【課題】塗布液の蒸発に起因するダイコータの変形防止と、塗布開始時に発生する面状故障を防止できる塗膜付きフィルムの製造方法、及び塗布装置の提供。
【解決手段】塗布液２４が供給されるマニホールド１４と、マニホールドと連通するスロット１６と、スロットの先端に形成されたリップ面１８とを有するダイコータ１２と、ダイコータ１２から吐出された塗布液２４がリップ面１８から下方の領域に付着しないようにダイコータ１２に取り付けられた、テーパー形状の上端部を有する断熱性の板材４０と減圧チャンバー５０とを備える塗布装置１０を準備する。ダイコータ１２から塗布液２４を吐出させながら、塗布時における塗布装置１０とウエブＷとの所定クリアランスより大となる位置で塗布装置１０を待機させる。塗布装置１０を所定クリアランスとなる位置に移動し、ウエブＷとダイコータ１２との間にビード２４ａを形成し、塗膜２４ｂを形成する。 （もっと読む）

【課題】耐ブロッキング性及びクリア性に優れるハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】基材フィルム上に樹脂組成物を塗布した後、乾燥することにより、ハードコート層を形成するハードコートフィルムの製造方法において、前記乾燥の減率乾燥区間に、基材フィルム上に塗布した樹脂組成物中の樹脂の粘度が３〜７ｍＰａ・ｓとなる温度で樹脂組成物を乾燥する期間を設ける。前記期間の長さをｔ秒とし、基材フィルム１ｍ^２当たりに塗布した樹脂組成物中の樹脂の体積をＶｃｍ^３／ｍ^２としたときに、１．５Ｖ≦ｔ≦４．５Ｖとなるように前記期間の長さを設定する。 （もっと読む）

【課題】パネル装飾フレーム薄膜図案層の製造方法の提供。
【解決手段】パネル装飾フレーム薄膜図案層の製造方法は、平面型の高光透過率基板１００を提供し、毛細管塗布装置３００により、フォトレジスト液３１３を、毛細管３２０から噴出し、基板１００上に塗布し、毛細管塗布装置３００と基板１００との間は、順番に所定の移動軌跡に基づき相対運動を行い、これにより基板１００上には所定のフォトレジスト図案を形成し、フォトレジストを固化し、基板１００上にフォトレジスト図案薄膜層を形成し、毛細管塗布装置３００は、フォトレジスト液３１３を充填する塗布液ポンプ３１０を備え、中空管状の毛細管３２０を下方へと延伸して設置し、フォトレジスト液３１３を毛細管３２０中の液出口３２５から、基板１００表面へと連続して送り出し、フォトレジスト液３１３は、粘度値が２〜１０ｃｐｓである黒色ネガティブ型フォトレジストで、移動軌跡は螺旋状移動軌跡である。 （もっと読む）

【課題】 高い表面硬度を有していると共に、クラックの伸展が十分に抑制されて割れが防止される４層積層体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 波長５５０ｎｍでの光透過率が９０％以上の透明樹脂層であり、ガラス転移温度が２５０℃以上であり、表面硬度が鉛筆硬度３Ｈ以上であり、引張弾性率が２０００ＭＰａ以上であり、引張伸度が５％以下であり、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂を硬化させてなる第１層と、
前記第１層上に積層された透明樹脂層であり、ガラス転移温度が７０℃以上であり、引張伸度が４０〜４００％であり、熱可塑性樹脂からなる第２層と、
前記第２層上に積層された透明樹脂層であり、引張伸度は３０％以下である、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂を硬化させてなる第３層と、
前記第３層上に積層された透明樹脂層であり、引張伸度が４０〜４００％である第４層を備えることを特徴とする４層積層体。 （もっと読む）

【課題】複数の凹部が形成された可撓性を有する基材をより低工数かつ簡単な構成で位置決めして、凹部のそれぞれにインクジェット方式によりインクを塗布できる塗布方法を提供する。
【解決手段】基材Ｆは長手方向Ｘに張力を受けて所定の高さＨＲで保持されると共に、短手方向Ｙに位置決めされ、保持された基材Ｆは所定の高さＨＲの面で受け止められ、インクを吐出する複数のノズル１３は基材Ｆの側部近傍のホームポジションＨＰで待機させられ、短手方向Ｙ及び所定の高さＨＲで保持された基材Ｆが吸着プレート８上に画像表示領域Ｓ単位で供給され、吸着固定された後に、複数のノズル１３がホームポジションＨＰから短手方向Ｙに移動されながら、任意のノズル１３から画像表示領域Ｓに配設されている複数の凹部Ｐのそれぞれにインクが吐出される。 （もっと読む）

【課題】インクジェット方式を用いた微細パターンの形成におけるパターンのにじみが防止され、好ましい微細パターン形成が実現されるパターン形成方法及びパターン形成装置を提供する。
【解決手段】基板(10)のパターン形成面(10A)に形成されるパターン(12)に対応して、パターンの幅方向の両側の外縁を含む処理対象領域に対して、当該パターンを構成するドット(26)の直径未満の幅を有する光線(20)を照射して、当該処理対象領域に改質処理が施される改質処理工程と、改質処理が施された処理対象領域を含むパターンが形成される領域に対してインクジェット方式により機能性液体が打滴される打滴工程と、を含むことを特徴とする。改質処理の露光解像度はドット解像度の１０倍以上とする態様が好ましい。また、改質処理中の基板に対して反応ガスを供給する反応ガス供給工程を含む態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】近赤外線吸収色素の紫外線劣化を抑制することができ、かつ光学シートの層数の増加を抑制したプラズマディスプレイ用光学シート。
【解決手段】近赤外線吸収色素を含む光学フィルタ層５０と、光学フィルタ層５０上に積層され、透明基材７１、光学フィルタ層５０と透明基材７１との間に位置する光を透過可能な複数の単位光透過部７２、および単位光透過部７２の間に並列して設けられた複数の単位光吸収部７３を有するコントラスト向上機能層７０とを備えるプラズマディスプレイ用光学シート１０であって、透明基材７１が紫外線吸収材を含み、単位光透過部７２が、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含む第１の組成物を可視光により硬化させて形成されている。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ前面に用いる基材の表面に耐擦傷性を有する平滑面あるいは凹凸面が形成されたハードコート層付き光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチック製又はガラス製基材の一方の面に、（Ｘ）多官能性(メタ)アクリレート系モノマー及び／又は(メタ)アクリレート系プレポリマーを含有する無溶剤系の転写層形成用塗工液を塗工して得られた塗膜上に、剥離性の良好なハードコート層表面形成用フィルムを、その転写層が接するようにラミネートして、第１の活性エネルギー線を所定の光量で照射後、前記ハードコート層表面形成用フィルムを剥離したのち、第２の活性エネルギー線を所定の光量で照射することにより、ハードコート層付き光学部材を製造する。 （もっと読む）

【課題】反射防止フィルムにあっては、製造コストの低い反射防止フィルムが求められており、さらに、反射防止性能や干渉ムラのない光学特性に優れた反射防止フィルムが求められており、さらに、ディスプレイ表面に設けられるため高い耐擦傷性が求められており、さらに、ほこり付着防止のため帯電防止機能を備える反射防止フィルムが求められている。本発明にあっては、製造コストが低く、また、優れた光学特性及び優れた耐擦傷性及び帯電防止機能を備える反射防止フィルムを提供することを課題とする。
【解決手段】透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムであって、前記偏在層は、少なくとも透明基材側から中間層、ハードコート層、導電性材料を含む帯電防止層、レベリング材料を含むレベリング層の順に偏在して積層されることを特徴とする反射防止フィルムとした。 （もっと読む）

【課題】ハードコート層の膜厚が小さい場合であっても高い硬度を示し、かつ基材フィルムに対する密着性に優れたハードコート層を備えるハードコートフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】特定波長以下の紫外線を吸収する透明基材フィルム上に、紫外線硬化性樹脂組成物を塗工して紫外線硬化性層を形成する工程と、透明基材フィルム側から、該透明基材フィルムが吸収する紫外波長域外に最大発光強度を示す第１の紫外線を照射する工程と、紫外線硬化性層側から、上記紫外波長域内に最大発光強度を示す第２の紫外線を照射する工程とをこの順で含むハードコートフィルムの製造方法である。紫外線硬化性樹脂組成物は透明基材フィルムが吸収する紫外波長域外に少なくとも１つの吸収極大を有する第１の光重合開始剤と、上記紫外波長域内にのみ吸収極大を有する第２の光重合開始剤とを含有する。 （もっと読む）

【課題】塗布された塗布液の膜厚の不均一性を改善し得る技術を提供する。
【解決手段】塗布装置は、塗布液を吐出するノズルと、基板に対して、ノズルを移動させるノズル移動機構と、ノズルに塗布液を供給する塗布液供給部と、塗布液をノズルに供給するためにノズルに接続され、ノズル移動機構によるノズルの移動に追従して変形する接続チューブと、塗布液供給部からノズルに向けて供給される塗布液の流量を測定する流量測定部と、塗布液供給部からノズルに通じる塗布液流路の開度を調節する開度調節部と、流量測定部の測定結果に基づいて、開度調節部を制御する開度調節制御部とを備える。開度調節制御部は、ノズルが移動して、基板の表面に塗布液を吐出する際、開度調節部を、ノズルの停止中に調節した開度を維持するように制御する。 （もっと読む）

【課題】ワークの姿勢を良好にアライメントできるアライメント装置、基板処理装置、およびアライメント方法を提供する。
【解決手段】注目マーク９４ａが初期位置Ｐ０から第１計測位置Ｐ１へ第１距離Ｄ１だけ移動した後、位置演算部は、対応撮像部にて撮像された第１撮像画像に基づいて、第１撮像画像の座標系における注目マーク９４ａの第１計測位置Ｐ１を演算する。また、位置演算部は、注目マーク９４ａが第１計測位置Ｐ１から第２計測位置Ｐ２に移動した後、対応撮像部により撮像された第２撮像画像に基づいて、第２撮像画像の座標系における第２計測位置Ｐ２を演算する。続いて、演算された第１および第２計測位置Ｐ１、Ｐ２と、第１角度θ１と、に基づいて、回転軸３５ａから見た注目マーク９４ａのマーク位置を演算する。そして、求められた各アライメントマークのマーク位置を通る直線を求めることによって、主走査方向に対する基板の傾きを求める。 （もっと読む）

【課題】紫外反射率を有する構造色を作るための方法を提供すること。
【解決手段】紫外反射率を有する構造色を作るための方法が提供される。この方法は、噴霧ノズル、第１のナノ粒子溶液および第２のナノ粒子溶液を提供することを含む。噴霧ノズルは複数の第１のナノ粒子溶液の層をスプレーするのに使用され、この複数の第１のナノ粒子の層は低屈折率のスタックを形成する。いくつかの例において、ポリマー溶液は、各第１のナノ粒子溶液の層のスプレーの前および／または後でスプレーされることができる。噴霧ノズルはまた、複数の第２のナノ粒子溶液の層をスプレーするのに使用され、この複数の第２のナノ粒子の層は、高屈折率のスタックを形成する。第１のナノ粒子溶液の層に類似して、ポリマー溶液は各第２のナノ粒子溶液の層のスプレーの前および／または後でスプレーされることができる。 （もっと読む）

【課題】接着剤の流動を防止して、均一な貼り合わせ厚を確保できる接着剤供給装置及び接着剤供給方法を提供する。
【解決手段】表示装置を構成する一対のワークＳ１の少なくとも一方に対して、接着剤Ｒを供給する接着剤供給装置であって、ワークの片面に、面状に広がるように接着剤Ｒを供給する供給部１０と、供給部１０による供給とともに、供給された接着剤Ｒの一部若しくは全部を仮硬化させる仮硬化処理部１１と、を有している。 （もっと読む）

【課題】塗布された塗布液の膜厚の均一性を改善する。
【解決手段】塗布液を吐出している吐出部を基板に対して相対移動させることによって該基板に塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布装置であって、基板に塗布液を吐出する吐出部と、前記吐出部を前記基板に対して相対移動させる移動機構と、前記吐出部と前記移動機構とを用いて試行的に形成された塗布膜の膜厚情報を取得する取得部と、速度変更部とを備える。そして、前記速度変更部は、前記基板に対して相対移動中の前記吐出部の移動速度を前記膜厚情報に応じて変更する。 （もっと読む）

【課題】塗液パン内での塗液の滞留を低減するとともに、塗液に含まれる微粒子や顔料の沈降及び凝集をなくし、さらに塗液に含まれる樹脂や溶媒なども分散させることができ、また塗液パン内及び転写用ロール、塗液循環系の洗浄を容易にする塗布装置を提供する
【解決手段】連続走行している帯状の基材に塗液を塗布する装置であって、塗液を貯留する塗液パンと、前記塗液を基材に転写する転写用ロールと、電気振動信号を発生する超音波発振器と、前記塗液パンの側壁及び底壁の外側壁に設置され電気振動信号を機械振動に変換する超音波振動子と、前記塗液パン底面に設けた塗液供給配管と、前記液パン側面に設けた塗液排出配管と、前記塗液パン内の塗液を前記塗液排出配管から前記塗液パン外に排出して、前記塗液供給配管から供給することで塗液を循環させる塗液循環部と、を備えたことを特徴とする塗布装置。 （もっと読む）

【課題】プライミング処理で使用する洗浄液の更なる節減と、乾燥処理時間の短縮化および洗浄処理用ツールおよび／または乾燥処理用ツールの長寿命化を図ること。
【解決手段】このプライミング処理装置は、プライミングローラ１４の周囲に回転方向に沿って、洗浄パッド２０を有する粗洗浄処理部１８と、２流体ジェットノズル４２を有する仕上げ洗浄処理部３８と、拭いパッド５２を有する液滴除去部４８と、隙間５８およびガスノズル６０を有する乾燥ブロー部５０とを配置している。洗浄パッド２０および拭いパッド５２は、洗浄パッド移動機構２４および拭いパッド移動機構５６によりプライミングローラ１４の外周面に接触する第１の位置とそこから退避する第２の位置との間で切り換えられる。 （もっと読む）

【課題】パターン形成材料を含む塗布液を基板表面に塗布するにあたって、塗布液の端を正確に規定することを可能とする。
【解決手段】先端ＥＤを塗布範囲Ｒpに向けた状態において、塗布範囲Ｒp側に向けてマスク辺部ＳＤの先端ＥＤにまで下るスロープＳＬを有しており、マスク辺部ＳＤと基板Ｗ表面の段差が小さく抑えられている。そのため、塗布液と基板Ｗ表面の間に隙間が生じたとしても、その隙間は小さいものに抑えることができる。よって、基板Ｗ表面からマスクＭＫ（マスク辺部ＳＤ）を取り外した際の塗布液の切断位置を安定させて、基板Ｗ表面における塗布液の端の位置を正確に規定することが可能になっている。 （もっと読む）

【課題】基板上に機能膜を形成することにより製造される素子の製造において、機能性インクを基板上に吐出配置し、減圧乾燥を施して機能性インクから機能膜を形成する際に、機能膜の膜厚形状を均一にすることのできる機能膜形成方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子１０の製造において、有機発光層形成用インクから有機発光層２２を形成する際に、減圧乾燥機内において一度に減圧乾燥を施す基板１２上に吐出配置する有機発光層形成用インクに含有される溶媒の量と当該基板１２上に吐出配置する塗工液に含有される溶媒の量とを合計した総溶媒量が所定量になるように、基板１２上に吐出配置する塗工液の量を設定する。 （もっと読む）

【課題】プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減すること。
【解決手段】このプライミング処理法によれば、５回目のプライミング処理では、第１層の第１レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］をプライミングローラ１４の頂部に位置させて、スリットノズル７２の吐出口をプライミングローラ１４の頂部に対して平行に対向させ、プライミングローラ１４を静止させたままで、スリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させる。吐出されたレジスト液Ｒは、第１層の第１レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］上に着液してから周回方向で周囲に広がる。次に、プライミングローラ１４の回転を開始して、第１層の第１レジスト乾燥膜［ＲＭ₁］上にレジスト液Ｒを巻き取る。 （もっと読む）