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Fターム[4E068CE02]の内容

レーザ加工 (34,456) | レーザ光と加工物の相対移動 (3,368) | 2軸走査型 (2,156) | 照射系移動 (1,197)

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【課題】レーザーで金属部品の表面に粗面を形成して、金属部品と樹脂部品との密着性を向上させる技術において、さらに、金属部品と樹脂部品との密着性を向上させる技術を提供する。
【解決手段】レーザーで金属表面に粗面を並ぶように形成させて、樹脂部品と接合させる金属部品を製造する方法において、隣り合う粗面の間隔と粗面を形成する凹凸の深さとを調整する。より具体的には、隣り合う粗面の間隔を250μm以下に調整し、粗面を形成する凹凸の深さを50μm以下に調整する。 (もっと読む)


【課題】金属成形体と樹脂成形体との接合強度が高められた複合成形体が得られる製造方法の提供。
【解決手段】金属成形体10の接合面に対して、ドット状の独立した複数の孔11を形成するようにレーザー照射する工程と、ドット状の独立した複数の孔11を形成した金属成形体10の接合面を含む部分を金型内に配置して、前記樹脂成形体となる樹脂をインサート成形する工程を有する複合成形体の製造方法であって、レーザース照射工程において1つの孔11を形成するとき、前記孔の開口部径(D)と前記孔の深さ(dep)との比(dep/D)が1.0〜10の範囲になるようにする、複合成形体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ワークの加工面の反射の状態に関わらず、変位センサの測定方式を切り換えたり、変位センサを交換したりせずにオートフォーカスを行えるようにする。
【解決手段】エラーアンプ213、モータドライバ214により構成される焦点調整部は、ワーク102の加工面でプローブ光が正反射された場合、正反射されたプローブ光が拡散反射板212により拡散反射された後、加工面で反射された反射光を用いて変位センサ211により測定された測定結果に基づいて、対物レンズ217の焦点の位置を調整する。また、焦点調整部は、加工面でプローブ光が正反射された場合、その拡散反射された反射光を用いて変位センサ211により測定された測定結果に基づいて、対物レンズ217の焦点の位置を調整する。本発明は、例えば、レーザ加工装置に適用できる。 (もっと読む)


【課題】簡単な方法で、クロススクライブによる分断の工程数を少なくする。
【解決手段】この分断方法は、強化ガラスをクロススクライブにより分断する方法であって、第1〜第4工程を含んでいる。第1工程は、ガラス基板において第1方向に延びる第1分断予定ラインの端部に亀裂進展を規制するための処理を施す。第2工程は、ガラス基板に対して、第1分断予定ラインに沿って、レーザ照射による加熱及び冷媒による冷却を行い、第1分断予定ラインに沿って亀裂を進展させてスクライブ溝を形成する。第3工程は、ガラス基板に対して、第2方向に延びる第2分断予定ラインに沿ってガラス基板の一端縁から他端縁まで、レーザ照射による加熱及び冷媒による冷却を行い、第2分断予定ラインに沿ってガラス基板を分断する。第4工程は第3工程によって分断されたガラス基板を第1分断予定ラインに沿って分断する。 (もっと読む)


【課題】主軸方向に搬送される被搬送物の軌跡の正確性を向上させる搬送装置を提供する。
【解決手段】副軸方向に延在し、レーザ加工ヘッド2を副軸方向に移動可能に保持する副軸フレーム3と、副軸方向と交差する主軸方向に延在し、副軸フレーム3を主軸方向に移動可能に保持する一対の主軸フレーム4a、4bと、を備え、レーザ加工ヘッド2を主軸方向及び副軸方向に搬送する搬送装置1であって、副軸フレーム3に副軸方向に移動可能に保持され、レーザ加工ヘッド2とは副軸フレーム3の副軸方向における中心線CCを挟んで反対側且つ副軸フレーム3の主軸方向における反対側の位置においてレーザ加工ヘッド2の副軸方向の移動に対して反対方向に移動するカウンタウエイト6を備えた。 (もっと読む)


【課題】所定の幅を有するワークの幅方向端部のアシストガスによる変位を簡便な構成で抑制できるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ加工装置1は、加工ヘッド9と、加工ヘッド9を移動するXYステージ10と、ワークWの幅方向端部を支持する端部支持手段11と、ワークWの幅方向端部よりも内側を支持するコンベア8とを備える。端部支持手段11は、加工ヘッド9の移動に伴い、これと同期してワークWの長さ方向における加工ヘッド9の位置に対応しながら、コンベア8とは独立してワークWの長さ方向に移動する。 (もっと読む)


【課題】予め規定した線幅や繰り返しピッチの精度を維持して、所定パターン加工をすることができる装置及び方法を提供する。
【解決手段】シート材10を搬送するシート材搬送部2と、シート材10を保持する保持部24と、レーザを照射するレーザ照射部35と、レーザ照射部35をシート材の搬送方向及び幅方向に相対移動させるレーザ照射位置変更部31,33と、どの場所にレーザを照射するかを登録する加工パターン登録部と、登録された加工パターンに基づいて照射位置の変更を行いながらレーザを照射する制御部とを備え、基準マーク観察部と、基準マーク間隔計測部5とを更に備え、制御部は、基準マークの位置及びマーク間の寸法と、登録された所定パターン情報に基づいて、レーザ照射位置変更部31,33の相対移動位置を逐次補正変更しながら、レーザを照射する装置及び方法。 (もっと読む)


【課題】被加工物を加工送りしつつ被加工物の厚み方向にパルスレーザー光線を複数ショット照射することができるレーザー加工装置を提供する。
【解決手段】レーザー光線照射手段と、加工送り手段と、位置検出手段からの検出信号に基づいてレーザー光線照射手段および加工送り手段を制御する制御手段とを具備するレーザー加工装置であって、レーザー光線照射手段は、パルスレーザー光線発振手段と、集光レンズを備えた集光器をZ軸方向と所定角度(α)をもって変位せしめるピエゾモータを備えており、パルスレーザー光線の繰り返し周波数に対してピエゾモータに印加する高周波電流の周波数と電圧を制御し、チャックテーブルを加工送りする際に、集光器をX軸方向にΔx移動するとともにZ軸方向にΔz移動することにより、集光レンズによって集光されるパルスレーザー光線の集光点をチャックテーブルに保持された被加工物の所定領域の厚み方向に変位せしめる。 (もっと読む)


【課題】平板表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】レーザーでガラス密封材料を溶かしてマザーガラスを接合させる時に、マザーガラスに加えられるストレス偏差を最小化するためのものであって、互いに対向した第1基板と第2基板との間に複数の発光部を形成する工程であって、各発光部別に単位ディスプレイ素子にする工程と、第1基板と第2基板との間に複数の壁を形成する工程であって、各壁は各発光部を取り囲むように配置される工程と、壁にレーザービームを照射する工程であって、第1方向に配列された複数の壁に対して同時にレーザービームを照射する工程と、レーザービームを第1方向と異なる第2方向にスキャニングする工程と、第1基板及び第2基板を各単位ディスプレイ素子別に切断する工程を含む平板表示装置の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】マルチビーム露光に伴う周期的なスジムラを低減する。
【解決手段】所定の走査線間隔で記録媒体に向けて複数のビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光走査することにより前記記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法において、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状の領域の周囲領域である第1領域に対しては、隣接ビームの間隔を走査線間隔のN倍(Nは2以上の整数)とするビーム群を用いたインターレース露光をN×m回(mは2以上の整数)繰り返し行うことで各走査線をm回露光し、前記第1領域の外側である第2領域に対しては、隣接ビームの間隔が走査線間隔と等しいビーム群を用いたノンインターレース露光を行うマルチビーム露光走査方法によって上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】対象物が照射されるエネルギ分布を均一化する。
【解決手段】本発明に係るレーザアニール装置1は、対象物11が載置されるステージ2と、照射部13からの距離に応じて断面積が変化し断面積とエネルギ密度とが反比例するレーザ光12を照射するレーザ装置3と、対象物11と照射部13との相対的位置関係を変化させる移動手段4とを備え、移動手段4は、レーザ光12の対象物11への照射位置がステージ2の回転中心から離間するに従って、対象物11に照射されるレーザ光12の断面積が小さくなるように相対的位置関係を変化させるものである。 (もっと読む)


【課題】曲がりをもった二重管を円滑に通過することを可能とし、溶接ヘッドの位置決めや回転機能を容易に付加して、二重管の内管の突き合わせ溶接を効率よく実施できるようにする。
【解決手段】本発明の実施形態によるレーザ溶接装置は、レーザ光を管1の内周面に照射するレーザ光学系とテーパー形状の先端部21とを有するレーザ溶接ヘッド12と、管1の管外に設置され、レーザ溶接ヘッド12を回転駆動する回転駆動装置14と、回転駆動装置14で発生したトルクをレーザ溶接ヘッド12に伝達する可撓性のフレキシブルシャフト30と、レーザ発振器からのレーザ光をレーザ溶接ヘッド12に導く光ファイバー32と、を有する可撓性の多重溶接ケーブル13と、レーザ溶接ヘッド12の先端部が着脱自在に嵌合しレーザ溶接ヘッド12の管軸方向の位置を位置決めする位置決めストッパ62と、レーザ溶接ヘッド12の嵌合した位置決めストッパ62を管軸上に固定する固定機構と、を有する位置決め固定装置16と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】移動装置の位置決め制御の精度の向上と加工速度の向上とを両立できる位置決め装置およびレーザ加工機を提供すること。
【解決手段】座標平面におけるレーザビームBの加工予定軌跡と目標軌跡との間で距離の最も近い2点の組が探索され、その2点間の各々の距離が算出される。算出された各々の距離に基づいて加工予定軌跡を作るための指令が補正されるので、加工予定軌跡を目標軌跡に近づけることができる。これらの処理は被加工物WにレーザビームBを照射する前に実行されるので、レーザ加工時における移動装置の位置決め速度(移動速度)を低下させることなく移動装置の位置決め制御の精度を向上できる。また、変位にヒステリシスをもつピエゾアクチュエータ等の移動装置であっても、ヒステリシスを考慮した補正ができる。 (もっと読む)


【課題】レーザ加工機を提供することを課題とする。
【解決手段】チャンバーとレーザシステムと少なくとも1個の加工ステージと少なくとも1個の上部運動ステージとを含むレーザ加工機であって、レーザシステムはチャンバー内部の下方に設けられ、進行方向が重力方向と反対するレーザ光の出力に用いられる。加工ステージがチャンバー内部の上方に設けられ、対向する吸着面と連結面とを備える。且つ、吸着面は連結面の下方に位置し、加工物を吸着するために用いられる。上部運動ステージがチャンバー内部の上方に設けられ、加工ステージの連結面に対応して連結し、加工ステージを運動するために用いられる。 (もっと読む)


【課題】走行方向に延伸する溝と、当該走行方向とは交差するピッチ送り方向に延伸する溝とをともに速やかに形成できる加工機を実現する。
【解決手段】レーザ加工時に基板9を動かないよう保定する保定機構5と、走行方向に走行しかつその走行方向とは交差したピッチ送り方向にも移動可能な加工ノズル3と、基板9を下方から支持しながらレーザ加工時に固定の基板9及び架台7に対してピッチ送り方向に相対移動しレーザ光軸との干渉を回避可能な支持機構4とを具備する加工機1において、支持機構4に、走行方向に沿って延伸する複数の走行方向開口41と、ピッチ送り方向に沿って延伸するピッチ送り方向開口45とをともに設けた。 (もっと読む)


【課題】脆性材料で形成された被加工物をレーザビームのビームパターンによらずに安定して分割加工できる分割加工方法を得ること。
【解決手段】分割加工方法は、脆性材料で形成された被加工物に対しレーザビームを相対的に走査して局部的に溶融し蒸発させることにより、前記被加工物を分割する分割加工方法において、湾曲機構を備えたステージ台に、前記被加工物が分割予定線に沿って破壊応力未満の応力で前記湾曲機構により曲げられるように、前記被加工物を固定する固定ステップと、前記湾曲機構により曲げられた前記被加工物の前記分割予定線に沿ってレーザビームを相対的に走査させる切断ステップとを備えている。 (もっと読む)


【課題】円、円弧、S字等の曲線を含む加工ラインに沿ってレーザ光を走査する際に、走査速度の低下を抑えて、加工効率を向上させる。
【解決手段】 このワーク加工装置は、ガラス基板等のワークにレーザ光を照射して加工を行う装置であって、加工すべきワークが載置されるワークテーブル2と、テーブル移動機構5と、レーザ光を出力するレーザ光出力部15と、偏向・回転機構18と、走査制御手段と、を備えている。テーブル移動機構5は、ワークテーブル2を、載置面と平行な面内において互いに直交するx,y方向に移動する。偏向・回転機構18は、レーザ光出力部15から出射されたレーザ光を出射軸から偏向させるとともに、偏向されたレーザ光を出射軸の回りに回転させる。走査制御手段は、テーブル移動機構5及び偏向・回転機構18の駆動を協調制御して、レーザ光をワーク上で走査する。 (もっと読む)


【課題】被加工対象物内面との干渉可能性の増大を招くことなく、被加工対象部との距離を一定に保ちつつレーザ加工を実施することのできるレーザ照射装置及びレーザ照射方法を提供する。
【解決手段】レーザ光をレーザ光源から導いてレーザ光出射部から出射するレーザ光伝送機構と、レーザ光を集光する集光機構と、集光機構を内部に収容し保持するともにレーザ光を照射するための開口部を有する筒状の筐体と、流体を筐体内に供給し、開口部から噴出させる流体供給機構と、筺体に配設され、被加工物と当接されることによって集光機構と被加工物との距離を一定に保つ位置決め機構と、開口から噴出された流体が、筐体と被加工物との間を筐体の軸方向に沿って流れるようにガイドし、筐体と被加工物との間にエジェクター効果を発生させるための流体ガイド機構とを具備したレーザ照射装置。 (もっと読む)


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