【課題】噴霧による均一な膜厚の塗装を確実に行うための方法を提供する。
【解決手段】回転する被塗装物１に対してスプレーガン３の噴霧位置が周縁部から中心に移動するにしたがって、スプレーガンの移動速度を早く移動させるとともに、回転する被塗装物の回転中心を境として一方にスプレーを遮蔽する手段４を設け、他方の被塗装面に対し、スプレーガンの吹付け距離を一定として噴霧塗装を行うようにしたものである。また前記の遮蔽する手段は、スプレーガンの移動と同期してその端部が回転する被塗装物の中心部において噴霧を遮断する制御を行い中心部の膜厚状態が調整できるようにする。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、塗布材料の均一性を確保できるとともに、調整が容易なスピン塗布装置及びスピン塗布方法を提供する。
【解決手段】基板１を支持する載置台２１、基板１上に滴下された樹脂Ｒが展延されるように、載置台２１を回転させる駆動部２３とを備える。基板１における樹脂Ｒの塗布面に対向する対面部４を備え、対面部４に、基板１の表面と対面部４との間に気体を流入させる開口部４２と、基板１の回転により生じる基板１表面の気流Ａの速度を変化させるように、基板１の周縁近傍に接近する接近部４１とを有する。 （もっと読む）

【課題】重合反応の阻害を抑制し、機械強度に優れ且つ低誘電率である層間絶縁膜を形成する方法、及び該方法に用いる前駆体溶液を提供する。
【解決手段】アルデヒド基を有するアダマンタン誘導体（１０ａ）と芳香族アミン誘導体（１０ｂ）とを含む溶液を基板上に塗布した後に、酸素を含有する雰囲気下において熱処理を行なうことにより、アダマンタン骨格とベンツオキサゾール骨格とを有する有機高分子膜（１０ｄ）よりなる層間絶縁膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】光ディスク基板表面に安定した量の色素材料を塗布することができる塗布装置及び塗布方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る塗布装置１０は、所定の量の色素材料Ｌを貯蓄可能な加圧タンク１２と、加圧タンク１２内の色素材料Ｌを所定の圧力を有する空気で押し出し、吐出させる圧空レギュレータ１３と、加圧タンク１２内の色素材料Ｌの液面高さを検出する液面計１１と、加圧タンク１２に補充するための色素材料Ｌを貯蓄するストックタンク１７と、ストックタンク１７内の色素材料Ｌを加圧タンク１２に補充する送液ポンプ１８とを備え、液面計１１によって検出された加圧タンク１２内の色素材料Ｌの液面高さが所定の高さに満たないときに、送液ポンプ１８から加圧タンク１２に補充する色素材料Ｌの量を制御する制御部３１を備えている。 （もっと読む）

【課題】乾燥時の乾燥ムラやしわ、光ディスクの変形等を防止して歩留まりを向上させる。
【解決手段】水系塗布液を塗布した塗膜を形成した被塗布面を有する他のディスク基板，情報記録層、ディスク基板を設けた基板１Ａをコンベア２７のフレーム２８に設けた支持軸３２に支持させる。第一乾燥部３６では下方の乾燥用光源３８から中赤外線を照射し、ディスク基板を内部と外部から加熱し、情報記録層を介して他のディスク基板に熱伝導し、塗膜の背面から加熱する。塗膜内に不動層ができた時点で第二乾燥部３７に切り換え、上方の乾燥用光源から直接塗膜に中赤外線を照射する。塗膜は内部及び外部から直接加熱され、短時間で一様に乾燥する。基板１Ａも下方と上方から加熱されることで変形を生じない。 （もっと読む）

【課題】 基板の表面に液膜材料をむらなく塗布することができる基板に対する液膜材料の塗布方法を提供する。
【解決手段】 基板１１の直径よりも長く、液膜材料１７を線状に吐出するノズル孔が形成されるノズル１３を、保持部材１２に保持される基板１１の上方であって、ノズル１３を基板１１の表面上に投影するとき、基板１１の回転中心を通って基板１１の直径方向に延び、両端部２６ａ，２６ｂが基板１１の外周縁よりも外側に位置するように配置し、基板１１を回転させながらノズル１３から吐出される液膜材料１７を基板１１の表面に滴下して塗布する。 （もっと読む）

【課題】選択的に塗布膜を形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板１０上の一部に撥水性樹脂からなる第１の塗布膜６０を選択的に形成し、半導体基板１０の上に塗布剤を塗布して、第１の塗布膜６０が選択的に形成された領域を除いた半導体基板１０上に第２の塗布膜６２を選択的に形成することを含む。 （もっと読む）

【課題】薄膜の膜厚をコーティング面全体に亘り均一に形成できるスピンコート装置を提供する。
【解決手段】基板の主面にコーティング材料を供給しかつ透明カバー層基板を回転してコーティング材料を延伸するスピンコート装置であって、基板を支持する回転テーブルと、透明カバー層回転テーブルに支持された透明カバー層基板の主面の周縁近傍に配置された開口を有する吸引部と、透明カバー層開口に連通する吸引手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】化学機械研磨のような高負荷プロセスを経ることなく、均一かつ高精度な塗布膜の平坦化を図れるようにした塗布膜の成膜方法及びその装置を提供すること。
【解決手段】表面に凹凸を有する被処理基板である半導体ウエハＷに対して塗布液を供給し、ウエハの表面に塗布膜を成膜する成膜方法において、塗布液の塗布膜Ｔが形成されたウエハＷを、溶剤ガス雰囲気下におくと共に、溶剤ガス雰囲気を吸引し、塗布膜の溶媒濃度と補充用の選択塗布液の濃度が一致した後に、ウエハＷと選択塗布液供給用ノズル１０を相対的に平行移動し、予め記憶されたウエハＷにおける塗布液の補充が必要な凹部にノズル１０から選択塗布液を供給する。 （もっと読む）

第１工程で基板上の液体を熱的に調整し、例えば半導体ウエハやデータ記憶メディアの上で、粘性のある液体を基板の表面上に所定の領域で均一になるように拡げ、更なる２つの工程で、スピンコートプロセス中またはプロセス前にＵＶ照射を行うための方法および装置が示されている。
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【課題】最外周部に生じる盛り上がりを抑制でき、均一な厚さの樹脂層を形成できる樹脂層形成装置および樹脂層形成方法並びに光ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂層形成装置は、スピナーテーブル２１と、センターピン２２と、１軸ロボット２３と、１軸ロボット２３に設置されるスポットＵＶヘッド２４とから構成される。スポットＵＶヘッド２４は、１軸ロボット２３の先端に設置され、基板３１の最外周の近傍に紫外線が照射されないように、基板３１の内周から外周にスポットＵＶを照射できる構造とされる。 （もっと読む）

【課題】濃度の高い色素材料を塗布する場合、液溜りの生じにくい安価な塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る塗布装置１０は、色素材料を供給するバルブ部１４と、バルブ部１４に着脱可能で、色素材料を光ディスク基板表面に付着させるノズル１２とを備え、ノズル１２の吐出先端部に小径の吐出管１２ａが形成され、該吐出管１２aの外周にフッ素加工部材１１が被覆されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、微小欠陥の発生を低減できる微細パターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、基板上に感光性レジストを塗布しレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、上記レジスト層を露光する露光工程と、上記露光工程後のレジスト層を現像液で現像する現像工程と、上記現像工程後のレジスト層をリンス液でリンスするリンス工程と、を有する微細パターン形成体の製造方法であって、上記リンス工程の際に、上記基板を鉛直軸周りに水平に回転させ、上記現像工程後のレジスト層に対して、上記リンス液をスリットノズルにより帯状に吐出し、かつ、上記スリットノズルの吐出口から吐出される上記リンス液の流速が、０．６５×１０^４〜３×１０^４ｃｍ／ｍｉｎの範囲内であることを特徴とする微細パターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】基板に厚い液状のレジストを回転塗布するときに、液状のレジストの糸引きを防止し、基板の外周部まで均一で厚い液状のレジストを塗布できるレジスト塗布方法を提供すること。
【解決手段】液状のレジスト２がウェハ１（基板）上へ吐出され、ウェハ１が回転を開始し、液状のレジスト２がウェハ１の外周端３に達するまでの時刻より前にレジスト除去液６を吐出し、基板の回転が停止するまでの間レジスト除去液６を吐出し続けることにより、液状のレジスト２を回転塗布できる限界付近の膜厚とした場合でも、液状のレジスト２の糸引きを起こらないようにしてウェハ１の外周端３まで均一な液状のレジスト２を塗布することができ、この液状のレジスト２の糸引きによって生じるゴミの発生を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 表面の凹凸の差が大きい非球面の光学面を有するハイブリッドレンズ表面にコーティング液を均一な膜厚で塗布することができるハイブリッドレンズの塗装方法を提供する。
【解決手段】 ハイブリッドレンズを５００〜９００ｒｐｍの回転数で回転させながら樹脂層に滴下したコーティング液を樹脂層表面に広げる第１回転塗布工程と、第１塗布工程後、ハイブリッドレンズを１２００ｒｐｍ以上の回転数で回転させて樹脂層に塗膜を形成する第２回転塗布工程との２段階のスピンコート法で塗装を行う。 （もっと読む）

【課題】高品質なＳｒＣｕ_２Ｏ_２薄膜を形成すること。
【解決手段】Ｓｒ（ＯＡｃ）_２、Ｃｕ（ＯＡｃ）_２・Ｈ_２Ｏ、および酢酸を調製し（１２）、これらを、混合した後に還流する（１４）。さらに、エタノールアミンを加え（１８）、続いて、溶液を濾過する（２０）。以上により得られた溶液をウェーハ上に塗布し（２４）、次いで、該ウェーハをベーキングして溶剤成分を蒸発させる（３０）。続いて、フォーミングガス中においてアニール処理を行う（３２）。酸素と窒素との混合雰囲気下においてポストアニール処理を行ってもよい（３４）。 （もっと読む）

【課題】平坦なカバー層を低コストで容易で形成することができる光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】ポリカーボネート溶解性モノマーを含むベース剤に、式（１）に示すポリシロキサンを配合して得られたポリシロキサン組成物を用いる。


（式中、Ａは式（２））


（式中、Ｒ_１は、炭素数２〜１８のアルキレン基、アルキレン基の一部が水酸基に置換された２価の基などを表わし、Ｒ_２は水素原子またはメチル基を表わす。）で表される単位、及びジメチルシロキサンとの共重合体である。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性、耐摩耗性、耐擦傷性に優れ、かつ生産性、保存信頼性の高い光ディスクに適したハードコート剤、光ディスクとその製造方法を提供すること。
【解決手段】分子内に水酸基を含有する（メタ）アクリレート化合物（Ａ）、導電性金属酸化物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および低沸点アルコール溶剤（Ｄ）を含むハードコート剤を、光ディスクのレーザ光入射側表面に、室温で回転数１０００〜７０００ｒｐｍにてスピンコート法により塗布した後、低沸点アルコール溶剤（Ｄ）を除去する工程を経ずに、紫外線照射によりハードコート剤を硬化させる光ディスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 丸型の基材を、基材支持台上面の凹部に嵌め込んで支持させ、その上面にダイヘッドで塗工する際、塗工液が基材と凹部側面との隙間を通って基材裏面に回り込むことを防止する。
【解決手段】 基材支持台１３の上面に形成した凹部１４に基材８を、その上面８ａが基材支持台１３の上面１３ａと同一面となるように支持させ、その上面にダイヘッド７で塗膜１０を形成する際、基材側面と凹部側面との間の隙間１５に、その下端に形成している溝１７ａから空気を送って隙間１５から上向きに空気を吹き出した状態としておき、塗布された塗工液が隙間１５を通って流下し基材裏面に回り込むことがないように構成する。 （もっと読む）

【課題】 記録層に色素を含有する光記録媒体であって、生産性に優れた光記録媒体の製造方法等を提供する。
【解決手段】
記録層の形成に際し、色素を含有する記録層形成用塗布液をスピンコート法により塗布して形成し、スピンコータで飛散した前記記録層形成用塗布液又は前記色素を回収し、回収した前記記録層形成用塗布液又は前記色素を前記記録層形成用塗布液の溶媒と同じ溶媒で希釈して希釈液とし、該希釈液中の前記色素の濃度を、透過スペクトルにより測定する濃度測定工程と、前記濃度測定工程における濃度をもとに不足分の前記色素または前記溶媒を加えることで前記色素の濃度を調整して色素含有液を調製する色素含有液調製工程と、前記色素含有液を前記記録層形成用塗布液として再利用する光記録媒体の製造方法等である。 （もっと読む）