の回りを旋回する溶剤Ｔの渦が形成される。 （もっと読む）

【課題】短時間にディスク基板に対し均一な膜厚の光硬化樹脂の膜を形成する。
【解決手段】ディスク基板１０に光硬化樹脂をスピンコートする際に、弾性変形した弾性部材５４を、ディスク基板１０の円形開口１０ａから上方へ突出させることで、弾性部材５４をその復元力により展開させて、ディスク基板１０の上面側から円形開口１０ａを閉塞する。そして、弾性部材５４の上面に光硬化樹脂を供給した後に、ディスク基板１０を回転させることにより、ディスク基板１０の上面に光硬化樹脂を展延させるスピンコート処理を行う。 （もっと読む）

【課題】粘度の変化しやすい低粘度の薬液でも安定した膜厚の膜を形成する。
【解決手段】レジスト液供給部２は基板１２にレジスト液を供給する。その供給経路中において、粘度測定部５は当該レジスト液の粘度を測定する。粘度の測定は、レジスト液の供給に伴って前記経路中を移動する浮子が、一定区間を移動する時間を計測することにより行う。その結果を受け取った制御部８は、所定の膜厚の膜を形成するために必要な基板処理回転数と、粘度評価値との関係が格納されているテーブル３１を参照して、適切な基板処理回転数を特定し、モータ７の回転数を前記回転数に一致させる。以上により、レジスト液の粘度が変化しても、形成される膜の膜厚を一定に保つことができる。 （もっと読む）

【課題】本発明はこのような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、レジストを塗布し、液浸露光した後の基板を現像するにあたり、基板の裏面に付着した液が乾燥することで発生するパーティクルによる汚染を防ぐことができる塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】 液浸露光後、前記加熱処理前の基板を搬送する搬送手段と、前記基板の裏面に付着した、前記液層を形成した液を、前記基板が搬送手段に保持されている状態で検知する液検知部と、この液検知部の検知結果に基づいて基板の裏面の液除去処理を行うか否か判定する制御部と、液除去処理を行うと判定した基板の裏面の液を除去するための液除去手段と、を備えるように構成してウォータマークの形成を抑える。
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【課題】被塗布面上の異物に起因する膜厚ムラを十分に低減させることができるスピンコート装置およびスピンコート方法を提供する。
【解決手段】被塗布物９が載置され、前記被塗布物９と一体化された状態で回転されるテーブル２と、前記被塗布物９に塗布液を供給する塗布液供給手段４と、前記テーブルを回転させる回転手段５と、塗布液供給手段４内の塗布液を加熱する塗布液加熱手段６と、前記被塗布物９を加熱する被塗布物加熱手段８とを備えているスピンコート装置とする。 （もっと読む）

【課題】被塗布面上の異物に起因する膜厚ムラを十分に低減させることができるスピンコート装置およびスピンコート方法を提供する。
【解決手段】被塗布物９が載置され、前記被塗布物９と一体化された状態で回転されるテーブル２と、前記被塗布物９に塗布液を供給する塗布液供給手段４と、前記テーブルを回転させる回転手段５と、前記被塗布物９を冷却する被塗布物冷却手段８とを備えているスピンコート装置とする。 （もっと読む）

【課題】スピンコート装置の回転軸と同心円方向に発生する膜厚ムラを低減させることができるスピンコート装置およびスピンコート方法を提供する。
【解決手段】被塗布物９が載置され、被塗布物９と一体化された状態で回転されるテーブル２と、被塗布物９に塗布液を供給する塗布液供給手段４と、テーブル２を回転させる回転手段５とを備え、塗布液供給手段４が、少なくとも被塗布物９全面に対向して設けられ、テーブル２の回転軸２ａに近い領域ほど単位面積あたりの供給量を少なくした前記回転軸２ａを中心とする同心円状の供給量分布で塗布液を供給するノズル６１を有するスピンコート装置とする。 （もっと読む）