【課題】１層の液膜から２層以上の層を形成する製造方法において、「白化」「クラック」などの品位上の問題が発生することなく、面内均一な層構造を安定して連続塗布可能な積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】支持基材の片面に、第２層及び第１層をこの順に有する積層体の製造方法であって、第１層は粒子Ａを含有し、第２層は粒子Ｂを含有し、支持基材の少なくとも片面に、粒子Ａと粒子Ｂを含む塗料組成物を１回塗布して、１層の液膜を形成する工程（以降この工程を塗布工程とする）、及び該液膜を乾燥する工程（以降この工程を乾燥工程１とする）をこの順に有し、
乾燥工程１において、液膜表面での無指向性熱線式風速計による風速が１ｍ／ｓ以上、１０ｍ／ｓ以下に保ちながら、支持基材側から加熱することを特徴とする、積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 インクジェット方式によって形成した塗布液の薄膜の膜厚均一性を向上させる。
【解決手段】 塗布液供給機構１２の進行方向前側に溶剤供給機構１８を、進行方向後側に気体噴射機構１４を、それぞれ連結して塗布ヘッド１０が構成されている。塗布ヘッド１０を基板Ｗに対して相対移動させながら、溶剤供給機構１８から基板Ｗ上に溶剤を供給し、続いて塗布液供給機構１２から溶剤の被膜上に塗布液を供給し、最後に、気体噴射機構１４から塗布液の凹凸表面に気体を噴射して溶剤の薄膜表面を平滑化する。 （もっと読む）

【課題】常温にて施工可能で、防汚機能と光透過率とを同時に向上させることができる塗布液及び基板を提供する。
【解決手段】帯電防止材料と、低屈折材料と、親水性材料と、溶媒とを混合した塗布液である。帯電防止材料としては酸化スズ（ＳｎＯ₂）の分散液を用いる。低屈折材料としてはシリカ（ＳｉＯ₂）の分散液を用いる。親水性材料としてはシリカの分散液を用いる。溶媒としてはアルコールを用いる。酸化スズの平均粒径は２ｎｍ以下とする。低屈折材料としてのシリカの平均粒径は１０ｎｍ以下とする。親水性材料としてのシリカはアモルファスシリカであって、その平均粒径は２ｎｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】高い赤外線反射性と高い可視光透過性を持つ積層型の赤外線反射フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性基材上に第１層を形成するための酸化チタンを含有し、さらにチタン系架橋剤を含む第１層形成用溶液、及び、その第１層形成用溶液上に第１層よりも屈折率が小さい第２層を形成するための化合物を含有し、さらに前記チタン系架橋剤と反応する高分子化合物を含む第２層形成用溶液、の少なくとも２種の溶液を準備する第１工程と、第１層形成用溶液及び第２層形成用溶液を重ねると共に、両溶液の界面に第１層形成用溶液が含むチタン系架橋剤と第２層形成用溶液が含む高分子化合物との反応生成物を生成させる第２工程と、第２工程で重ねられた両溶液を光透過性基材上に塗布する第３工程と、光透過性基材上に塗布された両溶液及び反応生成物を乾燥する第４工程とを有する赤外線反射フィルムの製造方法により、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】高い電磁波遮蔽性と明所コントラスト向上機能を両立し、かつ広い視野角を確保できる光学フィルムを提供する。
【解決手段】透明基材層１と、透明基材層中にその面内において格子を形成するように設けられた二機能線状部とを備える。二機能線状部の格子を形成する複数本の水平線状部２ａ及び垂直線状部２ｂは、各々一定の間隔で平行に配置されている。二機能線状部は、光吸収層４に導電層５が内包された構造であって、台形または三角形の断面形状を有し、垂直線状部の高さが水平線状部の高さに比べて低い。このフィルムは、光吸収層を光学画像が表示される向きに向けてディスプレイ装置に装着される。 （もっと読む）

【課題】同時多層塗布方法にて、層どうしの界面が形成された積層体の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】複数の層形成用インキ、および難溶性化合物形成用インキを準備して、該複数の層形成用インキ、および該難溶性化合物形成用インキから、複数の層形成用インキ液層および難溶性化合物形成用インキ液層を各々形成して、該複数の層形成用インキ液層、および該難溶性化合物形成用インキ液層を、層形成用インキ液層と難溶性化合物形成用インキ液層と層形成用インキ液層との積層構造が形成されるように積み重ね、積み重ねた時に、該積層構造の層形成用インキ液層と層形成用インキ液層との間に難溶性化合物を形成させ、積み重ねられた該複数の層形成用インキ液層、および該難溶性化合物を基体に塗布し、乾燥する積層体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 電圧の印加を止めても、ある程度の期間、発色が好適に維持されるようなメモリー性を有した有機機能性素子を提供すること。
【解決手段】 一対の電極間にアミン系化合物を含む電解質からなる電解質層と、エレクトロクロミズムを示す導電性高分子を含むエレクトロクロミック層とを形成することによりなる。アミン系化合物としては、好ましくはトリエチレンテトラミン、ｍ−キシレンジアミン、メタフェニレンジアミン、メチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラエチレンペンタミン、より選ばれる。 （もっと読む）

【課題】印刷方式によりカラーフィルタを形成可能なフレキシブルカラーフィルタ基板、並びに画素パターン形状及び寸法安定性に優れたカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】無機膜からなるバリア層が両面に設けられたフィルム基板のいずれか一方の面に、印刷方式でカラーフィルタを製造するためのアンカー層が形成され、前記アンカー層が、光硬化型ポリマー、（メタ）アクリルモノマー、シランカップリング剤及び光開始剤を含む塗布剤からなることを特徴とするフレキシブルカラーフィルタ基板、並びに該フレキシブルカラーフィルタ基板を備えたカラーフィルタ及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】同時多層塗布法にて、層間の境目が形成され、かつ層間の密着性が良好な積層体を得る。
【課題を解決するための手段】複数の層形成用インキと硬化性化合物を含有させた硬化性インキを準備して、該複数の層形成用インキ、および該硬化性インキから、複数の層形成用インキ液層、および硬化性インキ液層を各々形成して、該複数の層形成用インキ液層、および該硬化性インキ液層を、層形成用インキ液層と硬化性インキ液層と層形成用インキ液層との積層構造が形成されるように積み重ね、積み重ねられた該複数の層形成用インキ液層、および該硬化性インキ液層を基体に同時に塗布し、乾燥した後、層間の該硬化性化合物を反応させる。 （もっと読む）

【課題】描画線幅の微細化と厚膜化を実現して高アスペクト比のパターンを可能とするパターン形成方法を提供する。
【解決手段】着弾した第３の液滴は硬化せず、硬化した第１の液滴２の間で架橋するように濡れ広がり、第１の液滴２の間を埋める。これによって、高さのバラツキが小さく、描画線幅の微細化と高アスペクト比の線を形成することができるパターン形成方法が得られる。また、第１の液滴、第２の液滴、第３の液滴、第４の液滴がいずれも同じピッチで着弾配置されているので、液滴の凝集等が同じように起こり、線幅が均一なパターンが得られる。 （もっと読む）

【課題】大面積においても良好な外観を有する塗布フィルムが得る事ができる製造方法および塗布装置を提供することである。
【解決手段】計量バー３のフィルム走行方向上流側、フィルム走行方向下流側、両端部および底部に設置されたカバー５，６，８により囲われた空間と、該空間に塗液を供給する塗液供給手段７を有し、前記空間に満たされた前記塗液を前記計量バ３ーの回転により持ち上げ、フィルムに前記塗液を塗布・計量する塗液塗布方法であって、前記計量バー３と前記フィルム走行方向上流側カバーの間隙（ａ）が、前記計量バーと前記フィルム走行方向下流側カバーの間隙（ｂ）より大きく、かつ前記フィルム走行方向上流側のカバーが前記フィルム走行方向下流側のカバーの先端高さより高く、その差（ｃ）が２．０〜８．０ｍｍであることを特徴とする塗液塗布方法。 （もっと読む）

【課題】作業工程管理が容易で、安価な装置を使用したパターン形成方法を提供する。
【解決手段】第１の液滴２と隣り合う第１の液滴２の中間に着弾した第２の液滴４とは、表面張力により液滴同士が集まり、瘤状からなる凝集体を形成しようとする。このとき、瘤状からなる凝集体を形成しようとすることによって部分的に途切れた箇所が生じるが、この途切れる箇所を補うように、中央ライン５の両側に交互に列方向にずれるように着弾配置した第１の液滴２が中央ライン５側に集まり、この結果、部分的に途切れた箇所が生じることなく、濡れ広がる。 （もっと読む）

【課題】速い塗布速度で膜の形成を行うことのできる成膜方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】本実施形態の成膜方法は、基板をステージに載置する工程と、前記ステージに対して一定の間隙を維持して配置され前記ステージに対して相対的に水平に移動可能でかつ表面に膜形成材料を含むインクが供給されるアプリケータと、前記基板との間に前記インクによるメニスカスを形成する工程と、前記メニスカスを形成した状態で前記基板と前記アプリケータとの間に電圧を印加する工程と、前記メニスカスが形成されかつ前記電圧が印加された状態で前記アプリケータを前記ステージに対して相対的に移動させて前記基板上に前記インクの膜を形成する工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】ノズルの移動方向の違いで塗布高さに生じる違いを吸収してガラスペーストの塗布高さの精度を確保できるペースト塗布方法およびペースト塗布装置を提供することを課題とする。
【解決手段】有機ＥＬ素子が蒸着された基板８の蒸着部Ａ１の周囲に沿ってノズル５５ａを移動させてガラスペーストを基板８の蒸着部Ａ１の周囲に塗布するペースト塗布方法であって、ノズル５５ａが移動するときのノズル高さを補正するノズル補正量を、蒸着部Ａ１の周囲に沿ってノズル５５ａが移動するときの移動方向ごとに設定する準備工程と、ノズル高さを移動方向ごとにノズル補正量で補正し、ノズル５５ａを蒸着部Ａ１の周囲に沿って移動させてガラスペーストを塗布する塗布工程と、を有することを特徴とするペースト塗布方法とする。また、当該ペースト塗布方法によってガラスペーストを基板８に塗布するペースト塗布装置１００とする。 （もっと読む）

【課題】 スジムラ故障や泡欠陥のないエクストルージョン型ダイヘッドを用いた塗布装置及び塗布方法を提供する。
【解決手段】 塗液を外部に吐出するスリット１７とこのスリット１７と連通し塗液を供給するマニフォールド１８とを内部に有するエクストルージョン型ダイヘッド１を使用して被塗布物上に塗液を塗布する塗布装置であって、マニフォールド１８の壁面に気泡捕集部１９としてＶ字溝を設ける。 （もっと読む）

【課題】厚みの薄い基材であってもカーリング（湾曲）が抑制され、基材との密着性、硬度、耐擦傷性、透明性等に優れた透明被膜を形成可能な透明被膜形成用塗料を提供する。
【解決手段】官能基数が４以上のアクリレート樹脂（Ａ）と、官能基数が２および／または３のアクリレート樹脂（Ｂ）と、平均粒子径が５〜５００ｎｍの範囲にある金属酸化物微粒子（Ｃ）と、有機溶媒（Ｄ）とからなり、アクリレート樹脂（Ａ）の濃度（Ｃ_A）とアクリレート樹脂（Ｂ）の濃度（Ｃ_B）との濃度比（Ｃ_B）／（Ｃ_A）が０．０５〜０．５の範囲にあることを特徴とする透明被膜形成用塗料。 （もっと読む）

【課題】低コストかつ省スペースにエネルギ線硬化樹脂層を形成し、硬化させることができる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜装置１は、チャンバ１０と、ステージ１５と、ガス供給部１３と、照射源１４とを具備する。ステージ１５は、チャンバ１０の内部に配置され、基板Ｗを支持するための支持面１５１ａを有する。ガス供給部１３は、チャンバ１０の内部に配置され、支持面１５１ａに向けてエネルギ線硬化樹脂を含む原料ガスを供給する。照射源１４は、チャンバ１０の内部に支持面１５１ａに対向して配置され、エネルギ線硬化樹脂を硬化させるためのエネルギ線を支持面１５１ａに向けて照射する。 （もっと読む）

【課題】ドクターブレードとグラビアロールの接触が適正な状態であることを確認して塗布を開始するグラビア塗布装置と塗布方法を提供する。
【解決手段】フィルム基材１０５の表面に塗膜を形成するグラビア塗布装置であって、塗布されるインキ１１７を溜めるインキパン１１６と、インキパン中のインキを掻き上げ、表面に設けられた凹部に充填するグラビアロール８と、掻き上げられたグラビアロール表面のインキを掻き落とすドクターブレード１０１と、グラビアロールとグラビアブレード間の電気抵抗値を測定する電気抵抗測定器１０３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】移動するノズルから吐出される処理液の流量の変動を抑えられる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置２０は、基板２００を略水平に保持する基板保持部３０と、基板２００に対して略平行な主走査方向に沿って延びる主走査機構ガイド部４２と、主走査機構ガイド部４２により主走査方向に沿って移動可能に支持されたスライダ４４と、を有する主走査機構４０と、スライダ４４により主走査方向に沿って移動可能に支持され、基板２００に塗布液を吐出する吐出部５０と、吐出部５０に接続されるとともに吐出部５０に塗布液を導く可撓性の塗布液配管８０ｂと、塗布液配管８０ｂの途中の部分を支持するとともに、主走査の繰返しによるスライダ４４の周期的な動きに追随してその向きが周期的に変化する可動配管支持部１００と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 塗布液による閉図形に対して太りや断線を生ずることなく、閉図形を正確に形成することが可能な塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】 ダム剤吐出ノズル１４の高さ位置を通常より低い位置に配置した状態で、ダム剤吐出ノズル１４からダム剤の吐出を開始するとともに、ダム剤吐出ノズル１４の移動を開始する吐出開始工程と、ダム剤吐出ノズル１４から吐出されたダム剤が基板１００の表面に着床した後にダム剤吐出ノズル１４の高さ位置を上昇させる上昇工程と、ダム剤吐出ノズル１４を矩形に対応させて移動させる塗布工程と、ダム剤吐出ノズル１４からのダム剤の吐出を停止するとともに、ダム剤吐出ノズル１４の高さ位置をさらに上方に上昇させる液切り工程とを備える。 （もっと読む）