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Fターム[4D075DA08]の内容

Fターム[4D075DA08]に分類される特許

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【課題】円形の基板の周縁部に塗布液を塗布してリング状の塗布膜を形成するにあたり、その幅を均一性高く形成することができる技術を提供すること。
【解決手段】基板の回転及びノズルからの塗布液の供給を行いながら、塗布液の供給位置を基板の外側から基板の周縁部に向けて移動させ、当該基板を平面で見たときにその角度が10°以下である楔型に塗布液を塗布し、次いで、基板の回転及び塗布液の供給を続けたままノズルの移動を停止し、基板の周縁部に沿って帯状に塗布液を塗布し、この帯状に塗布された塗布液の端部を前記楔型に塗布された塗布液に接触させ、基板の全周に亘って塗布液を塗布する。 (もっと読む)


【課題】 基板の周辺領域にレジスト等の樹脂膜を効率良く形成することができ、半導体素子製造におけるスループット向上に寄与する。
【解決手段】 素子形成に供される基板10上の周辺部に樹脂膜を塗布する塗布装置であって、基板10が載置され、少なくとも180度回転可能な回転テーブル32と、基板10の中心を通る第1の方向(X方向)軸で2分割された第1の基板周辺領域及び第2の基板周辺領域の一方に相当する円弧に沿って樹脂を吐出するための複数のノズルを配置してなり、該ノズルが基板10の周辺領域に対向するように設置される樹脂膜形成ヘッド部50と、基板10と樹脂膜形成ヘッド部50を相対的に、第1の方向とは直交する第2の方向(Y方向)に移動させる移動機構45とを備えた。 (もっと読む)


【課題】非常に低水準のポリマーコーティング添加剤で、より広いプロセシングウィンドと限られたまたは観察出来ないストリエーションを有するスピンオン誘電体処方を提供する。
【解決手段】本発明は、(a)有機溶媒に分散性を有するオリゴマーまたはポリマーで、低誘電率を有するか、硬化性を有し低誘電率を有する材料を形成する、(b)一以上の有機溶媒および(c)全組成物の重量に対して1000ppm未満のポリマーコーティング添加剤を含む組成物に関する。ポリマー添加剤は、成分(a)と溶媒系に相溶性であるが、コーティングプロセスの際に成分(a)および溶媒の混合物に不相溶となる。 (もっと読む)


【課題】塗布膜を形成する方法において、基板外周部の塗布膜の膜厚を制御し、基板の有効領域を拡大することが可能な塗布膜形成方法を提供する。
【解決手段】実施形態の塗布膜形成方法は、基板を回転させる工程(S102)と、回転する基板上に塗布膜形成用の薬液を供給する工程(S104)と、回転する基板上に前記薬液を供給して成膜を行いながら、前記基板の雰囲気温度よりも低い温度の液体を前記基板の裏面側から前記基板の端部に供給する工程(S106)と、を備える。 (もっと読む)


【課題】鋭利な端部形状を有するウェハーの面に、その端部に面取り加工などの追加加工を施さないで、ウェハーの最外周部までレジストの未塗布部や極めて薄い部分を発生させることなくレジストを塗布することができる、スピンコート法によるレジスト塗布方法を提供する。
【解決手段】通常のレジスト塗布のための回転ステップに続けて、その回転数および回転時間として、回転停止時のウェハー最外周部のレジスト厚を所望値以上に維持できる遠心力を最外周部レジストに発生させるための回転数および回転停止時のウェハー最外周部のレジスト厚を所望値以上に維持できる最外周部レジストの乾燥状態を得るための回転時間であり且つ紐状レジスト汚染を発生させない回転数および回転時間を有する回転ステップを備えている。 (もっと読む)


【課題】液処理装置の大型化の抑制、ノズルの洗浄効率の向上を図れるようにする。
【解決手段】漏斗部65を有する洗浄室62と、洗浄室の漏斗部に溶剤を供給する第1の溶剤供給手段71と、洗浄室の漏斗部の上部側に溶剤を供給する第2の溶剤供給手段72と、ノズルを、洗浄室と基板に対して処理液を吐出する位置との間で移動させる移動手段44,46と、第1及び第2の溶剤供給手段、及び移動手段を制御するコントローラ100と、を具備する。ノズルが洗浄室内に収容された際、第1の溶剤供給手段から洗浄室内に溶剤を供給し、溶剤の渦流を形成してノズルを洗浄し、第2の溶剤供給手段から洗浄室内に供給し、洗浄室内に溶剤の液溜りを形成してノズルを洗浄する。 (もっと読む)


【課題】基板縁部の状態を簡単に早く検出することが出来る基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板検査装置100は、表面に膜を塗布した基板Wを保持し回転する回転テーブル5と、基板Wに光を照射する光照射手段2と、光照射手段2による基板W表面からの正反射光を受光し、撮像画像の信号出力する光電変換手段4と、を備える。そして、基板Wの回転中心を含んで回転中心から半径方向の一走査分の電気信号の回転手段一周分の検出値を加算して二次元画像を生成し、二次元画像の一方向に沿って設定された判定バンドから変化点を判断する。したがって、基板W上においてEBR線の良否を簡単に判断することができ、処理効率の良い検査が可能になる効果を奏する。 (もっと読む)


【課題】ノズル流路の残圧を素早く減少させてエッジ部の膜厚形状を制御することが可能な塗布装置及び塗布方法の提供。
【解決手段】実施形態の塗布装置は、塗布対象物が載置される載置面を有するステージと、前記ステージを前記載置面に沿う回転方向に回転させる回転機構と、前記ステージ上の前記塗布対象物に材料を吐出して塗布する塗布ノズルと、前記ステージと前記塗布ノズルとを前記回転方向に交わる交差方向に前記載置面に沿って相対移動させる移動機構と、前記塗布ノズルに材料を供給する供給部と、前記材料を排出する排出部と、前記供給部、前記塗布ノズル、及び前記排出部を連通する連通管と、前記連通管における前記材料の流れを切り替える切替機構と、前記連通管の排出側の高さを調整する排出高さ調整機構と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】媒体の接着面同士が貼り合わされる場合において、適切な接着力を確保しつつ接着剤の塗布量を抑える。
【解決手段】ドット群が島状に配置される奇数用の糊形成パターンと、奇数用の糊形成パターンの各ドット群と対称的な位置にドット群が島状に配置される偶数用の糊形成パターンAとを設定し、設定した奇数用の糊形成パターンが奇数枚目の用紙の接着面に形成されるよう糊吐出ヘッドを制御し、設定した偶数用の糊形成パターンAが偶数枚目の用紙の接着面に形成されるよう糊吐出ヘッドを制御する。これにより、両接着面の全面に均一に糊を塗布するものに比して糊の塗布量を抑えることができ、また、両接着面の塗布領域を重ねることができるから、適切な接着力を確保しつつ糊の塗布量を抑えることができる。 (もっと読む)


【課題】薄膜成膜装置および薄膜成膜方法において、ウエットプロセスによって薄膜を成膜する際に、成膜の繰り返しにおける膜厚ばらつきを抑制することができるようにする。
【解決手段】被成膜体50上に液状の成膜材料11を供給し、被成膜体50を回転させて成膜材料11による薄膜を形成する薄膜成膜装置1として、被成膜体50を保持して回転させる回転保持部2と、回転保持部2の回転によって被成膜体50上で薄層化される成膜材料11に測定光Lを照射して、成膜材料11を含む被成膜体50の透過率、反射率のうちの少なくとも一つからなる光学特性値を測定する光学特性測定部と、光学特性測定部で測定された光学特性値が予め記憶された薄膜の目標膜厚に対応する目標値に達したときに回転保持部2の回転駆動を停止する制御ユニット6と、を備えるものを用いる。 (もっと読む)


【課題】基板の下面を効率良く洗浄することができる液処理装置を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置(10)は、基板保持機構に保持された基板(W)の下面の下方に位置して基板の下面に処理液を吐出するノズル(60)を備える。ノズルは基板の中央部に対向する位置から基板の周縁部に対向する位置の間に配列された複数の第1の吐出口(61)を有している。第1吐出口は、基板の下面に向けて吐出される処理液の吐出方向が基板の回転方向の成分を持つように形成されている。 (もっと読む)


【課題】塗布膜を基板の面内に均一に形成することができる技術を提供すること。
【解決手段】基板の表面にノズルから基板の中心部に塗布膜を形成するための塗布液を供給すると共に、第1の回転速度で基板を回転させて、塗布液を基板の周縁部に遠心力によって広げ、次いで、前記塗布液の供給を続けたまま、当該基板の中心部側の液膜を周縁部側の液膜に比べて盛り上げて、液溜まりを形成するために、前記第1の回転速度よりも小さい第2の回転速度で基板を回転させた状態で塗布液の供給位置を基板の中心位置から前記偏心位置に向けて移動させ、次いで、液溜まりの厚さを大きくして、ノズルの液切れ時に当該液溜まりに垂れる液滴を馴染ませるために、基板の回転速度を前記第2の回転速度よりも小さい第3の回転速度に減速させた状態で、ノズルから前記偏心位置への塗布液の供給を停止する。 (もっと読む)


【課題】支持基材上に基材を仮固定して基材を加工する際に、これら支持基材と基材との間に仮固定剤を用いて均一な膜厚の薄膜を形成して精度に優れた基材の加工を行い得る基材の加工方法を提供すること。
【解決手段】本発明の基材の加工方法は、仮固定剤を基材および支持基材のうちの少なくとも一方にスピンコート法を用いて供給したのち乾燥させて薄膜を形成する第1の工程と、薄膜を介して、基材と支持基材とを貼り合わせる第2の工程と、基材の支持基材と反対側の面を加工する第3の工程と、薄膜を加熱して樹脂成分を熱分解させることで、基材を支持基材から脱離させる第4の工程とを有し、第1の工程において、仮固定剤の粘度(25℃)を3000〜30000mPa・sとし、かつ仮固定剤を供給する基材および/または支持基材の回転数を400〜4000rpmとすることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】スピンコーティング法において基板上に形成される塗布膜の膜厚について高い面内均一性が得られる技術を提供すること。
【解決手段】ウエハWの面内の膜厚分布は、レジスト液の種類及びウエハWの回転数の推移パターンを含む処理レシピに応じて決まる。そこで、予めLED41の照射を含まない処理レシピを用いてウエハWにレジスト塗布処理を行い、このウエハWの面内の膜厚分布を求める。このようにして、ウエハWの面内の膜厚分布における凹部8を事前に把握しておき、その上で、この膜厚分布における凹部8の位置にLED41を照射してウエハW上の当該部位を局所的に加熱する。 (もっと読む)


【課題】ウェハ外周部でレジストが薄膜化するのを抑制しつつ、レジストの消費量を低減することが可能な薄膜塗布装置および薄膜塗布方法を提供する。
【解決手段】ウェハW上には、レジストRから気化した溶剤をウェハWの外周部で飽和状態にさせる気化遮蔽プレート5が設けられており、気化遮蔽プレート5とのウェハWと間隔は、レジストRから気化した溶剤がウェハWの外周部で略滞留し飽和状態を形成するように近接して設定する。 (もっと読む)


【課題】インクジェット方式の技術を用いた傾斜機能材料の製造方法、装置を提供する。
【解決手段】 Cuナノ粒子を含むCuインクをインクジェットヘッド50Cuから吐出されるCuナノ粒子インクの量と、インクジェットヘッド50Auから吐出されるAuナノ粒子を含むAuインクの量との比率を決定し、決定された比率にしたがってヘッド50Cu、ヘッド50Auからインクを吐出させて1つの層を形成し、基材上に複数の層を積層して積層体を得る積層させ、最下層から最上層へ向かってCuインクの吐出量比率が減少するとともにAuインクの吐出量比率が増加し、かつ、Auインクに対するCuインクの相対的な吐出量比率が小さくなり、Cuインクに対するAuインクの相対的な吐出量比率が大きくなるように、Cuインクにおける各層間の吐出量、Auインクにおける各層間の吐出量、CuインクとAuインクとの各層間の相対的な吐出量比率を決定する。 (もっと読む)


【課題】高い膜厚均一性を有するカラーレジスト膜を基板上に形成することが可能なレジスト塗布装置およびレジスト膜形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態によるレジスト塗布装置は、基板の中央部における温度よりも基板の周辺部における温度が高くなるように基板の温度を調整するよう構成された基板温度調整部と、中央部よりも周辺部において温度が高くなるように基板温度調整部により温度調整された基板上にカラーレジスト液を供給するカラーレジスト液供給部と、カラーレジスト液が供給された基板を回転する基板回転部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】塗布対象物に接着剤の塗布膜を所望する膜厚で形成する。
【解決手段】半導体装置の製造装置1は、塗布対象物Wの塗布面に紫外線を照射する照射部5と、照射部5により紫外線が照射された塗布面に接着剤を塗布する塗布部6とを備え、照射部により紫外線が照射された塗布面に接着剤を塗布する。また前記塗布対象物を支持するハンドを有し、前記ハンドにより前記塗布対象物を搬送する搬送部をさらに備え、前記照射部は、前記搬送部により移動する前記塗布対象物の前記塗布面に前記紫外線を照射する。前記照射部は、前記紫外線を発生させるランプと、前記ランプによって発生する前記紫外線の光量を検出する検出器と、前記検出器によって検出された前記紫外線の光量に基づいて前記塗布面に対する照射光量を設定値に維持するように調整する調整手段とを具備する。 (もっと読む)


【課題】塗布液の省量化及び装置の小型化を図り、基板である半導体ウエハW上の塗布膜の膜厚について高い均一性を得ること。
【解決手段】ウエハWを基板保持部であるスピンチャック2に略水平に保持させ、塗布ノズル4の吐出口41を、前記ウエハWに対して近接させた状態で相対的に移動させながら、前記吐出口41から毛細管現象により塗布液を引き出してウエハWに塗布する。毛細管現象を利用して塗布液を塗布しているので、塗布液の省量化及び装置の小型化を図ることができる。この後ウエハW上の塗布液がウエハWから飛散しない回転数で当該ウエハWを回転させることにより、ウエハW上の塗布膜の膜厚の面内均一性を向上させる。 (もっと読む)


【課題】液滴ディスペンシング装置及び有機電界発光素子用の発光物質塗布方法を提供する。
【解決手段】対角線方向への液剤の吐出を容易に行え、大型化された基板にも適用容易にするために、(i)パターニング対象体の移動方向である第1方向、及びこれと交差する第2方向に、それぞれ移動自在に構成された第1移動ユニット15、16及び第2移動ユニット11、12、(ii)第2移動ユニットに装着されるディスペンシング・ユニット、及び(iii)第1方向及び第2方向に平行な仮想面上で、第2移動ユニットを、第1移動ユニットに対して回転させるように、第1移動ユニットと第2移動ユニットとの間に装着される第3移動ユニット13、14を具備する液滴ディスペンシング装置10、及びこれを利用した有機電界発光素子用の発光物質の塗布方法を提供する。 (もっと読む)


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