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Fターム[4E351DD13]の内容

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【課題】焼成温度が十分に低く、焼成して得られる導電膜の抵抗値が十分に低い導電性組成物を提供する。
【解決手段】錫又は錫合金を主体とする金属粉と、有機酸と、アミンとを含む導電性組成物であって、前記金属粉に含まれる錫成分100重量部に対して、前記有機酸を1重量部以上15重量部以下、前記アミンを2重量部以上30重量部以下含む導電性組成物。 前記アミンと前記有機酸との重量比は、前記有機酸1重量部に対して前記アミン1重量部以上4重量部以下であることが好ましい。前記有機酸は、カルボン酸であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】高透過性、低抵抗であり、耐久性、及び可撓性が向上し、簡易にパターニングが可能である導電材料、並びに該導電材料を用いた、視認性のよいタッチパネル及び変換効率の高い太陽電池の提供。
【解決手段】導電性繊維を含有する導電層を有する導電材料であって、前記導電層の分光吸収スペクトルにおいて、325nm〜390nmの吸収ピークが1つである導電材料とする。325nm〜390nmにおける吸収ピークの半値幅が100nm以下である態様、導電材料の分光吸収スペクトルにおいて、325nm〜390nmのピークトップ吸光度Aと、800nmの吸光度Bとの比(A/B)が1.5以上である態様などが好ましい。 (もっと読む)


【課題】配線パターンの修正において、修正抵抗を低減することが可能となる、パターン修正方法を提供する。
【解決手段】パターン修正方法は、導電性パターン20の欠陥部21を修正するパターン修正方法であって、導電性インクを塗布することにより第1のインク層31を形成する工程と、第1のインク層31を焼成することにより第1の修正層32を形成する工程と、少なくとも一部が第1の修正層32に重なるように導電性インクを塗布することにより、第2のインク層33を形成する工程と、第2のインク層33を焼成することにより第2の修正層34を形成する工程とを備え、第1の修正層32および第2の修正層34により欠陥部21を挟んで配置される導電性パターン20間の電気的接続が確保される。 (もっと読む)


【課題】導電性、電気化学的安定性、耐酸化性、充填性、緻密性、機械的・物理的強度に優れ、しかも基板に対する接着力・密着力の高い高品質・高信頼度のメタライズ配線を有する電子機器を提供すること。
【解決手段】基板11は、所定のパターンを有するメタライズ配線12を有している。メタライズ配線12は、メタライズ層121と、絶縁層122とを含んでいる。メタライズ層121は、高融点金属成分と低融点金属成分とを含み、高融点金属成分及び低融点金属成分が互いに拡散接合している。絶縁層122は、メタライズ層121と同時に形成されたもので、メタライズ層121の外面を覆っている。電子部品14は、メタライズ配線12のメタライズ層121に電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】絶縁樹脂層に三次元的に形成された2つの配線間を層間接続するための高い接続信頼性を有する低抵抗のビアホール導体を備えた多層配線基板であって、鉛フリーのニーズに対応することができる多層配線基板を提供する。
【解決手段】ビアホール導体を有する多層配線基板であって、ビアホール導体は金属部分と樹脂部分とを含み、金属部分は、第一配線と第二配線とを電気的に接続する経路を形成する銅粒子の結合体を含む第一金属領域と、錫,錫‐銅合金,及び錫‐銅金属間化合物からなる群から選ばれる金属を主成分とする第二金属領域と、ビスマスを主成分とする第三金属領域と、錫−ビスマス系半田粒子である第四金属領域とを有し、結合体を形成する銅粒子同士が互いに面接触する面接触部を形成しており、第二金属領域の少なくとも一部分が第一金属領域に接触しており、錫−ビスマス系半田粒子が樹脂部分に囲まれて点在している多層配線基板である。 (もっと読む)


【課題】電気的接続の高い信頼性を有するビアホール導体により層間接続された、Pbフリーのニーズに対応することができる多層配線基板を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁樹脂層と絶縁樹脂層の両面にそれぞれ配設された配線とこれらの配線間を電気的に接続するためのビアホール導体とを有し、ビアホール導体は金属部分と樹脂部分とを含み、金属部分は、配線間を接続する銅粒子の結合体を含む第一金属領域と、錫,錫‐銅合金,及び錫‐銅金属間化合物等を主成分とする第二金属領域と、ビスマスを主成分とする第三金属領域と、を有し、結合体を形成する銅粒子同士が互いに面接触することにより面接触部を形成し、第二金属領域の少なくとも一部分が第一金属領域に接触している多層配線基板であって、絶縁樹脂層が、熱硬化性樹脂と無機フィラーを含有する多層配線基板である。 (もっと読む)


【課題】電気的接続の高い信頼性を有するビアホール導体により層間接続された、Pbフリーのニーズに対応することができる多層配線基板を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁樹脂層を介して配設された複数の配線同士を電気的に接続するビアホール導体を有する多層配線基板であって、ビアホール導体は銅と錫とビスマスとを含み、複数の銅粒子が互いに面接触して前記複数の配線同士を電気的に接続する前記銅粒子の結合体を含む第1金属領域と、錫,錫−銅合金または錫と銅の金属間化合物のいずれか一つ以上を主成分とする第2金属領域と、ビスマスを主成分とする第3金属領域とを含み、第2金属領域の少なくとも一部が銅粒子の結合体の面接触部を除く表面に接触しており、金属部分中のCu,Sn及びBiが特定の重量組成比(Cu:Sn:Bi)を有する多層配線基板。 (もっと読む)


【課題】銅表面に、銅とスズと第3の金属の合金からなる樹脂接着層を形成することにより、銅と樹脂の接着力を向上する。
【解決手段】銅と樹脂との界面を有する配線基板の銅(1)表面に形成された対樹脂接着層(2)であって、(a)銅、(b)スズ、および(c)銀、ビスマスおよびニッケルから選ばれる少なくとも1種の金属(第3の金属)、からなる合金を含み、前記銅が10〜45原子%、前記スズが30〜88原子%、前記第3の金属が2〜45原子%であり、厚さが0.001μm以上1μm以下の対樹脂接着層(2)である。これにより、銅と樹脂の接着力を向上できる。 (もっと読む)


【課題】セラミック基板に対して優れた密着性を有するメタライズ配線を形成することができる銅ペースト組成物を提供することである。
【解決手段】少なくとも銅粉、非鉛ガラスフリットおよび酸化銅(I)を含有する銅ペースト組成物であって、前記銅粉は、軟化開始温度が互いに異なる第1の複数の銅粒子および第2の複数の銅粒子をそれぞれ複数含むとともに、前記第1の複数の銅粒子の軟化開始温度をT1(℃)、前記第2の複数の銅粒子の軟化開始温度をT2(℃)としたとき、T1−T2の値が200℃以上であり、前記非鉛ガラスフリットは、少なくともビスマス、ホウ素およびシリコンの各酸化物を含むとともに、軟化開始温度が400℃以下である。 (もっと読む)


【課題】熱や経時による回路配線の軟化現象を抑え、耐久性を高めるとともに、脆性を改善し、クラックの発生を抑えた配線回路基板を提供する。
【解決手段】基板の絶縁層1上に、金属皮膜からなる回路配線2を備えた配線回路基板であって、上記回路配線2が、三層以上の銅系金属皮膜の積層体からなり、その最下層2aおよび最上層2cを構成する銅系金属皮膜の常温での抗張力が100〜400MPaであり、最下層2aと最上層2cとの間に介在する層(中間層2b)を構成する銅系金属皮膜内の常温での抗張力が700〜1500MPaである。 (もっと読む)


【課題】コネクタとの嵌合など大きな外部応力がかかる環境下においても、コネクタの端子およびフレキシブルフラットケーブルの導体に形成されるめっき層やはんだから、ウィスカが発生するおそれの少ない、あるいは発生してもその長さが50μm未満であり、かつ優れた耐屈曲特性を備えたフレキシブルフラットケーブルを提供する。
【解決手段】Sn系めっき層を被覆した端子12を備えたコネクタ11に嵌合され、端子12と接する導体16が内部に配設されたフレキシブルフラットケーブル13において、導体16の素線の周囲にSn−Bi系めっき層が形成されていると共に、素線とSn−Bi系めっき層との間に合計厚さが1μm以下の金属間化合物層が形成され、Sn−Bi系めっき層のBi濃度が10mass%以上であるものである。 (もっと読む)


【課題】ウィスカの発生を抑制できるフレキシブルフラットケーブル、フレキシブルプリント基板、フレキシブルフラットケーブルの製造方法、及びフレキシブルプリント基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るフレキシブルフラットケーブル1は、銅又は銅合金からなる導電性基材100と、導電性基材100の表面に設けられる導電層102とを有する導体10と、導体10の上方に設けられる第1絶縁層20と、導体10の下方に設けられる第2絶縁層22とを備え、導電層102は、導電性基材100上に形成された銅−スズ金属間化合物層61と、この銅−スズ金属間化合物層61上に形成され、スズとビスマスとからなるスズ−ビスマス固溶体と、スズと、不可避的不純物とを少なくとも含む残存スズ層62とからなる。 (もっと読む)


【課題】電気的接続の高い信頼性を有するビアホール導体により層間接続された、Pbフリーのニーズに対応することができる配線基板を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁樹脂層13を介して配設された複数の配線12と、複数の配線12同士を電気的に接続するビアホール導体14とを有する配線基板であって、ビアホール導体14は、金属部分15と樹脂部分16とを含み、金属部分15は、銅粒子17、錫,錫-銅合金、錫-銅金属間化合物を主成分とする第1金属領域18、ビスマスを主成分とする第2金属領域19とを含み、Cu/Snが、1.59〜21.43であり、銅粒子17は、それらが互いに接触することにより複数の配線12同士を電気的に接続しており、第1金属領域18の少なくとも一部が、銅粒子17同士の接触している部分の周囲を覆っている配線基板11を用いる。 (もっと読む)


【課題】柱形端子の造成及び形成工程を改善して基板の反り変形の程度を制御できるパッケージ基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態によるパッケージ基板は、少なくとも一つの導電性パッドを具備した基板と、前記基板上に提供され、前記導電性パッドを露出させる開口部を有する絶縁層と、前記開口部内の前記導電性パッド上に形成され、前記絶縁層の側壁に沿って前記絶縁層の上部面より高く形成される剥離防止層と、前記剥離防止層上に形成される柱形端子と、前記柱形端子上に形成されるはんだバンプと、を含む。 (もっと読む)


【課題】面内導体パターンおよび層間導体パターンが設けられた、複数の熱可塑性樹脂シートを積み重ねることによって、積層体を作製し、この積層体を熱処理・加圧処理する、各工程を経て製造される、樹脂回路基板の電気特性の安定化および信頼性の向上を図る。
【解決手段】熱可塑性樹脂シート11に、銅を主成分とする面内導体パターン4〜6およびビスマスを主成分とした導電性ペースト13を用いて層間導体パターン7を設け、熱可塑性樹脂シート11に熱処理および加圧処理を施すことによって、導電性ペースト13を溶融一体化するとともに、当該導電性ペースト13が溶融一体化してなる層間導体パターン7と面内導体パターン4〜6との間に、銅およびビスマスの固溶体層を形成する。 (もっと読む)


本発明は金属薄膜の形成方法に関し、より詳細には、有機金属錯体化合物(Organic Metal Complex)を含む金属インクを基材にコーティングまたはプリンティングした後、焼成過程中に圧力工程を必須に並行して製造された金属薄膜は、伝導性や反射率及び厚均一性などの薄膜特性を向上させるだけでなく、金属薄膜の形成時間を大きく短縮ことができる長所があり、効率的かつ優れた品質の金属薄膜を製造することができる。 (もっと読む)


【課題】耐熱性を有する導電パターンを基板に直接印刷して形成するためのペースト組成物、FPCB(フレキシブルプリント回路板)を製造するために半田付け可能な導電性回路を形成するためのペースト組成物、及びRFIDチップと接合可能な印刷アンテナを形成するためのペースト組成物を提供する。
【解決手段】導電性粒子、ポリアミド酸、及び溶媒を備えるペースト組成物。前記ポリアミド酸を、以下の化学式1で定義し


R1及びR2を其々、N、O、及び/又はSを有する炭化水素鎖又はヘテロ原子鎖とし、或いはR1及びR2で、ベンゼン環間の架橋又は溶融を示す。 (もっと読む)


【課題】 本発明の目的は、搭載性が良く、配線基板の層間導通用途に適した配線基板用金属球を提供することにある。
【解決手段】 本発明は、Agおよび/またはCuを合計で20質量%以上80質量%以下含み、残部Biおよび不可避的不純物からなり、粒径が0.03mm以上0.5mm以下の球状に凝固されてなる配線基板用金属球であって、該金属球の真円度が粒径の5%以下である、配線基板用金属球である。
また、本発明の配線基板用金属球中には、Agを45質量%以上75質量%以下含むことが好ましい。 (もっと読む)


伝導性組成物は、保護されていない単一の反応基を含む一酸混成物を含む。この一酸混成物は、他の場所において実質的に非反応性の基を含むことにより連鎖終結剤として機能し得る。この組成物を使用した方法および装置も開示される。 (もっと読む)


【課題】ホット・プレート状の基板加熱手段を利用して、基板面側から金属ナノ粒子分散液塗布膜を加熱処理する手法を適用して、下地層に対する優れた密着性と、高い導電性を有する金属ナノ粒子焼結体厚膜層を基板上に形成する方法の提供。
【解決手段】表面に塗布膜が描画された基板を、温度Tplateに加熱されたホット・プレート状の基板加熱手段上に配置し、基板加熱手段に接する基板裏面側から加熱を行い、
塗布膜の基板面側の温度:Tbottom(t)を、150℃〜250℃の範囲であって、塗布膜中に含まれる分散溶媒の沸点Tb-solventよりも低く選択される温度とし、
塗布膜の表面温度:Ttop(t)を、温度差ΔT(t)={Tbottom(t)−Ttop(t)}≧10℃となる範囲に維持して、該塗布膜に対する加熱処理を行って、含まれている金属ナノ粒子の低温焼結を起させる。 (もっと読む)


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