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Fターム[4D075DB13]の内容

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Fターム[4D075DB13]に分類される特許

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【課題】効率よく基板上に安定して均一に成膜する。
【解決手段】筐体と、成膜材料の溶液と圧縮ガスとを混合して成膜材料を微粒子化したミストを筐体の内部に噴霧する複数のスプレーノズル12とを備える。また、圧縮ガスを圧力の異なる複数の調圧ガスに調整し、複数のスプレーノズル12の各々に複数の調圧ガスのいずれかを導入し、かつ、複数の調圧ガスのすべてを複数のスプレーノズル12に対して導入するガス圧調整機構を備える。 (もっと読む)


【課題】ガラス表面に対し表面品質を判定するための方法を提供する。
【解決手段】判定方法はガラス表面にわたり液滴分配装置を用いて液滴パターンを被着する工程を含む。隣り合う液滴は所定の被着径及び所定の被着間隔を有する。液滴パターンに対する液滴情報が撮像装置を用いて生成される。液滴情報を解析することによって指定範囲不一致状態が検出され、指定範囲不一致状態の表示が提供される。液滴がインクを含み、前記液滴分配装置はインクジェットプリントヘッドユニットを含み、前記液滴はそれぞれ、約1ピコリットルと約80ピコリットルの間の所定の体積を有することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】薄膜形成材料の滞留による膜厚ばらつきを簡単に低減することができ、気流発生装置を不要とした簡単な構造の薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】被成膜体7を保持した状態で回転するホルダ2と、被成膜体7の被成膜面7aに液状の薄膜形成材料9を供給する材料供給部8と、ホルダ2に立ち上がり状に設けられて被成膜体7の周囲に配置され、ホルダ2の回転と一体回転して被成膜体7の周囲に負圧を生じさせる複数の羽根体3とを備える。 (もっと読む)


【課題】マスクを必要とせず、基板との密着性を有し、かつ、所定の電気的性能を有する導電性パターンを形成しうる、導電性パターン形成方法及び導電性パターン形成システムを提供する。
【解決手段】少なくとも、導電性ポリマーを含有する第1パターン、導電性ポリマー及び金属ナノ粒子を含有し、第1パターンに対して導電性ポリマーの含有比率を減少させ、金属ナノ粒子の含有比率を増加させた第2パターン及び第2パターンに対して導電性ポリマーの含有比率を減少させ、金属ナノ粒子の含有比率を増加させた第3パターンを含み、厚み方向について、基材(1)から導電性ポリマーの含有比率を減少させつつ、金属ナノ粒子の含有比率を増加させた傾斜組成を有する導電性パターン(3,4)を形成する。 (もっと読む)


【課題】各種基材との密着性が良好で、かつ基材表面に、耐水性、防曇性、防汚性、及び耐候性に優れる親水性表面を付与することが可能な、組成傾斜構造を有する親水性部材を提供すること。
【解決手段】基材と、該基材上に設けられ、下記材料1)及び材料2)を含む膜とを有する親水性部材であって、該膜が膜の厚み方向において前記基材に最も近い側から最も遠い側に向かって材料1)の比率が大きくなり、かつ、材料2)の比率が小さくなるように、材料1)及び材料2)の組成が連続的に変化する組成傾斜膜である、親水性部材。
1)酸化チタンを含有する平均一次粒子径が5nm以上1μm以下の粒子、及びシロキサン化合物を含有する親水性材料
2)ウレタンオリゴマー又はポリマーを含有する樹脂材料 (もっと読む)


【課題】樹脂硬化に伴う樹脂の収縮は、接着部材のずれ、ゆがみ、片方の外れ、接着不良等の不具合が発生する場合がある。精密部品や光学部品の固定には小さな収縮率でも、光軸のずれなどが起りトラブルの原因となっている。
【解決手段】接着用樹脂を硬化させながら、その収縮を測定することにより樹脂の収縮率を把握する。収縮率が把握できると、あらかじめ樹脂収縮を加味して部品配置の設計が可能となる。また、原因を推察する上での基礎資料となり、トラブル解消が短縮される。 (もっと読む)


【課題】基板上に塗布されたインクの乾燥ムラを抑制する。
【解決手段】本発明の一形態に係るインクジェット塗布装置は、第1のヘッド群12Aと第2のヘッド群12Bとを有するインクヘッドモジュール12を備える。第1のヘッド群12Aは、基板Sの表面全域をX軸方向に沿って配列された複数列の領域R1〜R6で区画したときに、所定の第1の領域群(R1,R3,R5)にインクの液滴を塗布する。第2のヘッド群12Bは、第1のヘッド群12Aに対してY軸方向に所定距離(H)オフセットした位置に配置され、上記複数列の領域のうち残余の第2の領域群(R2,R4,R6)にインクの液滴を塗布する。このとき、第1のヘッド群12Aからの液滴が基板S上に着弾してから、第2のヘッド群12Bからの液滴が基板上に着弾するまでの時間が所定時間以内となるように、基板Sを支持するステージ11の移動が制御される。 (もっと読む)


【課題】高粘度の塗布液を、無駄なく均一に基板上に塗布する。
【解決手段】レジスト塗布装置1の塗布ノズル33は、その内部にレジスト液Rを貯留する貯留室62が形成された本体部60と、本体部60の下面に形成され、レジスト液Rの表面張力によりその先端にレジスト液の液溜りを形成するスリット状の吐出口61と、貯留室62と吐出口61とに連通するレジスト液流路63と、を備え、レジスト塗布装置1は、塗布ノズル33とウェハとを相対的に上下方向及び水平方向移動させる移動機構と、前記貯留室内部の圧力を調整する圧力調整機構71と、を有している。圧力調整機構71は、塗布ノズル33とウェハとを相対的に移動させてウェハにレジスト液Rを塗布する間、吐出口61からのレジスト液Rの吐出量が一定となるように、貯留室62内部の圧力を調整し、且つ負圧に維持する。 (もっと読む)


【課題】紫外線照射装置の大型化に伴い、複数の紫外線照射装置を搭載した液滴吐出装置では装置コストが高くなってしまうことがある。
【解決手段】紫外線硬化型の液状体を記録媒体に向けて吐出する吐出ヘッド33と、吐出ヘッドを保持するヘッド保持部材と、ヘッド保持部材の位置をX方向に変化させる主走査方向変位装置と、記録媒体をY方向に間欠的に改行する副走査方向変位装置と、ヘッド保持部材の主走査方向片側に設けられ、記録媒体に吐出された前記液状体に紫外線を照射する紫外線照射装置15と、を備えた液滴吐出装置の描画方法において、紫外線照射装置15がヘッド保持部材の主走査方向の第1の方向の後方に位置するときに紫外線照射による液状体の硬化時間が、紫外線照射装置15がヘッド保持部材の主走査方向の第2の方向の前方に位置するときに紫外線照射による液状体の硬化時間よりも長い液滴を吐出することを特徴とする描画方法。 (もっと読む)


【課題】含フッ素加水分解性シラン化合物を用いて形成される被膜を有する防汚性基板の製造方法において、用いる被膜形成用組成物の貯蔵安定性が良好で、かつ得られる被膜が防汚性能に優れる防汚性基板の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に含フッ素加水分解性シラン化合物を用いて形成される被膜を有する防汚性基板の製造方法であって、前記含フッ素加水分解性シラン化合物を含み、実質的に加水分解反応触媒を含有しない被膜形成用組成物を製造する工程、前記被膜形成用組成物を基板上に蒸着して、または、湿式塗布後乾燥して、前駆膜を得る工程、および、加水分解反応触媒を含む処理液により前記前駆膜の表面を処理して被膜とする工程、を含むことを特徴とする防汚性基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】レンズシートの向きに応じて、印刷速度を速くすること、および印刷精度を良好にすることのうち、少なくとも1つを実現可能な印刷装置および印刷方法を提供する。
【解決手段】印刷ヘッド24を備え、一方向を長手とする複数の凸レンズ11を有するレンズシート10に対して相対的に移動させ、印刷ヘッド24からインクを噴射することにより印刷を行う印刷装置20であって、印刷ヘッド24を移動させる移動手段28と、レンズシート10がセットされる方向に応じて印刷ヘッド24の移動速度を変更するよう制御する制御手段51と、を具備し、制御手段51は、印刷ヘッド24がレンズシート10の一方向に対して垂直に移動して印刷する場合には、印刷ヘッド24が一方向に対して平行に移動して印刷する場合よりも、印刷ヘッド24の移動速度を遅くするように制御する。 (もっと読む)


【課題】1層の液膜から2層以上の層を形成する製造方法において、「白化」「クラック」などの品位上の問題が発生することなく、面内均一な層構造を安定して連続塗布可能な積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】支持基材の片面に、第2層及び第1層をこの順に有する積層体の製造方法であって、第1層は粒子Aを含有し、第2層は粒子Bを含有し、支持基材の少なくとも片面に、粒子Aと粒子Bを含む塗料組成物を1回塗布して、1層の液膜を形成する工程(以降この工程を塗布工程とする)、及び該液膜を乾燥する工程(以降この工程を乾燥工程1とする)をこの順に有し、
乾燥工程1において、液膜表面での無指向性熱線式風速計による風速が1m/s以上、10m/s以下に保ちながら、支持基材側から加熱することを特徴とする、積層体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】常温にて施工可能で、防汚機能と光透過率とを同時に向上させることができる塗布液及び基板を提供する。
【解決手段】帯電防止材料と、低屈折材料と、親水性材料と、溶媒とを混合した塗布液である。帯電防止材料としては酸化スズ(SnO2)の分散液を用いる。低屈折材料としてはシリカ(SiO2)の分散液を用いる。親水性材料としてはシリカの分散液を用いる。溶媒としてはアルコールを用いる。酸化スズの平均粒径は2nm以下とする。低屈折材料としてのシリカの平均粒径は10nm以下とする。親水性材料としてのシリカはアモルファスシリカであって、その平均粒径は2nm以下とする。 (もっと読む)


【課題】 インクジェット方式によって形成した塗布液の薄膜の膜厚均一性を向上させる。
【解決手段】 塗布液供給機構12の進行方向前側に溶剤供給機構18を、進行方向後側に気体噴射機構14を、それぞれ連結して塗布ヘッド10が構成されている。塗布ヘッド10を基板Wに対して相対移動させながら、溶剤供給機構18から基板W上に溶剤を供給し、続いて塗布液供給機構12から溶剤の被膜上に塗布液を供給し、最後に、気体噴射機構14から塗布液の凹凸表面に気体を噴射して溶剤の薄膜表面を平滑化する。 (もっと読む)


【課題】 電圧の印加を止めても、ある程度の期間、発色が好適に維持されるようなメモリー性を有した有機機能性素子を提供すること。
【解決手段】 一対の電極間にアミン系化合物を含む電解質からなる電解質層と、エレクトロクロミズムを示す導電性高分子を含むエレクトロクロミック層とを形成することによりなる。アミン系化合物としては、好ましくはトリエチレンテトラミン、m−キシレンジアミン、メタフェニレンジアミン、メチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラエチレンペンタミン、より選ばれる。 (もっと読む)


【課題】同時多層塗布方法にて、層どうしの界面が形成された積層体の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】複数の層形成用インキ、および難溶性化合物形成用インキを準備して、該複数の層形成用インキ、および該難溶性化合物形成用インキから、複数の層形成用インキ液層および難溶性化合物形成用インキ液層を各々形成して、該複数の層形成用インキ液層、および該難溶性化合物形成用インキ液層を、層形成用インキ液層と難溶性化合物形成用インキ液層と層形成用インキ液層との積層構造が形成されるように積み重ね、積み重ねた時に、該積層構造の層形成用インキ液層と層形成用インキ液層との間に難溶性化合物を形成させ、積み重ねられた該複数の層形成用インキ液層、および該難溶性化合物を基体に塗布し、乾燥する積層体の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】 優れた抗ウイルス抗菌性を有する塗膜を形成した抗ウイルス抗菌性建築材料を提供する。
【解決手段】 基体側からプライマー層、中間塗膜層、表層塗膜層による3層一体の積層構造として、炭素数16又は18のアルキルトリメチルアンモニウム塩を有効成分として表面塗膜層の表面に集中分布することによって、その表面抵抗率を、1E+06〜1E+13Ωとする高度な抗ウイルス抗菌性を長期に亘って発揮することができる。建築材料は、金属、樹脂、木材、ガラス、セラミック等各種材料とすることができ、また、開口部材のドアノブ、引手等に好適に用いることができる。 (もっと読む)


【課題】塵PおよびレジストRを基板Wの周縁部Eから同時に除去する。
【解決手段】基板Wの周縁部Eに液状の被覆剤Cを塗布して、基板Wの周縁部Eに付着した塵Pを液状の被覆剤Cによって覆う。そして、基板周縁部Eに付着した塵Pを覆う被覆剤Cを硬化させることで、当該塵Pを硬化された被覆剤Cの内部に捕捉する。したがって、被覆剤Cを基板Wの周縁部Eから除去することで、基板Wの周縁部Eから塵Pを除去することができる。さらに、基板Wの周縁部Eに被覆剤Cを塗布した後に、基板表面WfにフォトレジストRを塗布するため、基板Wの周縁部Eでは、フォトレジストRは被覆剤Cの上に塗布される。したがって、基板Wの周縁部Eから被覆剤Cを除去した際には、被覆剤Cの上に塗布されたフォトレジストRも被覆剤Cとともに基板Wの周縁部Eから除去される。こうして、塵PおよびフォトレジストRを基板Wの周縁部Eから同時に除去できる。 (もっと読む)


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