【課題】スリーブの外周面に、高い平滑性を有する均一な厚さのコーティング層を、芯金を用いることなく効率よく形成する。
【解決手段】スリーブを回転させる回転駆動手段と、回転するスリーブの外周面に塗布された一次コーティング層の表面側を掻き取る掻取りブレードとを具える。回転駆動手段は、第１、第２の保持ローラ間上でスリーブを跨らせて回転可能に保持する保持具と、第１の保持ローラとの間でスリーブを挟み込む駆動ローラを有する駆動具とを具える。掻取りブレードの先端は、駆動ローラの中心と第１の保持ローラの中心とを通る第１の基準線上に配される。 （もっと読む）

【課題】 ソルダーレジスト等の液状材料によってノズル詰まり等の不良が発生すると、装置の稼働率が低下する。
【解決手段】 基板に液状材料を吐出させる複数のノズルが設けられたノズルユニットが、基板に対向している。移動機構が、ノズルユニットに対し、基板を面内方向に移動させる。撮像装置が、基板に塗布された液状材料により形成されたパターンを検出する。制御装置が、ノズルユニットに対して基板を移動させながら、基板にノズルユニットから液状材料を吐出させ、基板に付着した液状材料によって検査パターンを形成する。撮像装置で撮像された検査パターンの画像データを取得する。この画像データを解析することによって、ノズルヘッドのノズルの良否を判定する。不良と判定されたノズルからは液状材料を吐出させない制御を行い、良と判定されたノズルから液状材料を吐出させることにより、基板に薄膜パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】液状樹脂の廃棄を少なくして、樹脂膜の形成コストを低減すること。
【解決手段】本発明の樹脂膜形成装置（２）は、ウェーハ（Ｗ）を保持する吸着面（６１）を囲むように環状凸部（６５）が設けられた成膜用テーブル（２２）と、成膜用テーブル（２２）の環状凸部（６５）に当接して、ウェーハ（Ｗ）上方に液密な空間（Ｓ）を形成する塗布部（２３）とを備え、塗布部（２３）には、液密な空間に液状樹脂を供給する供給口（７４）と、ウェーハ（Ｗ）の外周側に対向する位置において液密な空間（Ｓ）内を吸引する吸引溝（７６）とが形成され、成膜用テーブル（２２）と塗布部（２３）とを相対的にスライドさせる構成にした。 （もっと読む）

【課題】ウェブ上の液滴接触角を製造工程のなかで測定する塗布システムを提供する。
【解決手段】塗工部２０でハードコート剤を塗布し、乾燥部３０で熱風乾燥したウェブ１１の搬送中に、その一部を切離部４０により切り離し試験サンプル７１を得る。滴下試験部６０は、滴下装置６１によりこの試験サンプル７１に液滴を滴下し、カメラ６３で液滴を撮影し、液滴６５を撮影した画像から、計測装置６９により液滴６５の接触角７５を算出、計測する。計測装置６９は、計測した接触角７５に応じて、乾燥部３０の乾燥条件を制御するための制御信号を乾燥部３０に出力する。 （もっと読む）

【課題】不良ノズルを確実に検出する液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】基材に向けてノズルから機能液を液滴として吐出する吐出ヘッドと、前記基材に着弾した前記液滴の着弾径を測定する着弾径測定部と、制御部と、を備え、前記制御部では、前記ノズルから基材に向けて吐出された液滴の吐出量と前記基材に着弾した前記吐出量に対応する前記液滴の基準着弾径との関係を示す関係データを取得し、前記ノズルから前記基材に向けて前記関係データに含まれる所定の液滴量を吐出させて、前記基材に着弾した前記液滴の着弾径を測定させ、測定された検査着弾径と前記所定の液滴量に対応する前記基準着弾径とを比較し、前記ノズルの合否を判断する。 （もっと読む）

【課題】基板上に塗布されたインクの乾燥ムラを抑制する。
【解決手段】本発明の一形態に係るインクジェット塗布装置は、第１のヘッド群１２Ａと第２のヘッド群１２Ｂとを有するインクヘッドモジュール１２を備える。第１のヘッド群１２Ａは、基板Ｓの表面全域をＸ軸方向に沿って配列された複数列の領域Ｒ１〜Ｒ６で区画したときに、所定の第１の領域群（Ｒ１，Ｒ３，Ｒ５）にインクの液滴を塗布する。第２のヘッド群１２Ｂは、第１のヘッド群１２Ａに対してＹ軸方向に所定距離（Ｈ）オフセットした位置に配置され、上記複数列の領域のうち残余の第２の領域群（Ｒ２，Ｒ４，Ｒ６）にインクの液滴を塗布する。このとき、第１のヘッド群１２Ａからの液滴が基板Ｓ上に着弾してから、第２のヘッド群１２Ｂからの液滴が基板上に着弾するまでの時間が所定時間以内となるように、基板Ｓを支持するステージ１１の移動が制御される。 （もっと読む）

【課題】装置構成が複雑となることなく基体を拭取る拭取り部材を清浄に保ち、塗膜を効率的に除去すること。
【解決手段】本発明の塗膜除去装置１は、昇降機構２９による基体２５の降下により拭取り装置３６の力点部３８が押下されることにより、溶剤４０に浸漬されている拭取り部材２７を上昇させて、少なくともその一部を液面より露呈させて、該拭取り部材２７を基体２５の下端部および下端部の内外面に接触させる拭取り部材昇降機構４４により該拭取り部材２７が基体２５の下端部および下端部の内外面に接触された状態で、回転機構３０にて拭取り部材２７と基体２５とが相対的に回転されることで塗膜を除去する。 （もっと読む）

【課題】ウエブに塗工液を塗工する前に、皺の発生を防止できる塗工装置を提供する。
【解決手段】ダイ１２と、ダイ１２の搬入側（上流側）に配された拡布装置１４とを有し、拡布装置１４は、ウエブＷを支持するバックアップロール１６と、バックアップロール１６の上面に配され、ウエブＷの両耳部にそれぞれ配され、回転方向がウエブＷの走行方向に対し、下流側ほど外側に向いている左右一対の拡布ロール１８，１８とを有する。 （もっと読む）

【課題】インクジェットヘッドのノズルから塗布液を吐出して塗布液の塗膜を形成しつつ、塗布液の塗膜の表面をより平滑にすることができる塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】インクジェットヘッドに設けられる複数のノズルから塗布液の液滴を基板Ｗに吐出させ、基板Ｗの周縁部における膜厚に比べて基板Ｗの中央部における膜厚が厚い塗布液の塗膜Ｆを形成する工程と、基板Ｗを回転させて基板Ｗの中央部から周縁部に向けて塗膜Ｆ内の塗布液を移動させる工程と、を備える塗布方法である。塗膜Ｆ内の塗布液を移動させる工程では、塗膜Ｆを形成している基板Ｗ上の塗布液は基板Ｗの中央部から周縁部に向かって移動するので、基板の中央部と基板の周縁部との間で塗膜の膜厚の差が減少し、塗膜の膜厚を略均一にすることができる。同時に、塗膜Ｆ内の塗布液が動くことによって、塗膜Ｆの表面をより平滑にすることができる。 （もっと読む）

【課題】基板の上にラインを形成することと共にこれを固形化させる基板処理装置及び基板処理方法が提供される。
【解決手段】本発明の基板処理装置１００は、基板Ｓが載置されるステージ１１００と、インクＩを吐出してステージ１１００に載置された基板Ｓに複数のラインを形成する吐出ユニット１２００と、吐出されたインクＩを固形化させる固形化ユニット１４００と、ステージ１１００を移動させるか、又は吐出ユニット１２００と固形化ユニット１４００を移動させる移送ユニット１５００と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 インクジェット方式によって形成した塗布液の薄膜の膜厚均一性を向上させる。
【解決手段】 塗布液供給機構１２の進行方向前側に溶剤供給機構１８を、進行方向後側に気体噴射機構１４を、それぞれ連結して塗布ヘッド１０が構成されている。塗布ヘッド１０を基板Ｗに対して相対移動させながら、溶剤供給機構１８から基板Ｗ上に溶剤を供給し、続いて塗布液供給機構１２から溶剤の被膜上に塗布液を供給し、最後に、気体噴射機構１４から塗布液の凹凸表面に気体を噴射して溶剤の薄膜表面を平滑化する。 （もっと読む）

【課題】塵ＰおよびレジストＲを基板Ｗの周縁部Ｅから同時に除去する。
【解決手段】基板Ｗの周縁部Ｅに液状の被覆剤Ｃを塗布して、基板Ｗの周縁部Ｅに付着した塵Ｐを液状の被覆剤Ｃによって覆う。そして、基板周縁部Ｅに付着した塵Ｐを覆う被覆剤Ｃを硬化させることで、当該塵Ｐを硬化された被覆剤Ｃの内部に捕捉する。したがって、被覆剤Ｃを基板Ｗの周縁部Ｅから除去することで、基板Ｗの周縁部Ｅから塵Ｐを除去することができる。さらに、基板Ｗの周縁部Ｅに被覆剤Ｃを塗布した後に、基板表面ＷfにフォトレジストＲを塗布するため、基板Ｗの周縁部Ｅでは、フォトレジストＲは被覆剤Ｃの上に塗布される。したがって、基板Ｗの周縁部Ｅから被覆剤Ｃを除去した際には、被覆剤Ｃの上に塗布されたフォトレジストＲも被覆剤Ｃとともに基板Ｗの周縁部Ｅから除去される。こうして、塵ＰおよびフォトレジストＲを基板Ｗの周縁部Ｅから同時に除去できる。 （もっと読む）

【課題】吐出部と対象物の間の離間距離の変動を検査する対象物上の地点が少ない場合でも、吐出タイミングの補正を良好に行うことができる技術を提供すること。
【解決手段】液滴吐出装置は、液滴を吐出する複数の吐出口が形成された吐出部に対して対象物を移動機構によって相対的に移動させ、該吐出部から吐出した前記液滴を前記対象物に着弾させる。液滴吐出装置は、吐出部に対して吐出信号を出力することにより、吐出口からの液滴の吐出を制御する吐出制御部と、対象物上の複数の地点について、対象物の相対的な移動に応じた、吐出部と前記対象物との間の離間距離の変動を検査する検査部と、対象物上の領域のうち、前記複数の地点を除く地点における前記変動を、検査部の検査結果に基づいた演算により補間する補間部と、補間部によって取得された前記変動に関する情報に基づいて、吐出口からの液滴の吐出タイミングを補正する補正部とを備える。 （もっと読む）

【課題】塗液の脈動による塗膜の膜厚ばらつきを低減させる。
【解決手段】塗液を供給する塗液供給ポンプ２と、基材に塗工するコーティングヘッド７と、塗液供給ポンプ２からコーティングヘッド７までを接続するメイン配管３と、メイン配管３に設けられた間欠塗工に使用できる塗液流路切替えバルブ４とを有した塗工装置１００において、塗液供給ポンプ２から塗液流路切替えバルブ４までの間に、一時的に塗液を蓄えることのできるアキュムレータ５を設け、さらにこのアキュムレータ５のガス空間領域の上端の位置が、コーティングヘッド７の吐出口の位置よりも高い位置となるように、アキュムレータ５を配置することで、配管圧力の経時変化にも耐え、塗液供給ポンプ２から発生する吐出脈動による膜厚ばらつきを低減させる。 （もっと読む）

【課題】ガラスペーストの塗布高さを所定の誤差範囲に好適に維持できるペースト塗布装置およびペースト塗布方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ノズル５５ａの始点Ｐｓから始端部１０１Ｓを形成する部分ではノズル高さＮｈを基準塗布高さＳｔｄＨより低くしてノズル５５ａが移動し、ノズル５５ａの終点Ｐｅまでの終端部１０１Ｅを形成する部分では、ノズル高さＮｈを基準塗布高さＳｔｄＨより高くしてノズル５５ａが移動し、始端部１０１Ｓが形成される部分および終端部１０１Ｅが形成される部分以外の部分ではノズル高さＮｈを基準塗布高さＳｔｄＨとしてノズル５５ａが移動し、さらに、始端部１０１Ｓと終端部１０１Ｅの少なくとも一部でガラスペーストＧｐが重なって塗布されるようにノズル５５ａが移動することを特徴とするペースト塗布装置およびペースト塗布方法とする。 （もっと読む）

【課題】塗布対称物の塗布面に塗布される材料の厚みが不均一になることを抑制できる塗布装置を提供する。
【解決手段】塗布装置１０は、アプリケータ５０と、材料供給部８０と、第１〜３の移動機構とを備える。前記アプリケータは、メニスカス柱形成部Ｓと、余剰材料回収用の凹部５２とを備える。前記材料供給部は、前記アプリケータに前記材料を供給する。前記第１の移動機構４０は、前記塗布面に対する前記アプリケータの位置を前記塗布面に沿って相対的に移動する。前記第２の移動機構は、前記メニスカス柱形成部と前記塗布面との間に形成されるメニスカス柱を、前記塗布面と前記凹部との間に移動するように前記塗布面に対する前記アプリケータの位置を相対的に移動する。前記第３の移動機構は、前記塗布面に対する前記アプリケータの位置を離れる方向と近づく方向とに相対的に移動する。 （もっと読む）

【課題】走行するウェブに塗布液を塗布する際に厚塗り部を吸引ノズルで従来よりも効率的に吸引することができるので、吸引圧力を比較的小さくすることができ、走行するウェブがバタつく等の不具合がない。
【解決手段】走行する帯状のウェブ１８に塗布液を塗布する際に、塗布幅方向両端部に形成され、目標塗布膜厚ｄよりも厚い厚塗り部４３を吸引する吸引ノズル１５を備えた塗布装置１０において、吸引ノズル１５の塗布幅方向における吸引面幅Ｄｏ及び吸引口幅Ｄｉは、厚塗り部４３の塗布幅方向の幅をＷ及び高さをＨ、ウェブ１８と吸引面５４との間のクリアランスＬとしたときに、下記の式１及び式２を満足する。
Ｗ≦Ｄｏ…（式１）、Ｗ＊Ｈ／Ｌ≦Ｄｉ＜Ｄｏ−１ｍｍ…（式２） （もっと読む）

【課題】塗布液が乾燥する前に撓みが生じる状態で持ち上げられる操作が行なわれる基板に対して塗布液を塗布する際に、出来上がった塗布膜の厚さ分布の均一性の悪化を抑制できる塗布方法及び塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明の塗布方法は、表面ｆに塗布されたレジスト液ｒが乾燥する前に撓みが生じる状態で持ち上げられる操作が行なわれる基板Ｓに対して塗布液を塗布する塗布方法であって、前記操作で生じ得る基板（Ｓ）の撓みが大きい箇所が小さい箇所に比べてレジスト液ｒの厚さが薄くなるように基板Ｓの表面ｆにレジスト液ｒを塗布する工程を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】塗布液の粘性やぬれ性を制御して膜厚を制御する。
【解決手段】塗布装置１は、基板Ｗを支持するステージ２と、前記ステージに対して相対移動可能であり、前記ステージ上の基板に塗布材料を吐出する材料吐出ノズル７と、前記材料吐出ノズルとともに前記ステージに対して相対移動可能であり、前記ステージ上の基板に気体を噴射する気体噴射ノズル８と、を一体に備える塗布ヘッド４を備えた。 （もっと読む）