【課題】高粘度の塗布液を、無駄なく均一に基板上に塗布する。
【解決手段】レジスト塗布装置１の塗布ノズル３３は、その内部にレジスト液Ｒを貯留する貯留室６２が形成された本体部６０と、本体部６０の下面に形成され、レジスト液Ｒの表面張力によりその先端にレジスト液の液溜りを形成するスリット状の吐出口６１と、貯留室６２と吐出口６１とに連通するレジスト液流路６３と、を備え、レジスト塗布装置１は、塗布ノズル３３とウェハとを相対的に上下方向及び水平方向移動させる移動機構と、前記貯留室内部の圧力を調整する圧力調整機構７１と、を有している。圧力調整機構７１は、塗布ノズル３３とウェハとを相対的に移動させてウェハにレジスト液Ｒを塗布する間、吐出口６１からのレジスト液Ｒの吐出量が一定となるように、貯留室６２内部の圧力を調整し、且つ負圧に維持する。 （もっと読む）

【課題】紫外線照射装置の大型化に伴い、複数の紫外線照射装置を搭載した液滴吐出装置では装置コストが高くなってしまうことがある。
【解決手段】紫外線硬化型の液状体を記録媒体に向けて吐出する吐出ヘッド３３と、吐出ヘッドを保持するヘッド保持部材と、ヘッド保持部材の位置をＸ方向に変化させる主走査方向変位装置と、記録媒体をＹ方向に間欠的に改行する副走査方向変位装置と、ヘッド保持部材の主走査方向片側に設けられ、記録媒体に吐出された前記液状体に紫外線を照射する紫外線照射装置１５と、を備えた液滴吐出装置の描画方法において、紫外線照射装置１５がヘッド保持部材の主走査方向の第１の方向の後方に位置するときに紫外線照射による液状体の硬化時間が、紫外線照射装置１５がヘッド保持部材の主走査方向の第２の方向の前方に位置するときに紫外線照射による液状体の硬化時間よりも長い液滴を吐出することを特徴とする描画方法。 （もっと読む）

【課題】塵ＰおよびレジストＲを基板Ｗの周縁部Ｅから同時に除去する。
【解決手段】基板Ｗの周縁部Ｅに液状の被覆剤Ｃを塗布して、基板Ｗの周縁部Ｅに付着した塵Ｐを液状の被覆剤Ｃによって覆う。そして、基板周縁部Ｅに付着した塵Ｐを覆う被覆剤Ｃを硬化させることで、当該塵Ｐを硬化された被覆剤Ｃの内部に捕捉する。したがって、被覆剤Ｃを基板Ｗの周縁部Ｅから除去することで、基板Ｗの周縁部Ｅから塵Ｐを除去することができる。さらに、基板Ｗの周縁部Ｅに被覆剤Ｃを塗布した後に、基板表面ＷfにフォトレジストＲを塗布するため、基板Ｗの周縁部Ｅでは、フォトレジストＲは被覆剤Ｃの上に塗布される。したがって、基板Ｗの周縁部Ｅから被覆剤Ｃを除去した際には、被覆剤Ｃの上に塗布されたフォトレジストＲも被覆剤Ｃとともに基板Ｗの周縁部Ｅから除去される。こうして、塵ＰおよびフォトレジストＲを基板Ｗの周縁部Ｅから同時に除去できる。 （もっと読む）

【課題】塗布液が乾燥する前に撓みが生じる状態で持ち上げられる操作が行なわれる基板に対して塗布液を塗布する際に、出来上がった塗布膜の厚さ分布の均一性の悪化を抑制できる塗布方法及び塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明の塗布方法は、表面ｆに塗布されたレジスト液ｒが乾燥する前に撓みが生じる状態で持ち上げられる操作が行なわれる基板Ｓに対して塗布液を塗布する塗布方法であって、前記操作で生じ得る基板（Ｓ）の撓みが大きい箇所が小さい箇所に比べてレジスト液ｒの厚さが薄くなるように基板Ｓの表面ｆにレジスト液ｒを塗布する工程を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】塗布液の粘性やぬれ性を制御して膜厚を制御する。
【解決手段】塗布装置１は、基板Ｗを支持するステージ２と、前記ステージに対して相対移動可能であり、前記ステージ上の基板に塗布材料を吐出する材料吐出ノズル７と、前記材料吐出ノズルとともに前記ステージに対して相対移動可能であり、前記ステージ上の基板に気体を噴射する気体噴射ノズル８と、を一体に備える塗布ヘッド４を備えた。 （もっと読む）

【課題】機能性インクのロットにより粘度が異なる場合や、インクジェットヘッドを交換した場合であっても、基板間で膜厚を均一にする。
【解決手段】インクジェットヘッドのノズルから機能性インクをインク滴として吐出させ、前記インク滴を基板表面に離散的に配置する配置工程と、前記基板表面に配置されたインク滴にモールドを接触させることで、前記モールドと前記基板との間に前記機能性インクを充填させる接触工程と、前記充填された機能性インクを硬化させる硬化工程と、前記硬化した機能性インクから前記モールドを剥離する離型工程と、前記硬化した機能性インクの厚みを計測する計測工程と、前記計測した厚みに基づいて、前記ノズルからの吐出量を補正する補正工程と、を備えた機能性インク配置装置の吐出量補正方法によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】
液処理モジュール２に載置されたウエハＷに対して処理液ノズル１１から処理液を供給して液処理を行うにあたって、処理液の供給量を安定させ、これによりウエハＷの間における塗布の均一性を図ること。
【解決手段】
ノズル１１がノズルバス１５に待機しているときに一定量だけサックバックバルブ５２によりサックバックを行ってノズル１１の先端部のレジスト液の液面を引き上げる。ノズル１１を液処理モジュール２の上方に移動させた後、ノズル１１を支持するアーム１３に設けられたカメラ１６により、当該ノズル１１の先端部を撮像し、画像データを取得する。この画像データに基づいて、液面レベルを検出し、その検出結果に応じて液面レベルが予め設定した基準レベルになるようにサックバックバルブ５２を制御する。このためレジスト吐出前の液面レベルが一定化し、処理液の吐出量が一定化する。 （もっと読む）

【課題】円形の基板の周縁部に塗布液を塗布してリング状の塗布膜を形成するにあたり、その幅を均一性高く形成することができる技術を提供すること。
【解決手段】基板の回転及びノズルからの塗布液の供給を行いながら、塗布液の供給位置を基板の外側から基板の周縁部に向けて移動させ、当該基板を平面で見たときにその角度が１０°以下である楔型に塗布液を塗布し、次いで、基板の回転及び塗布液の供給を続けたままノズルの移動を停止し、基板の周縁部に沿って帯状に塗布液を塗布し、この帯状に塗布された塗布液の端部を前記楔型に塗布された塗布液に接触させ、基板の全周に亘って塗布液を塗布する。 （もっと読む）

【課題】塗布対象物の表面及び裏面に相対位置精度良くパターンを形成する。
【解決手段】塗布装置１は、塗布対象物Ｗの表面Ｗａ及び裏面Ｗｂに液を塗布してパターンを形成する塗布装置であって、液をノズルから吐出する塗布ヘッド４と、塗布対象物Ｗを撮像可能な撮像部６と、塗布ヘッド４のノズルから吐出された液によって塗布対象物Ｗの表面Ｗａに形成されたパターンを撮像部６により撮像した撮像画像に基づいて、塗布対象物Ｗの表面Ｗａに形成されたパターンの位置を検出し、その検出した位置に基づいて塗布ヘッド４による塗布対象物Ｗの裏面Ｗｂに対する液の塗布位置を調整する制御装置９とを備える。 （もっと読む）

【課題】測定対象物に塗布された塗布物質の塗布状態をより簡単に精度よく測定する。
【解決手段】測定対象物を撮像して測定対象物のスペクトル画像を取得する画像取得ステップＳ０１と、画像取得ステップにより得られたスペクトル画像に基づいて、塗布物質の種類を判別する塗布物判別ステップＳ０２と、画像取得ステップにより得られた前記スペクトル画像に基づいて、塗布物質の塗布量を測定する塗布量測定ステップＳ０３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】非常に低水準のポリマーコーティング添加剤で、より広いプロセシングウィンドと限られたまたは観察出来ないストリエーションを有するスピンオン誘電体処方を提供する。
【解決手段】本発明は、（ａ）有機溶媒に分散性を有するオリゴマーまたはポリマーで、低誘電率を有するか、硬化性を有し低誘電率を有する材料を形成する、（ｂ）一以上の有機溶媒および（ｃ）全組成物の重量に対して１０００ｐｐｍ未満のポリマーコーティング添加剤を含む組成物に関する。ポリマー添加剤は、成分（ａ）と溶媒系に相溶性であるが、コーティングプロセスの際に成分（ａ）および溶媒の混合物に不相溶となる。 （もっと読む）

【課題】 描画対象物１枚あたりの描画時間を短縮することが望まれている。
【解決手段】 保持機構に保持された描画対象物に、液滴を吐出複数のノズルを有する第１及び第２のノズルユニットが対向する。移動機構が、描画対象物に対して、第１及び第２のノズルユニットを、相対的に、相互に交差する第１の方向及び第２の方向に移動させる。制御装置が、ノズルユニット及び前記移動機構を制御する。第１及び第２のノズルユニットの各々のノズルは、第２の方向に等間隔で配列した着弾点に液滴を着弾させるように配置されている。第１及び第２のノズルユニットは、第２の方向に間隔を隔てて配置されている。間隔調節機構が、制御装置からの制御により、第１及び第２のノズルユニットの間隔を変化させる。 （もっと読む）

【課題】描画対象物に均一な厚みの材料層を描画する描画装置および描画方法を提供する。
【解決手段】描画対象物５０に描画すべきパターンの液状材料を付着させるべき領域を、主走査方向に直交する仮想直線上に垂直投影した像の連続する部分の長さ、つまり配線領域の長さＬｗに基づいて、ノズルヘッド２３の１回の主走査で描画されるパス領域の幅Ｌｐを、ノズルヘッドに設けられるノズルの配列長さＬａよりも短く設定する。 （もっと読む）

【課題】低コストでレジスト膜を均一に形成可能なレジスト膜の形成方法を提供する。
【解決手段】静電噴霧によりワーク３の上にレジスト膜を形成するレジスト膜の形成方法であって、ノズル２とワーク３との間に所定の電圧を印加し、ノズル２からワーク３に向けてレジスト液を噴霧するステップと、ワーク３の上に噴霧されたレジスト液を硬化させてレジスト膜を形成するステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】幅方向に長く先端で開口しているスリット７が内部に形成されている口金３において、従来では振動波（振動波に基づくキャビテーション）の伝播が充分にされず残っていた固着物を、浮かび上がらせることが可能となり、短時間で所望の洗浄結果を得る。
【解決手段】洗浄槽１１内の振動波を与えた洗浄液Ｌに口金先端９を浸漬させ、スリット７を通じて当該洗浄液Ｌを口金内部へ流入させる。この状態から、スリット７を通じて口金内部に気体を、スリット７の幅方向全長にわたって、流入させる。この後、口金先端９を洗浄槽１１内の振動波を与えた洗浄液Ｌに浸漬させ、スリット７を通じて当該洗浄液Ｌを口金内部へ流入させる。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、基板に均一な厚みの材料層を描画する描画装置および描画方法を提供することにある。
【解決手段】
基板の表面に画定される単位領域ごとに、該単位領域内のうち液状材料を付着させるべき領域が占める面積の割合に基づいて、ノズルヘッドのノズルに印加する電気信号の電圧パルス高さまたは電圧パルス幅の少なくとも一方を制御する。 （もっと読む）

【課題】メニスカスに負担を掛けずに増粘液体を空吐出する。
【解決手段】加圧液室と、前記加圧液室に連通するノズルと、前記加圧液室に圧力を発生させる電気機械変換素子を有する液体吐出ヘッドに、複数の駆動パルスから成る空吐出駆動波形を印加して空吐出動作を行う液体吐出ヘッドの制御方法であって、前記駆動パルスの駆動パルス間隔Ｐ１〜Ｐ５を前記加圧液室の固有振動周期の整数倍にして、前記駆動パルス間隔Ｐ１〜Ｐ５が長い順に所定数連続した駆動パルスで空吐出駆動波形を生成する工程と、生成した駆動波形を前記電気機械変換素子に印加する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】基板の浮上量の変動を抑制することが可能な塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】第一気体供給経路及び第一吸引経路のうち少なくとも一方の経路の一部分には大気開放が可能な大気開放部が設けられているので、噴出される気体の流量及び吸引される気体の流量のうち少なくとも一方の変化を緩和することが可能となる。これにより、基板の浮上量の変動を抑制することが可能となる。 （もっと読む）