【課題】レーザー加工装置において、レーザー照射手段のレンズ保護カバーの汚れを適正に検出する。
【解決手段】チャックテーブルに保持された被加工物にレーザー照射手段によってレーザー加工を行うレーザー加工装置において、レーザー照射手段はレーザー光線を集光する集光器３１を備え、集光器３１は対物レンズ３２０と対物レンズ３２０と被加工物との間に配設され被加工物から飛散するデブリを遮断して対物レンズ３２０の汚染を防止するレンズ保護カバー３４２とを備え、集光器３１に対向して撮像手段７が配設されてレンズ保護カバー３４２の汚れを検出するため、レンズ保護カバー３４２を集光器３１から取り外さなくてもレンズ保護カバー３４２の汚れを確認することができる。 （もっと読む）

【課題】 少ない工程で注液孔の封止を好適に行うことのできる電池の製造方法および溶接装置および溶接用治具を提供すること。
【解決手段】 レーザ溶接装置１０００は，レーザ発振装置１１００と溶接用治具１２００とを有している。溶接用治具１２００は，下側部材１３００と上側部材１４００とを有している。下側部材１３００は，空気室１３００ａを有している。また，貫通孔１３０２が形成されている。上側部材１４００は，ガラス板１４１０，１４２０と，空気室１４００ａとを有する。また，貫通孔１４０２，１４１２が形成されている。レーザ溶接に際して，貫通孔１３０２からエアを吸引する。これにより，空気室１３００ａと電池容器１１０の内部を減圧する。蓋体１７０を封口板１３０の注液部１４１にレーザ溶接する。 （もっと読む）

【課題】 しわ、歪み、割れが少なく、かつ電極群を収納する際の電極群の表面への傷の発生が低減された電気化学デバイス用外装体と、この外装体を用いた電気化学デバイスとを提供する。
【解決手段】 実施形態によれば、正極３及び負極４を含む扁平形状の電極群２を収納するための電気化学デバイス用外装体１を提供することができる。外装体１は、複数の板材を接合することにより得られる。電極群２の最外層を間に挟んで対向する二側板６ｃ，７ａのうち、一方の側板６ｃが第１の板材６に含まれ、かつ他方の側板７ａが第２の板材７に含まれるように複数の板材が構成されている。 （もっと読む）

【課題】目視や画像認識装置により容易に識別できる位置合わせ基準マークとなる絶縁パターンを簡便に形成できる導電パターン形成基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の導電パターン形成基板の製造方法は、絶縁基板上に設けられた透明導電層にパルス状レーザ光を所定パターンで照射することにより絶縁部を形成して、少なくとも導電パターンを形成する導電パターン形成工程と、前記絶縁部の一部にパルス状レーザ光を再照射する再照射工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】レーザ溶接によるマイクロクラックの欠陥発生を抑止し、二次電池の高品質及び高信頼性を実現する。
【解決手段】二次電池は、電解液を注液するための注液口を有し、その注液口から注液された電解液を電極体と共に収容する容器と、容器に固着され、注液口を塞ぐ封口蓋８とを備え、その封口蓋８は、封口蓋８及び容器の蓋体３ｂにわたる深さで環状に存在する溶接痕８ｅと、封口蓋８の厚さに相当する深さで封口蓋８における溶接痕８ｅの内周側でその溶接痕８ｅに重なって環状に存在する内周側溶融痕８ｆとを有している。 （もっと読む）

【課題】 高品質の外装部品を得ることができる外装部品の製造方法および外装部品を提供する。
【解決手段】電子機器の外装部品１を製造する方法であって、外装部品本体２に少なくとも１つの付属物３を固定する固定ステップを備え、外装部品本体２は、平面を有する金属の薄板を加工することにより形成されており、付属物３は、平面を有する台座４と、台座４上に設けられた少なくとも１つのボス５とを備え、前記固定ステップは、台座４の平面を外装部品本体２の平面に当接させた状態で、台座４と外装部品本体２とをレーザー溶接により接合する、外装部品の製造方法。 （もっと読む）

【課題】リードフレームに反りが生じず、低コストで成型することができるリフレクタの成型方法を提供すること。
【解決手段】リフレクタの三次元データを、Ｚ軸と垂直な面に所定ピッチでスライスして、リフレクタの断面形状のスライスデータを作成し、Ｚステージを所定ピッチ分Ｚ軸方向に下降させ、該Ｚステージ上に設けられたリードフレーム上に、レーザを照射することで焼結する粉体を供給し、スライスデータに基づいて、レーザを粉体上に照射して焼結層を形成し、スライスデータに応じた焼結層を順次積層することでリードフレーム上にリフレクタを成型する。 （もっと読む）

【課題】裏面側からレーザ照射することにより分割起点を形成する場合に、予め、別途に分割予定ラインに沿って反射膜を除去しておく必要のないＬＥＤの製造方法を提供する。
【解決手段】 光透過性基板１の表面側１ａに複数のＬＥＤ素子本体２がパターン形成されるとともに、裏面側１ｂに反射膜３が分割予定ライン上も含めて形成されているマザー基板１に対し、分割予定ラインに沿ってレーザビームＬを照射することによってＬＥＤ素子本体２ごとに分割するための分割起点Ａを形成する工程を含むＬＥＤチップの製造方法であって、反射膜３としてＬＥＤ素子本体２が発する発光光および蛍光材料による蛍光の波長範囲を反射し、かつ、分割予定ラインに照射するレーザビームＬの波長光を透過する性質を有する反射膜３を裏面側１ｂに形成し、レーザビームＬを裏面側１ｂから反射膜３を透過させて基板裏面に直接照射するようにして基板１をレーザ加工する。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造工程において、ＴＦＴ基板上に着色層（ＲＧＢ他）およびブラックマトリックス（ＢＭ）などのカラーフィルタが形成されたカラーフィルタオンアレイ（ＣＯＡ・ＢＯＡ）におけるレーザー修正において、修正箇所のレーザーアブレーションに伴う下地であるＴＦＴ基板上の保護膜の損傷を発生させることなく、選択的にカラーフィルタ層のみを修正することができるカラーフィルタの欠陥修正方法、及び、その欠陥修正方法によって欠陥部分が修正されたカラーフィルタ基板を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ基板上に少なくとも着色層、ブラックマトリックスが形成されたカラーフィルタの欠陥修正方法において、予め前記カラーフィルタの欠陥修正部分を炭化着色させる段階と、その後前記欠陥修正部分にレーザー光を照射して前記欠陥修正部分をレーザーアブレーションにより除去する段階と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】加工進行方向に直交する方向にもレーザービームを走査させる必要がある被加工領域へのレーザー加工時間を従来よりも短縮する。
【解決手段】ワーク１を被加工領域５の長手方向に沿って移動させながら、被加工領域５の下面にレーザービームを照射してワーク１の機能層３を除去する装置において、ガルバノミラー３４による集光点位置の移動速度をワーク１の移動速度よりも高速にするとともに、レーザービームの集光点位置の移動軌跡を加工進行方向Ｘ１における移動距離が割り出し方向Ｙにおける移動距離よりも長くなるように設定する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板又はＴＦＴ基板上に着色層（ＲＧＢ他）およびブラックマトリックス（ＢＭ）などのカラーフィルタが形成されたカラーフィルタ製造におけるレーザー修正において、修正箇所のレーザーアブレーションに伴う下地の損傷を発生させることなく、効率的に、且つ、選択的にカラーフィルタ層のみを修正することができるカラーフィルタの欠陥修正方法、及び、その欠陥修正方法によって欠陥部分が修正されたカラーフィルタ基板を提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも着色層、ブラックマトリックスが形成されたカラーフィルタの欠陥修正方法において、予め前記カラーフィルタの欠陥修正部分にレーザーを照射して、前記欠陥修正部分を熱分解・熱変性に起因する炭化作用により着色させる段階と、その後前記欠陥修正部分にレーザー光を照射して前記欠陥修正部分をレーザーアブレーションにより除去する段階と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】所定のキャリブレーションパターンで感光体に照射されたレーザ痕に基づいてレーザキャリブレーションを実行することにより、レーザ加工の精度を向上させることが可能な調整装置、レーザ加工装置および調整方法を提供すること。
【解決手段】空間変調手段（ＤＭＤ）によって任意のキャリブレーションパターンの形状に成形されたレーザ光を感光体に照射し、前記レーザ光が照射された前記感光体の画像を撮像し、前記撮像された画像のレーザ痕の形状と前記キャリブレーションパターンの形状とのズレ値を算出し、前記算出されたズレ値に基づいて、前記レーザ光の被加工物上での形状が入力パターンの形状と一致するように補正するための変換パラメータを算出し、前記算出された変換パラメータに基づいて、前記入力パターンに従った前記被加工物へのレーザ光の照射を調整する。 （もっと読む）

【課題】熱の影響を緩和させつつパターンを微細化すること。
【解決手段】露光光のパターンを対象面に転写する露光方法であって、複数の表示素子を用いて前記パターンを形成するパターン形成ステップと、前記対象面のうち複数の単位領域に区画された投影領域に前記パターンを投影する投影ステップとを含み、前記パターン形成ステップは、前記投影ステップにおいて前記投影領域のうち前記単位領域ごとに前記パターンが投影されるように複数の前記表示素子のうち一部ずつを順に駆動させて前記パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】簡単に複数のレーザ光によるスポットを走査しながらほぼ同じ位置に時間差を設けて照射する。
【解決手段】レーザ光λａは、レンズ１２０ａにより結像位置Ｐ１ａにおいて結像した後、レンズ１２１ａによりコリメートされ、２波長性ミラー１２３に入射する。レーザ光λｂは、レンズ１２０ｂにより結像位置Ｐ１ｂにおいて結像した後、レンズ１２１ｂによりコリメートされ、全反射ミラー１２２により反射され、２波長性ミラー１２３に入射する。そして、レーザ光λａおよびレーザ光λｂは、２波長性ミラー１２３により光路が結合され、２波長性レンズ１２４により結像位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂにおいて結像する。全反射ミラー１１９とレンズ１２０ｂを格納するモジュール１３１は、シフト機構１３２により、レンズ１２０ｂの光軸と垂直な方向にシフトする。本発明は、例えば、薄膜太陽電池パネルを加工するレーザ加工装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】
ＰＰＳ樹脂とインサート金属と直接的に接した面での高い接合強度を有し、且つインサート金属や中空複合体に内包される精密部品に対しても熱や衝撃による損傷を与えることなく複合化することを課題とする。
【解決手段】
（A）降温結晶化温度が２０５℃以下のポリフェニレンスルフィド樹脂１００重量部に対し、（B）エポキシ樹脂１〜１０重量部、（C）単繊維径１０μｍ以上のガラス繊維５〜１００重量部を配合してなる熱可塑性樹脂組成物を金属インサートした射出成形品にレーザー光を照射し、他の成形品とレーザー溶着する複合成形品の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁石材料の歩留まりを低下させることなく磁石渦損を低減でき、安価で生産性の良い分割永久磁石を提供すること。
【解決手段】分割永久磁石１６は、一つの永久磁石塊３１が割断により複数の分割片３２に分割されている。隣り合う分割片３２の対向する割断面３２ａの少なくとも一方には、レーザを照射することにより、盛り上がったレーザ照射痕３３が形成される。そして、隣り合う分割片３２の対向する割断面３２ａがレーザ照射痕３３を介して突き合わされることにより、一塊の分割永久磁石１６が構成される。 （もっと読む）

【課題】駆動源の数を従来よりも少なくすることにより小型化及び低コスト化を図ると共に、ワークの寸法公差等が大きい場合でも円形状又は多角形状の溶接対象部を確実に溶接することができるレーザ溶接装置を提供する。
【解決手段】レーザ溶接装置１４は、バスバー３６とバスバー３６に形成された孔部４２、４４、４６に挿入された端子３０、３２の溶接対象部１６０にレーザ発振器６０から第１レーザヘッド６８に導かれたレーザ光１２を照射する。第１レーザヘッド６８は、ファイバ支持管８８を介してレーザヘッド本体８６に対して回転可能に設けられた支持部材１１０と、支持部材１１０を回転する回転モータ１１２と、支持部材１１０に軸支された支軸１２０、１２２に固着されたミラー９２と、回転モータ１１２の駆動力を利用してミラー９２を支軸１２２の周方向に揺動する角度変更機構９６とを有する。 （もっと読む）

【課題】 クリアランスがある蓋およびケース本体に対して溶接用のレーザ光を同時に照射すると、レーザ光の一部がクリアランスを通過し、溶接に用いられない。
【解決手段】 対象物（２０）を収容するケース本体（１１）の開口部（１１ａ）の内側に、開口部に対してクリアランス（ＣＬ）を設けた状態で蓋（１２）を配置するステップを有する。蓋の外縁および開口部の一方を、第１レーザ光の照射によって溶融させるステップと、蓋の外縁および開口部の他方を、第２レーザ光の照射によって溶融させて、一方の溶融部分と接触させるステップとを有する。溶融状態にある蓋の外縁および開口部を、第３レーザ光の照射によって更に溶融させるステップを有する。 （もっと読む）

【課題】２つの素材を、熱影響を最小限にしながら十分な強度を有するレーザ接合方法を提供すること。
【解決手段】第１および第２の素材（Ｖ１，Ｖ２）を重ね合わせ、第１の素材（Ｖ１）側から第１の素材（Ｖ１）の表面にレーザ光（１０３）を照射させることで、両素材（Ｖ１，Ｖ２）を接合する際、第１および第２の素材（Ｖ１，Ｖ２）との重ね合せ部に対して、レーザ光（１０３）を移動させながら間欠的に照射させることで第１の素材（Ｖ１）の表面に溶接ビード（１）を形成し、かつ、溶接ビード（１）の長さは、徐々に短く形成することで解決できる。 （もっと読む）

【課題】電池容器における溶接クレータ部の残存を抑制可能なレーザ溶接装置を提供する。
【解決手段】本発明のレーザ溶接装置５０は、電池容器２ａの溶接対象部４４ａに溶接を施すレーザ溶接装置である。電池容器２ａにレーザ光Ｌを照射可能なレーザ溶接機６０と、レーザ溶接機６０から電池容器２ａにレーザ光Ｌが照射されるときに、電池容器２ａの表面におけるレーザ光Ｌの照射位置からレーザ溶接機６０の焦点位置までの距離が、溶接対象部４４ａのうちで溶接の終端を含む所定の領域内で終端に向うにつれて増加するように、照射位置と焦点位置との相対位置を調整する位置調整部５２と、を備える。 （もっと読む）