【課題】 記録層に色素を含有する光記録媒体であって、生産性に優れた光記録媒体の製造方法等を提供する。
【解決手段】
記録層の形成に際し、色素を含有する記録層形成用塗布液をスピンコート法により塗布して形成し、スピンコータで飛散した前記記録層形成用塗布液又は前記色素を回収し、回収した前記記録層形成用塗布液又は前記色素を前記記録層形成用塗布液の溶媒と同じ溶媒で希釈して希釈液とし、該希釈液中の前記色素の濃度を、透過スペクトルにより測定する濃度測定工程と、前記濃度測定工程における濃度をもとに不足分の前記色素または前記溶媒を加えることで前記色素の濃度を調整して色素含有液を調製する色素含有液調製工程と、前記色素含有液を前記記録層形成用塗布液として再利用する光記録媒体の製造方法等である。 （もっと読む）

【課題】 平坦なカバー層を、低コストで容易に形成することができる光情報記録媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 記録層２を形成した基材１と、型材１１とを向かい合わせ、これらを回転させて生じた遠心力により液状の塗布剤４を基材１と型材１１の間に展延させることによって、型材１１表面に沿うカバー層を記録層２表面に形成し、次いでカバー層を型材１１から剥離させる。 （もっと読む）

【課題】
段差を有する基板上にコンフォーマル性の高い被覆膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】
段差を有する基板上に、スピンコートによって被覆膜形成用組成物の塗布膜を形成する第１工程、前記塗布膜を有する基板を加熱することによって、前記塗布膜の下層部分を硬化する第２工程、及び溶剤によって前記塗布膜の上層部分を除去する第３工程、を含む段差を有する基板上にコンフォーマル性の高い被覆膜の形成方法。段差を有する基板が、高さ／幅の値が０．１〜１である段差を有する半導体基板である。第１工程のスピンコートが、回転速度５００〜５０００（回／分）、回転時間３０〜３００秒で行う。第２工程の加熱が、温度５０〜１５０℃、時間１０〜３００秒で行う。第３工程が、前記塗布膜上に溶剤を塗布し、１〜３００秒間経過後、前記基板を回転速度５００〜５０００（回／分）、回転時間３０〜３００秒で回転することによる。 （もっと読む）

【課題】液体を効率よく基板上に塗布できる成膜方法を提供する。
【解決手段】被処理基板１８上で一定量広がるように調整された液体を液体吐出ノズルから連続的に吐出させる。液体吐出ノズルを被処理基板１８上で行方向に相対的に移動させ、被処理基板１８上の第１の領域に液体を供給する。続いて、液体吐出ノズルを被処理基板１８に対して列方向に相対的に移動させる。被処理基板１８上の第１の領域に供給され広がった液体に対して、液体吐出ノズルから供給され被処理基板１８上で広がる液体が少なくとも接続するように、液体吐出ノズルを被処理基板１８上で行方向で第１の工程とは逆の方向に相対的に移動させ、被処理基板１８上の第２の領域に液体を供給する。さらに、液体吐出ノズルを被処理基板１８に対して列方向に相対的に移動させる。 （もっと読む）

【課題】 樹脂膜の表面を乱れなく平坦にすることが可能な樹脂膜形成方法、及び光メモリの製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス基板２１上にフイルム１５ａを接着させた後、コア層用の塗布ヘッド４２ａをガラス基板２１の中央に移動させる。塗布ステージ４１を回転させた状態で、塗布ヘッド４２ａによって、フイルム１５ａ上にコア材を滴下して塗布膜１３ａを形成する。その後、ガラス基板２１を塗布ステージ４１上に固定したままの状態で、紫外線照射装置４３によって、塗布膜１３ａに紫外線を照射する。この時、紫外線照射装置４３に対して、塗布ステージ４１を左右に往復移動させながら紫外線を照射する。これにより、塗布膜１３ａに対して均一に紫外線が照射されて、塗布膜１３が硬化してコア層１３が形成される。 （もっと読む）

【課題】複数の処理液供給ノズルを一体に設けたノズルユニットを用いて基板例えば半導体ウエハへの処理液の供給を行うにあたり、ノズルユニットの大型化を抑えて各処理液供給ノズル内の処理液の乾燥を防止すること。
【解決手段】ノズルユニットの、一の処理液供給ノズル４Ａの先端内部の処理液層７１の外側に空気層７３と処理液の溶剤層７４とを形成する。次いで前記処理液供給ノズル４Ａの前記溶剤層７４を待機ユニットの液排出部に排出し、次いでこのノズル４ＡからウエハＷ表面に処理液を供給して塗布処理を行う。この後ノズル４Ａ内に残存する処理液を吸引し、次いでノズルユニットのノズル４Ａの先端を、待機ユニット６の溶剤貯留部６１Ａの溶剤内部に浸漬し、前記一のノズル４Ａを吸引することにより、当該ノズル４Ａの先端内部の処理液層７１の外側に空気層７３と溶剤層７４とを形成する。 （もっと読む）

【課題】 スピンコートによって基板上に樹脂を展延する際に、簡易な手順によって、均一な樹脂層を形成できる樹脂層形成方法及び樹脂層形成装置を提供する。
【解決手段】 ディスク用の基板Ｄが載置されるターンテーブルＡと、基板Ｄ上に接着剤を塗布する塗布部である塗布ノズルＮ１，Ｎ２と、塗布ノズルＮ１，Ｎ２に接着剤Ｂ１，Ｂ２を供給するタンクＴ１，Ｔ２とを有する。塗布ノズルＮ２は、塗布ノズルＮ１よりも外周側に配設されている。接着剤Ｂ１，Ｂ２は、タンクＴ１，Ｔ２において加圧されることにより、供給経路を介して塗布ノズルＮ１，Ｎ２に供給されるが、この接着剤Ｂ１，Ｂ２は、互いに粘度が異なっている。 （もっと読む）

【課題】噴霧供給された処理液によって、基板上に良好な塗布膜を形成することができる基板処理装置、基板処理システム、および基板処理方法を提供する。
【解決手段】塗布部１０は、主として、いわゆる二流体ノズルによって構成されるスプレーノズル１２、１５と、ノズル移動部１１と、吸着ステージ２０と、ヒータ２１と、を備える。処理液の噴霧処理では、まず、ヒータ２１によって基板９を加熱しつつ、吸着ステージ２０を回転させた状態で基板９に塗布液を噴霧供給し、基板９に塗布膜を形成する。次に、塗布膜の上に消失液を供給する。これにより、塗布膜上に球形パーティクルが顕在化した場合であっても、この球形パーティクル、および球形パーティクルの発生原因となる球形パーティクル前駆体を消失液によって消失させることができる。そのため、後工程での基板の処理不良を防止できる。 （もっと読む）

【課題】 乾燥時の塗膜の欠陥が少ない塗膜形成方法、及びプリンタブル層の乾燥時の欠陥を防止し、インクジェット印刷時の画質の改善をすることができる光ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 固形分濃度が３０質量％以下の塗布液を塗布して塗膜を形成するに際し、１回当たりの塗布厚みがウェット厚で１００μｍ未満となるように複数回に分けて重層塗布を行う塗膜形成方法、及び基板の一方の面側にレーザー光の照射により、少なくとも情報の再生が可能な情報領域を有し、他方の面側にプリンタブル層を有する光ディスクの製造方法であって、前記プリンタブル層の形成において、固形分濃度が３０質量％以下の塗布液を塗布し、ドライ厚が１００μｍ以上の塗膜を形成する工程を有し、前記塗布液を塗布して前記塗膜を形成するに際し、１回当たりの塗布厚みがウェット厚で１００μｍ未満となるように複数回に分けて重層塗布する光ディスクの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】被処理物を固定する回転台を囲うカップの内面に付着するレジストの除去を行なうに当たり、作業員によるレジスト除去作業の負担が解消されると共に、レジストの除去が必要十分な溶剤によって確実に、しかも簡単な装置の付加だけて行なえるカップ内面のレジスト除去装置とレジスト除去用治具とレジスト除去方法を提供する。
【解決手段】回転台３に脱着自在にレジスト除去用治具３１を固定する。上方より治具３１にレジストを溶解させる溶剤をノズル１２から供給する。治具３１は、ノズル１２からの溶剤を受ける筒状の受部３１ｂと、回転台３に固定する固定部３１ｃと、回転台３の回転により受部３１ｂに溜まる溶剤を遠心力により２２カップの内面に噴出させる噴出部３１ｄを有する。 （もっと読む）

【課題】 塗布液に空気が混入することを防止でき、塗布に供される塗布液の無駄を抑えて、効率良く塗布を行うことができるブレード塗布装置及びブレード塗布方法を提供する。
【解決手段】 塗布液を供給する塗布液供給部と、平面基板に配置させた状態で、該平面基板の上面を露呈させる開口が形成されたマスク部材と、マスク部材の上面側に配置され、上面に対して平行に駆動されることで、供給された塗布液を、開口から露呈した平面基板に塗布する長尺状の塗布部材とを備え、マスク部材に余剰の塗布液を貯留する溝部と、溝部に沿って立設された壁部とが形成され、壁部の側面には、塗布部材によって塗布液が溝部に掻き込まれた際に、塗布液が壁部を越えることを規制する突出部が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 塗布液に空気が混入することを防止できるとともに、塗布液を効率良く使用することができるブレード塗布装置及びブレード塗布方法を提供する。
【解決手段】 平面基板に塗布液を供給する塗布液供給部と、平面基板に配置させた状態で、該平面基板の上面を露呈させる開口が形成されたマスク部材と、マスク部材の上面側に配置され、上面に対して平行に駆動されることで、供給された前記塗布液を、開口から露呈した前記平面基板に塗布する長尺状の塗布部材とを備え、マスク部材に余剰の塗布液を貯留する溝部と、溝部に貯留した塗布液を回収して塗布液供給部に送る回収液送出部とが設けられている。 （もっと読む）

【課題】 どこにもカスレのない良好な均一厚みの塗布層のディスクＤを塗布液を無駄にしない有効利用えきるブレード塗布方法およびその装置を提供する。
【解決手段】 塗布液を円板状平面基板の表面にブレードによって塗布するブレード塗布方法であって、平面基板の全面に塗布液を塗布するための大きな開口を有するマスクを平面基板に重ね合わせた状態でブレードを平面基板と所定の間隔を保ちながら上流側から下流側へ移動させ、ブレードの上流側に供給された塗布液をブレードで移動させながら、ブレードの下流のギャップからマスク上に塗布液を流出させて塗布層を層設する塗布方法において、複数のブレードを用い、第1のブレードが塗布を行った後に、該第1のブレードが待避すると共に、第２のブレードが逆方向に次の塗布を行なうようにする。 （もっと読む）

【課題】 塗布液の反応が抑制されて、品質が安定し、また塗布液を乾き難くして、簡略な回収制御系で効率的な生産が可能なスピンコーター塗布方法を提供する。
【解決手段】スピンコーター内の処理雰囲気をｐＨ＜６以下の酸性の水によって湿度を６０％以上に加湿した状態下で、塗布液を被塗布体にスピンコート塗布を行うようにし、その際、前記酸性の水が前記塗布液の酸性の溶媒成分の少なくとも１種以上を含む水とした。 （もっと読む）

【課題】 ディスクＤの塗布層のどこにも厚みムラのない良好な均一厚みの塗布層が得られるブレード塗布方法および装置を提供する。
【解決手段】 塗布液を円板状平面基板の表面にブレードによって塗布して該平面基板上の塗布面に塗布層を形成するブレード塗布方法であって、該平面基板の周縁部位を除く全面に塗布液を塗布するための大きな開口を有するマスクを平面基板に重ね合わせた状態でブレードを平面基板と所定の間隔を保ちながら上流側から下流側へ相対移動させ、ブレードの上流側に供給された塗布液をブレードで移動させながら該ブレードの下流のギャップからマスク上に塗布液を流出させて塗布層を層設する塗布方法において、ブレードの上流側に供給する塗布液を、ブレードの長さ方向の中央部に多くし、両端部に近づくにつれて少なくする。 （もっと読む）

【課題】 非処理領域を覆う膜パターンを形成するための液滴の一部分が、処理対象領域に付着することを抑制できる、膜パターン形成方法、及び弾性表面波デバイスの製造方法、並びに弾性表面波デバイス、弾性表面波発振装置、及び電子機器を実現する。
【解決手段】 本発明による膜パターン形成方法及び弾性表面波デバイスの製造方法は、移動方向の変更を伴わない連続する相対的移動の間に、吐出ノズル４からウェハ１に向けて陽極酸化レジスト膜材料の液滴吐出を実行する吐出走査工程において、吐出ノズル４を塗布禁止領域であるＩＤＴ４４に対向させないことを特徴とする。弾性表面波発振装置は、当該方法で製造された弾性表面波デバイスを備え、電子機器は、当該弾性表面波波発振装置を備える。 （もっと読む）

【課題】 塗布液に空気が混入することを防止できるとともに、塗布液を効率良く使用することができるブレード塗布装置及びブレード塗布方法を提供する。
【解決手段】 平平面基板に配置させた状態で、該平面基板の上面を露呈させる開口が形成されたマスク部材と、マスク部材の上面側に配置され、上面に対して平行に駆動されることで、供給された塗布液を、開口から露呈した平面基板に塗布する長尺状の塗布部材とを備え、マスク部材に余剰の塗布液を貯留する溝部が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 容器内でミストが滞留することを抑制できる塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る塗布装置は、半導体基板１を載置するステージ２０とステージ２０を回転させるモーター２４と、ステージ２０を内側に含むカップ状の容器１０と、容器１０の底面に設けられた排気口１０ｂと、ステージ２０に載置された半導体基板１上に薬液を供給する薬液供給部１２とを具備する。ステージ２０の底面から容器１０の底面までの距離は、ステージ２０の側面２０ａから容器１０の内側面１０ａまでの距離より短い。 （もっと読む）

【課題】 樹脂を基板表面に塗布する際に塗布ムラの発生を防止した塗布方法を提供する。
【解決手段】回転塗布装置のコータカップ１８内の湿度を４０〜５０％に維持し、基板１０を保持部１２に保持させ、有機溶剤を基板上に所定量吐出させてから回転数２０００ｒｐｍで回転させる。このとき有機溶剤の蒸発により基板表面の温度が低下し、結露水が生成される。有機溶剤を均一に塗布させていたため基板面に均一に付着し、この状態でレジストをノズル２０から滴下させる。 （もっと読む）

【課題】 成膜用液体の跳ね返りに起因した、成膜用液体を吐出する液体吐出ノズル先端の形状変化を抑制することができる塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る塗布装置は、半導体ウェハ１を保持するウェハ保持部１２と、ウェハ保持部１２を回転させる動力源１４と、ウェハ保持部１２に保持された半導体ウェハ１上に成膜用液体を吐出する液体吐出ノズル３０ａと、液体吐出ノズル３０ａが待機するノズル待機部２０とを具備する。液体吐出ノズル３０ａは、ノズル待機部２０で待機しているときに成膜用液体をダミー吐出する。ノズル待機部２０は、液体吐出ノズル３０ａからダミー吐出された成膜用液体を受ける容器２２と、容器２２内かつ液体吐出ノズル３０ａの下方に配置され、上面が傾斜している傾斜部材２４とを具備する。 （もっと読む）