【課題】基板搬送路が一方向に連続的に延びる場合であっても、口金部を容易に交換することができる塗布装置を提供する。
【解決手段】一方向に延びる基板搬送路と、基板搬送路に基板を対面させた状態で基板搬送路の延びる方向に沿って基板を搬送する基板搬送部と、口金部が基板搬送路に対向した状態で固定して設置された塗布ユニットと、を備えた塗布装置であって、前記口金部を載置するものであり、塗布ユニットに取付けられた口金部と対向する口金受取位置と、前記口金部を交換する口金交換位置とに移動可能な口金移載ユニットをさらに備え、前記基板搬送路は、作業スペース形成部を有しており、この作業スペース形成部により、基板搬送路の一部が除去されて前記口金部を交換するための作業スペースが形成され、前記口金交換位置は、前記作業スペース形成部で口金部の交換作業が可能な範囲に設定されている構成とする。 （もっと読む）

【課題】走行するウエブを安定してガイドできる両面塗工装置を提供する。
【解決手段】上下一対の上ダイ１２と下ダイ１４とを水平に搬送するウエブＷの搬送路に配置し、下ダイ１４の上流側にガイド部材１６を配置し、ガイド部材１６は、多孔質材料よりなる空気吹き出し部４２を有する。 （もっと読む）

【課題】連続的に走行する帯状基材に対して多層塗布を行う際に、高速で安定した薄膜塗布を効率よく行うことができるロール塗布方法及び装置を提供する。
【解決手段】連続的に走行する帯状基材１に対して、アプリケーターロール５を基材１と接触させて塗布液を基材１に塗布するロール塗布方法において、アプリケーターロール５に対してスリットダイ７により２層以上の多層コートを行い、その際のアプリケーターロール５上の塗布液膜厚さをｔ_ａ（μｍ）とした場合、アプリケーターロール５のロール径Ｄ_ａ（ｍｍ）をＤ_ａ≦３．３ｔ_ａ＋１３３．３とし、アプリケーターロール５の回転速度Ｖ_ａと基材１の速度Ｖ_Ｌが０．９≦Ｖ_ａ／Ｖ_Ｌ≦１．２となるように調整を行い、アプリケーターロール５から基材１に転写されずに残った塗布液は掻取装置６によって除去することを特徴とする帯状基材へのロール塗布方法。 （もっと読む）

【課題】高粘度の塗布液を、無駄なく均一に基板上に塗布する。
【解決手段】レジスト塗布装置１の塗布ノズル３３は、その内部にレジスト液Ｒを貯留する貯留室６２が形成された本体部６０と、本体部６０の下面に形成され、レジスト液Ｒの表面張力によりその先端にレジスト液の液溜りを形成するスリット状の吐出口６１と、貯留室６２と吐出口６１とに連通するレジスト液流路６３と、を備え、レジスト塗布装置１は、塗布ノズル３３とウェハとを相対的に上下方向及び水平方向移動させる移動機構と、前記貯留室内部の圧力を調整する圧力調整機構７１と、を有している。圧力調整機構７１は、塗布ノズル３３とウェハとを相対的に移動させてウェハにレジスト液Ｒを塗布する間、吐出口６１からのレジスト液Ｒの吐出量が一定となるように、貯留室６２内部の圧力を調整し、且つ負圧に維持する。 （もっと読む）

【課題】処理液等の薬液の無駄な消費を無くし、且つ、タクトタイムを短縮し、生産性を向上する。
【解決手段】円柱状または円盤状に形成され、その周面に前記ノズル先端の長手方向に沿って平行に形成された複数の払拭部１１ａを有し、所定方向に臨む一の払拭部によりノズル先端３ａを狭持すると共に、前記ノズル先端の長手方向に沿って移動可能に設けられた払拭体１１と、前記払拭体を前記ノズル先端の長手方向に沿って移動させる払拭体移動手段１３，１４，１５と、前記ノズル先端の側方に移動された前記払拭体を軸周りに回転させ、前記一の払拭部に代えて他の払拭部を前記所定方向に臨む状態とする払拭体回転手段１７，１８とを備える。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストの消耗量が節減されるノズルユニット、基板処理装置、及び基板処理方法が提供される。
【解決手段】本発明による基板処理装置は、基板を支持するプレートと、前記プレートに支持された前記基板に薬液を塗布するノズルユニットと、前記プレートに置かれる基板と前記ノズルユニットとの間の相対位置が変更されるように前記基板又は前記ノズルユニットを移動させる駆動ユニットと、を含む。前記ノズルユニットは、横方向が第１方向に沿って形成され、前記基板に第１薬液を吐出する第１吐出部と、横方向が前記第１方向に沿って形成され、前記基板に第２薬液を吐出する第２吐出部と、を含む。 （もっと読む）

【課題】煩雑な調整を要することなく、支持体の非塗布部と塗布ヘッドとの接触を確実に回避する。
【解決手段】塗布ヘッド１５は、塗布液を吐出するスリット２１を有し、スリットの長手方向に交差する方向へ連続的に搬送される支持体１１の表面にスリットより吐出される塗布液を塗布する。この塗布ヘッドには、塗布ヘッドの長手方向の両端それぞれに、支持体の幅方向端部の非塗布部分３３に加圧流体を吹き付けるための加圧流体の流路３５を形成する流路構成部材３７が設けられている。流路構成部材は、少なくとも加圧流体の吹き出し口を形成する部材が単一の部品として塗布ヘッドへ取り付けられるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】良好に塗工材料を塗工することが可能な塗工装置及び電極の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
ポンプから吐出される塗工材料を塗工部へ流通させる配管部材を備える塗工装置において、前記配管部材内に、開口部を有するメッシュ部材を、該メッシュ部材の下端側が上流側に、上端側が下流側に位置するように傾斜させて該配管部材内の全流路を覆うように配置すると共に、前記配管部材の上部には、前記メッシュ部材と対応する位置に気泡溜まり部を形成したことを特徴する。 （もっと読む）

【課題】処理動作のタクトタイムを短縮することができ、且つ、ノズルのメンテナンス処理に起因する被処理基板の汚染を防止する。
【解決手段】被処理基板Ｇの幅方向に延びる吐出口を有し、前記処理ステージ上の前記基板の上方を基板搬送方向に沿って移動されると共に、前記吐出口から前記基板上に処理液を吐出するノズル３１と、前記ノズルを昇降移動可能であって、前記ノズルを基板搬送方向上流側または下流側に向けて移動可能なノズル移動手段３２と、基板搬送路４の下方に設けられ、前記ノズルの吐出口の状態を整えるノズルメンテナンス手段３５と、前記基板搬送路において前記処理ステージの上流側または下流側に所定長さの空き区間ｄを出没自在に形成可能な空き区間形成手段２１，２２，２３Ａ、２３Ｂ、３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、所望のストライプ状パターンを有する塗布膜を形成可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】塗布装置は、塗布対象としての基板を保持するステージと、複数並設された吐出口と各吐出口に向かって塗布液が流通する流路とを有し、かつステージ側に吐出口を向けて配置されたノズル部とを備える。ノズル部では、各吐出口の周辺部において各流路の内壁部よりも撥液性が高くなっている。流路を伝わって吐出口から吐出された塗布液が、各吐出口の形状および大きさに応じた幅および膜厚で、基板上に塗布される。 （もっと読む）

【課題】無端状の素地に均一に成膜することのできる成膜装置、及び成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜装置１は、駆動源により回転するローラー３に無端ベルト５を巻掛し、ローラー３の回転に従わせ無端ベルト５を走行させる走行手段７と、無端ベルト５にスロット２５を近接させたダイ９と、ダイ９のスロット２５に塗布液３９を供給する供給手段１１と、ローラー３の軸方向にダイ９を移動させる移動手段１３とを備える。ダイ９のスロット２５に供給される塗布液３９が無端ベルト５に塗布される過程で、移動手段１３がダイ９をローラー３の軸方向に移動させる。 （もっと読む）

【課題】塗布装置のメンテナンス時間の短縮化を図る。
【解決手段】主剤５１ｅと硬化剤５２ｅを混合して形成した塗布樹脂を塗布するスリットコータ装置４０のメンテナンスにおいて、スリットコータ装置４０の未使用時（樹脂塗布休止状態時）に、主剤５１ｅと硬化剤５２ｅのうちの主剤５１ｅをスリットコータヘッド４２内に充填してヘッド内を１つの樹脂である主剤５１ｅに置換し、その後、液槽５４に収容された主剤５１ｅにスリットコータヘッド４２の先端部を浸す。 （もっと読む）

【課題】気泡を含む液体が基板などの対象物に供給されることを抑制または防止できるスリットノズルおよびこれを備えた基板処理装置を提供すること。
【解決手段】スリットノズル１１は、長手方向Ｘ１に延びるスリット状の吐出口５４が形成された吐出部４５と、吐出口５４に供給される液体が流通する液体流路５５が形成された供給部４３と、液体流路５５を上流側と下流側とに仕切っており、上流側と下流側とを接続する複数の第１接続路６４が形成された第１拡散板４７とを含む。 （もっと読む）

【課題】塗液の脈動による塗膜の膜厚ばらつきを低減させる。
【解決手段】塗液を供給する塗液供給ポンプ２と、基材に塗工するコーティングヘッド７と、塗液供給ポンプ２からコーティングヘッド７までを接続するメイン配管３と、メイン配管３に設けられた間欠塗工に使用できる塗液流路切替えバルブ４とを有した塗工装置１００において、塗液供給ポンプ２から塗液流路切替えバルブ４までの間に、一時的に塗液を蓄えることのできるアキュムレータ５を設け、さらにこのアキュムレータ５のガス空間領域の上端の位置が、コーティングヘッド７の吐出口の位置よりも高い位置となるように、アキュムレータ５を配置することで、配管圧力の経時変化にも耐え、塗液供給ポンプ２から発生する吐出脈動による膜厚ばらつきを低減させる。 （もっと読む）

【課題】塗布装置の塗布操作が周辺装置からの悪影響を受けて塗布液の厚さの均一性が悪化することを回避できる塗布システムを提供する。
【解決手段】本発明の塗布システムは、基板の表面に塗布液を塗布する塗布操作を実行する塗布装置２と、塗布装置２の周辺に設置され、塗布装置２が実行する塗布操作に悪影響を与える振動を発する動作Ａ、Ｃを行う上流側移送ロボット３とを備え、塗布装置２による塗布操作の実行中に上流側移送ロボット３による動作Ａ及びＣの実行を禁止させる。 （もっと読む）

【課題】液膜の幅を安定させることができるスリットノズルおよびこれを備えた基板処理装置を提供すること。
【解決手段】スリットノズル１１は、長手方向Ｘ１に延びるスリット状の吐出口５４が形成された吐出部４５と、吐出口５４の長手方向Ｘ１の両端にそれぞれ配置された一対のガイド部４６とを含む。一対のガイド部４６は、長手方向Ｘ１に間隔を空けて対向する一対のガイド面６６をそれぞれ含む。一対のガイド部４６のそれぞれには、ガイド面６６より凹んだ凹部６８が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 ノズルを十分清浄に洗浄でき、かつ、そのメンテナンスが容易なノズル洗浄装置および該ノズル洗浄装置を備えた塗布装置を提供する。
【解決手段】 洗浄機構６０は、超音波振動子１５を収納するとともに、この超音波振動子１５を冷却するための冷却水１３を貯留する冷却水貯留部１１を備える。また、洗浄機構６０は、冷却水貯留部１１に貯留された冷却水１３中にその下面が浸漬された状態で配設され、その内部に溶液１４を貯留する溶液貯留部１２を備える。スリットノズル４１を溶液１４中に浸漬した状態で超音波振動子１５が超音波振動を発振した場合には、この超音波振動は、冷却水１３および溶液貯留部１２を介して溶液１４に伝達される。 （もっと読む）

【課題】塗布液が乾燥する前に撓みが生じる状態で持ち上げられる操作が行なわれる基板に対して塗布液を塗布する際に、出来上がった塗布膜の厚さ分布の均一性の悪化を抑制できる塗布方法及び塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明の塗布方法は、表面ｆに塗布されたレジスト液ｒが乾燥する前に撓みが生じる状態で持ち上げられる操作が行なわれる基板Ｓに対して塗布液を塗布する塗布方法であって、前記操作で生じ得る基板（Ｓ）の撓みが大きい箇所が小さい箇所に比べてレジスト液ｒの厚さが薄くなるように基板Ｓの表面ｆにレジスト液ｒを塗布する工程を含んでいる。 （もっと読む）