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Fターム[4F033QG31]の内容

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加熱対象 (64)
くん蒸装置
溶湯式装置
ホットメルトスプレー装置 (4)

Fターム[4F033QG31]に分類される特許

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【課題】効率よく基板上に安定して均一に成膜する。
【解決手段】筐体と、成膜材料の溶液と圧縮ガスとを混合して成膜材料を微粒子化したミストを筐体の内部に噴霧する複数のスプレーノズル12とを備える。また、圧縮ガスを圧力の異なる複数の調圧ガスに調整し、複数のスプレーノズル12の各々に複数の調圧ガスのいずれかを導入し、かつ、複数の調圧ガスのすべてを複数のスプレーノズル12に対して導入するガス圧調整機構を備える。 (もっと読む)


【課題】コールドスプレーコーティングの施工を簡略化し、且つコールドスプレーコーティングの施工効率を増加させる方法、システム、及び装置を提供する。
【解決手段】コールドスプレーコーティングシステムは、ノズル部材214によって画成されるノズル開口部218からガス流及び皮膜材料の粒体を放出し、皮膜材料の粒体が基板の第1の領域に衝突し結合するように動作可能なノズル部材214を有するコールドスプレーコーティングガンと、基板の第1の領域を加熱するように動作可能な熱源部材202と、を含む。 (もっと読む)


【課題】均一な厚さで、従来の限界を超えた大きさの薄膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】基板13上方に噴霧器14を正対配置し、揮発性溶媒に溶解した薄膜材料を噴霧器14から下方の基板13に向けて噴霧し、SPD法によって基板13表面に透明導電膜15を形成する方法で、基板13に正対する噴霧器14の噴霧中心を通る鉛直軸に対する放射状方向に噴霧器14を直線的に水平移動させながら噴霧する。噴霧器14を移動させながらの噴霧と、基板13を載置した回転テーブル12の所定角度の間欠回転とを連係させることで、噴霧器14の直線的移動範囲を直径とする円領域全体が基板13における噴霧領域となり、噴霧領域での噴霧微粒子の密度分布の格差が平均化されて、従来では形成困難な大きさの均一な厚さの薄膜(透明導電膜)15を形成できる。 (もっと読む)


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